一种烧瓶水浴稳定装置制造方法及图纸

一种烧瓶水浴稳定装置，包括套设于烧瓶瓶颈上的配重环，配重环用于对烧瓶施加作用力，使烧瓶沉底，配重环的孔径大于烧瓶瓶颈的直径，小于烧瓶圆形瓶身的直径。本实用新型专利技术提供一种烧瓶水浴稳定装置，通过配重环来使烧瓶沉底，防止其在水浴过程中由于盛放质量过少而漂浮于水浴锅内，提升了容器的稳定性及水浴效率。本装置可适用于圆底烧瓶、平底烧瓶、锥形瓶等容器。等容器。等容器。

【技术实现步骤摘要】
一种烧瓶水浴稳定装置


[0001]本技术涉及水浴加热
，特别是一种烧瓶水浴稳定装置。

技术介绍

[0002]当水浴的待加热液体较少时，容器会在水浴锅内漂浮起来，如图1所示，造成容器不稳，存在翻覆的风险，同时水浴加热效率降低，尤其是重心较高的烧瓶、锥形瓶等容器，在漂浮状态下更为不稳。

技术实现思路

[0003]本技术所要解决的技术问题是提供一种烧瓶水浴稳定装置，使烧瓶盛放较少物料时能够沉底、不漂浮。
[0004]为解决上述技术问题，本技术所采用的技术方案是：一种烧瓶水浴稳定装置，包括套设于烧瓶瓶颈上的配重环，配重环用于对烧瓶施加作用力，使烧瓶沉底，配重环的孔径大于烧瓶瓶颈的直径，小于烧瓶圆形瓶身的直径。
[0005]优选的，所述配重环包括金属环以及包覆于金属环外部的保护层。
[0006]优选的，所述金属环为铅环，所述保护层为橡胶层。
[0007]优选的，所述配重环的四周固定设有水平的连接杆，在连接杆的端部竖直的螺纹连接有螺杆，螺杆的下端设有支撑底座。
[0008]优选的，所述螺杆的上端固定设有旋钮。
[0009]本技术提供一种烧瓶水浴稳定装置，通过配重环来使烧瓶沉底，防止其在水浴过程中由于盛放质量过少而漂浮于水浴锅内，提升了容器的稳定性及水浴效率。本装置可适用于圆底烧瓶、平底烧瓶、锥形瓶等容器。
附图说明
[0010]下面结合附图和实施例对本技术作进一步说明：
[0011]图1为现有技术的结构示意图；
[0012]图2为本技术的结构示意图；
[0013]图3为本技术配重环的切面示意图；
[0014]图4为本技术使用时的结构示意图；
[0015]图5为本技术另一实施例的结构示意图；
[0016]图6为本技术另一实施例使用时的结构示意图。
具体实施方式
[0017]实施例一，如图1所示，一种烧瓶水浴稳定装置，包括套设于烧瓶瓶颈上的配重环1，配重环1用于对烧瓶施加作用力，使烧瓶沉底，配重环1的孔径大于烧瓶瓶颈的直径，小于烧瓶圆形瓶身的直径。
[0018]优选的，如图2所示，所述配重环1包括金属环1
‑
1以及包覆于金属环1
‑
1外部的保护层1
‑
2。
[0019]优选的，所述金属环1
‑
1为铅环，所述保护层1
‑
2为橡胶层或塑料层。
[0020]使用时，如图3所示，将配重块1套设于烧瓶瓶颈上，烧瓶便能迅速沉底，不在漂移。
[0021]实施例二，如图4所示，一种烧瓶水浴稳定装置，包括套设于烧瓶瓶颈上的配重环1，配重环1用于对烧瓶施加作用力，使烧瓶沉底，配重环1的孔径大于烧瓶瓶颈的直径，小于烧瓶圆形瓶身的直径。
[0022]优选的，所述配重环1包括金属环1
‑
1以及包覆于金属环1
‑
1外部的保护层1
‑
2。
[0023]优选的，所述金属环1
‑
1为铅环，所述保护层1
‑
2为橡胶层。
[0024]优选的，所述配重环1的四周固定设有水平的连接杆2，在连接杆2的端部竖直的螺纹连接有螺杆3，螺杆3的下端设有支撑底座4。
[0025]优选的，所述螺杆3的上端固定设有旋钮5。
[0026]使用时，如图5所示，先将配重环1套设于烧瓶的瓶颈上，然后旋转螺杆3，使制成底座与水浴锅的内的多孔板6相接触，使得配重环1向下的重力作用于螺杆上，从而使得配重环1不会在水浴锅内随便移动，起到了对配重环1进行定位的作用。进一步的提升了容器的稳定性。
[0027]上述的实施例仅为本技术的优选技术方案，而不应视为对于本技术的限制，本技术的保护范围应以权利要求记载的技术方案，包括权利要求记载的技术方案中技术特征的等同替换方案为保护范围。即在此范围内的等同替换改进，也在本技术的保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种烧瓶水浴稳定装置，其特征在于：包括套设于烧瓶瓶颈上的配重环（1），配重环（1）用于对烧瓶施加作用力，使烧瓶沉底，配重环（1）的孔径大于烧瓶瓶颈的直径，小于烧瓶圆形瓶身的直径。2.根据权利要求1所述一种烧瓶水浴稳定装置，其特征在于：所述配重环（1）包括金属环（1
‑
1）以及包覆于金属环（1
‑
1）外部的保护层（1
‑
2）。3.根据权利要求2所述一种烧瓶水浴稳定装置，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：鲁东安，
申请(专利权)人：宜昌尚诺德生物医药科技有限公司，
类型：新型
国别省市：