自动对焦方法、电子设备、投影系统以及存储介质技术方案

技术编号:39407699 阅读:28 留言:0更新日期:2023-11-19 15:59
本申请公开了一种自动对焦方法、电子设备、投影系统以及存储介质,该自动对焦方法包括:获取遮挡前图像序列中对应的第一组样本点以拟合建立第一拟合曲线,以及获取遮挡后图像序列中对应的第二组样本点以拟合建立第二拟合曲线;基于第一拟合曲线,在判定第二组样本点中的一样本点处满足遮挡条件时,采用遮挡后对应的第二拟合曲线作为自动对焦曲线;根据自动对焦曲线,控制马达移动至自动对焦曲线对应的顶点位置以完成自动对焦。本申请通过提供一种自动对焦方法,能够在自动对焦过程中对遮挡前后的拟合曲线之间的差异进行度量,并进入相应的自动对焦处理机制,以免最终对焦结果画面模糊。模糊。模糊。

【技术实现步骤摘要】
自动对焦方法、电子设备、投影系统以及存储介质


[0001]本申请涉及对焦
,特别是涉及一种自动对焦方法以及投影系统。

技术介绍

[0002]目前,在投影系统的自动对焦技术中,采用开环自动对焦技术和闭环自动对焦技术,在开环自动对焦技术中,可以通过找出马达步数

图像清晰度曲线的顶点,然后将马达走到相应位置即完成对焦。
[0003]通常,在投影设备控制马达寻找清晰位置时,由于图像序列采集过程中,清晰位置处往往出现遮挡干扰,比如有人走过或者停留,遮挡到屏幕的1/4区域或者更多位置,对采集的图像进行清晰度分析从而导致控制参数变化,使得投影设备需要重新定位清晰位置,进而使得马达的最终位置偏离原来的清晰位置,导致对焦失败。

技术实现思路

[0004]本申请实施例的第一方面提供了一种自动对焦方法,该自动对焦方法包括:获取遮挡前图像序列中对应的第一组样本点以拟合建立第一拟合曲线,以及获取遮挡后图像序列中对应的第二组样本点以拟合建立第二拟合曲线;基于第一拟合曲线,在判定第二组样本点中的一样本点处满足遮挡条件时,采用本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种自动对焦方法,其特征在于,所述自动对焦方法包括:获取遮挡前图像序列中对应的第一组样本点以拟合建立第一拟合曲线,以及获取遮挡后图像序列中对应的第二组样本点以拟合建立第二拟合曲线;基于所述第一拟合曲线,在判定所述第二组样本点中的一样本点处满足遮挡条件时,采用遮挡后对应的所述第二拟合曲线作为自动对焦曲线;根据所述自动对焦曲线,控制马达移动至所述自动对焦曲线对应的顶点位置以完成自动对焦。2.根据权利要求1所述的自动对焦方法,其特征在于,所述自动对焦曲线至少包括所述第二组样本点与其拟合的拟合曲线的偏差最小时对应的拟合曲线,或多组样本点各自拟合的多条拟合曲线均包含对应的峰值中,曲线峰值最高对应的拟合曲线。3.根据权利要求1所述的自动对焦方法,其特征在于,所述基于所述第一拟合曲线,在判定所述第二组样本点中的一样本点处满足遮挡条件时,采用遮挡后对应的所述第二拟合曲线作为自动对焦曲线之前,所述自动对焦方法还包括:获取所述第二组样本点中的多个样本点到所述第二拟合曲线的多个第一距离,所述第一距离是所述样本点到所述第二拟合曲线的垂足之间的直线距离;计算多个所述第一距离的和,或计算多个所述第一距离的均值。4.根据权利要求2所述的自动对焦方法,其特征在于,在所述基于所述第一拟合曲线,在判定所述第二组样本点中的一样本点处满足遮挡条件时,采用遮挡后对应的所述第二拟合曲线作为自动对焦曲线之前,所述自动对焦方法还包括:获取所述第二组样本点中的多个所述样本点到在所述第二拟合曲线的多个第二距离,所述第二距离是所述样本点到所述第二拟合曲线的竖直距离;计算多个所述第二距离的和、计算多个所述第二距离的绝对值之和的均值或者计算多个所述第二距离的平方的和或平方的均值。5.根据权利要求4所述的自动对焦方法,其特征在于,所述基于所述第一拟合曲线,在判定所述第二组样本点中的一样本点处满足遮挡条件时,采用遮挡后对应的所述第二拟合曲线作为自动对焦曲线,包括:从多个所述第二距离中获取极大值与极小值,计算所述极大值与所述极小值的差值;判断所述第二距离与所述差值的商是否大于第一预设阈值;若是,则确定所述样本点处满足遮挡条件,以选用对焦失败机制,采用遮挡后对应的所述第二拟合曲线作为所述自动对焦曲线。6.根据权利要求5所述的自动对焦方法,其特征在于,所述对焦失败机制还包括:在显示屏幕上弹出提示窗口,所述提示窗口用于显示提示信息,所述提示信息至少包括重新对焦的提示...

【专利技术属性】
技术研发人员:郭俊佳弓殷强高飞李屹
申请(专利权)人:深圳光峰科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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