基于抗制造技术

本发明专利技术公开了基于抗

【技术实现步骤摘要】
基于抗SRM隐写分析的空域图像隐写方法


[0001]本专利技术涉及密码学信息隐藏
，具体涉及基于抗
SRM
隐写分析的空域图像隐写方法
。

技术介绍

[0002]内容自适应隐写是目前空域图像隐写中的主流算法，该框架分为2个部分：编码嵌入和失真代价计算设计，随着双层校验格码
(syndrometelliscodes
，
STCs)
的提出，因其嵌入效率能够达到理论上界，成为目前隐写算法中最为常用的编码嵌入方式，失真代价的定义即成为了自适应隐写算法设计的核心部分，基于最小化失真代价框架设计的自适应空域隐写算法中，具有代表性的算法有
HUGO
，
WOW
，
S
‑
UNIWARD
和
HILL
；
[0003]除了基于最小化失真代价框架，研究者们还提出了一些基于模型驱动框架的隐写算法，如
MiPod
，
MG
，
MVGG
和
MGR
等，上述隐写算法的失真代价都是加性的，然而，由于数字图像的强冗余性，研究者们考虑到图像相邻像素间的相关性，提出了一些非加性的空域图像隐写算法，这些算法通常具有更高的抗隐写分析安全性，如
CMD
，
NMF
和
Dejoin
；
[0004]除此之外，一些空域隐写算法考虑通过后处理操作提高现有的隐写算法，如早期提出的
OutGuess
，以及近期提出的
CMD
，
BBC
和
SPP。
[0005]现有技术存在以下不足：
[0006]但由于隐写操作必定会在图像残差中引入可检测的伪影，且作为隐写术的逆向技术，目前大部分隐写分析方案均是基于空间域的图像残差分析设计的，均没有特别考虑到隐写术的抗隐写分析的性能，且随着隐写算法的复杂度越来越高，隐写操作的时间成本也随之增加，大大降低了隐写术的实用性
。

技术实现思路

[0007]本专利技术的目的是提供基于抗
SRM
隐写分析的空域图像隐写方法，在较小的时间成本内，很好的减少数据隐藏留下的伪影，减小隐写图像与原图的残差距离，提高隐写图像抗
SRM
攻击的能力，以解决
技术介绍
中不足
。
[0008]为了实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：基于抗
SRM
隐写分析的空域图像隐写方法，所述隐写方法包括以下步骤：
[0009]S1
：对隐写图像的修改像素进行残差预测及矫正，缩小覆盖图像和隐写图像间伪影；
[0010]S2
：构造的高维预测滤波器，以多维度的抑制图像内容预测图像残差，基于空域富模型隐写分析提供空域图像残差的特征集；
[0011]S3
：根据隐写方案使用的双层校验格码嵌入编码规则，选取具有鲁棒性的隐写像素修改方式，保证残差校正后密文信息的正确提取
。
[0012]优选的，所述隐写图像基于隐写算法实现，隐写算法的运算逻辑为：
[0013]a、
初始化
T
，令
T
＝
S
，当
i∈{1,
…
,n1},j∈{1,
…
,n2}
时，令
β
(
α
)
＝22
·
sign(C(i,
j)
‑
S(i,j))
·
α
(
α
＝
‑
1\0\1)
；
[0014]b、
若
C(i,j)
‑
S(i,j)
＝0或者
T(i,j)+
β
＜0或者
T(i,j)+
β
＞
255
，继续处理下一个单元，否则
T
i,j
(
α
)
＝
S
i,j
+
β
(
α
)
；
[0015]c、
令
Res(C
i,j
)
＝
convn(C,F)、Res(T
i,j
(
α
))
＝
convn(T,F)
，计算
[0016]Dist
CT
(
α
)
＝
|Res(T
i,j
(
α
))
‑
Res(C
i,j
)|
，取
min(Dist
CT
(
α
))
，将
S
i,j
的值矫正为
T
i,j
(
α
)
，继续处理下一个单元；
[0017]迭代步骤
a、b、c
直至遍历所有像素，结束，输出最终的隐写图像
Z
；
[0018]其中，
C、S、T、Z
均为
n1×
n2，
F
为提出的高维卷积预测滤波器，用于当前像素的预测，
α
为矫正点，取值为0或
1。
[0019]优选的，基于
SRM
预测器分别计算
C
和
T
的残差
Res(C
i,j
)
和
Res(T
i,j
(
α
))
，以及
T
到
C
的残差距离
Dist
CT
(
α
)
，计算表达式为：
[0020][0021]a(x
11
,x
12
,
…
,x
1n
)
和
b(x
21
,x
22
,
…
,x
2n
)
为
n
维空间内两点，最后取
min(Dist
CT
(
α
))
，并更新
S
ij
。
[0022]优选的，所述高维预测滤波器为5×5×3滤波器，由3个滤波器构成
。
[0023]在上述技术方案中，本专利技术提供的技术效果和优点：
[0024]1、
本专利技术可以在较小的时间成本内，很好的减少数据隐藏留下的伪影，减小隐写图像与原图的残差距离，提高隐写图像抗
SRM
攻击的能本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
基于抗
SRM
隐写分析的空域图像隐写方法，其特征在于：所述隐写方法包括以下步骤：
S1
：对隐写图像的修改像素进行残差预测及矫正，缩小覆盖图像和隐写图像间伪影；
S2
：构造的高维预测滤波器，以多维度的抑制图像内容预测图像残差，基于空域富模型隐写分析提供空域图像残差的特征集；
S3
：根据隐写方案使用的双层校验格码嵌入编码规则，选取具有鲁棒性的隐写像素修改方式，保证残差校正后密文信息的正确提取
。2.
根据权利要求1所述的基于抗
SRM
隐写分析的空域图像隐写方法，其特征在于：所述隐写图像基于隐写算法实现，隐写算法的运算逻辑为：
a、
初始化
T
，令
T
＝
S
，当
i∈{1,
…
,n1},j∈{1,
…
,n2}
时，令
β
(
α
)
＝22
·
sign(C(i,j)
‑
S(i,j))
·
α
(
α
＝
‑
1\0\1)
；
b、
若
C(i,j)
‑
S(i,j)
＝0或者
T(i,j)+
β
＜0或者
T(i,j)+
β
＞
255
，继续处理下一个单元，否则
T
i,j
(
α
)
＝
S
i,j
+
β
(
α
)
；
c、
令
Res(C
i,j
)
＝
convn(C,F)、Res(T
i,j
(
α
))
＝
convn(T,F)
，计算
Dist
CT
(
α
)
＝<...

【专利技术属性】
技术研发人员：闵卫东，刘倩，韩清，查铖，
申请(专利权)人：南昌大学，
类型：发明
国别省市：