电去离子装置的控制方法制造方法及图纸

本发明专利技术的电去离子装置

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】电去离子装置的控制方法


[0001]本专利技术涉及电去离子装置的控制方法
。

技术介绍

[0002]以往，半导体等电子工业领域中使用的超纯水通过由前处理系统
、
一次纯水制造装置以及对一次纯水进行处理的二次纯水制造装置
(
子系统
)
构成的超纯水制造装置对原水进行处理来制造
。
[0003]这种超纯水制造装置中包括的一次纯水制造装置是除了用于超纯水制造装置的领域，还用于医药用
、
食品用等各种领域的通用性高的系统
。
作为一次纯水制造装置的构成，通常由二段结构的反渗透膜
(RO
膜
)
装置以及电去离子装置构成，反渗透膜
(RO
膜
)
装置去除二氧化硅
、
盐类，并且去除离子型
、
胶体型
TOC。
[0004]此处，电去离子装置通常具有：在阴极和阳极之间交替地排列阳离子交换膜和阴离子交换膜来交替地形成脱盐室和浓缩室
、
并且在脱盐室中填充了离子交换树脂的结构，进行各种无机或有机性阴离子以及阳离子的去除
。
[0005]向该电去离子装置的脱盐室供给水时，水中的离子在其电荷的作用下向脱盐室内的阳极
/
阴极中的任意一种离子交换树脂的方向移动
。
移动的离子通过离子交换树脂并进入浓缩室，因此，在脱盐室内制造高度脱盐的纯水
。
另一方面，向浓缩室移动的离子作为浓缩水排出
。
[0006]从稳定制造规定的水质的一次纯水的观点出发，电去离子装置进行将对电去离子装置供水的供给条件设为固定的运用
。
因此，进行以下运用：将通过包括电去离子装置的一次纯水制造装置制造的一次纯水中的需要量供给至二次纯水制造装置的副槽，另一方面，多余生产的一次纯水在一次纯水制造装置内循环利用
。

技术实现思路

[0007]专利技术要解决的问题
[0008]然而，如上所述，在一次纯水制造装置的以往的运用方法中，向电去离子装置等供给需要量以上的供水并处理，因此，在能量效率方面存在改善的余地
。
因此，认为根据一次纯水的需要量来改变电去离子装置的处理量，在电去离子装置的运转中，当瞬间减少对电去离子装置供给的供水的流量时，浓缩水的电导率暂时上升
。
浓缩水的电导率增加时，浓缩室内的离子浓度升高，存在容易产生水垢的问题
。
[0009]本专利技术是鉴于上述问题而完成的，其目的在于，提供一种在减少对电去离子装置供给的供水的流量的情况下也防止电导率的升高，由此抑制水垢产生的电去离子装置的控制方法
。
[0010]用于解决问题的手段
[0011]鉴于上述目的，本专利技术提供一种电去离子装置的控制方法，其为电去离子装置的控制方法，其中，将从所述电去离子装置排出的浓缩水的流量保持恒定，并且阶段性地减少
对所述电去离子装置供给的供水的流量
(
专利技术
1)。
[0012]根据上述专利技术
(
专利技术
1)
，通过将从电去离子装置排出的浓缩水的流量保持恒定，并且阶段性地减少对电去离子装置供给的供水的流量，防止浓缩水的电导率的升高，由此能够抑制水垢的产生
。
[0013]在上述专利技术
(
专利技术
1)
中，在每一阶段减少的所述供水的流量可以为所述电去离子装置中的最大流量的
10
％以下的流量
(
专利技术
2)。
[0014]在上述专利技术
(
专利技术1或
2)
中，阶段性地减少所述供水的流量时的每一阶段的时间可以为1～
10
分钟
(
专利技术
3)。
[0015]在上述专利技术
(
专利技术1～
3)
中，可以通过
PID
控制来阶段性地减少对所述电去离子装置供给的供水的流量
(
专利技术
4)。
[0016]专利技术的效果
[0017]根据本专利技术的物品接收系统，能够提供在减少对电去离子装置供给的供水的流量的情况下也防止电导率的升高，由此抑制水垢产生的电去离子装置的控制方法
。
附图说明
[0018]图1是表示能够应用本专利技术的电去离子装置的控制方法的超纯水制造装置的流程图
。
[0019]图2是表示本专利技术的电去离子装置的控制方法中的电去离子装置的控制结构的概略图
。
[0020]图3是表示本专利技术的电去离子装置的控制方法中使用的电去离子装置的概略图
。
[0021]图4是表示本专利技术的电去离子装置的控制方法中使用的电去离子装置的通水状态的概略图
。
[0022]图5是表示实施例1的电去离子装置的控制结构的概略图
。
[0023]图6是表示实施例1中的从电去离子装置排出的浓缩水的每单位经过时间的电导率
(mS/m)
的变化的图
。
[0024]图7是表示比较例1中的从电去离子装置排出的浓缩水的每单位经过时间的电导率
(mS/m)
的变化的图
。
[0025]图8是表示比较例2中的从电去离子装置排出的浓缩水的每单位经过时间的电导率
(mS/m)
的变化的图
。
[0026]图9是表示比较例3中的从电去离子装置排出的浓缩水的每单位经过时间的电导率
(mS/m)
的变化的图
。
具体实施方式
[0027]以下，参照附图说明本专利技术的电去离子装置的控制方法
。
需要说明的是，为了说明，使用一部分的电去离子装置包括在超纯水制造装置中的图进行说明，但本专利技术中的电去离子装置的控制方法并不限于该超纯水制造装置，能够用于医药
、
食品等各种领域
。
[0028](
电去离子装置
)
[0029]图1是表示能够实施根据本专利技术的一实施方式的电去离子装置1的控制方法的超纯水制造装置
A
的图
。
如图1所示，超纯水制造装置
A
由前处理装置
2、
包括电去离子装置
1(
图
1
中记作
CDI)
的一次纯水制造装置
3、
以及二次纯水制造装置
(
子系统
)4
这样的三段装置构成
。
在这种超纯水制造装置
A
的前处理装置2中，实施基于原水
W
的过滤
、
絮凝沉淀
、
微滤膜等的前处理，主要去除本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种电去离子装置的控制方法，其中，将从所述电去离子装置排出的浓缩水的流量保持恒定，并且阶段性地减少对所述电去离子装置供给的供水的流量
。2.
如权利要求1所述的电去离子装置的控制方法，其中，在每一阶段减少的所述供水的流量为所述电去离子装置中的最大流量的
10
％以下的流量
。3.

【专利技术属性】
技术研发人员：田部井丽奈，港康晴，
申请(专利权)人：栗田工业株式会社，
类型：发明
国别省市：