一种煎烤机制造技术

技术编号:39353575 阅读:5 留言:0更新日期:2023-11-18 11:02
本实用新型专利技术涉及烹饪器具领域,具体涉及一种煎烤机。它包括下盖、活动设置在下盖上的上盖,上盖相对下盖可转动以使上盖具有打开位置、闭合位置,上盖上设有上烤盘,下盖上设有下烤盘,上盖处于闭合位置时上烤盘与下烤盘之间形成烹饪腔,上烤盘的内表面中间部位的高度大于边缘部位的高度,以使上烤盘的内表面形成上凸的曲面,上盖处于闭合位置时上烤盘与下烤盘之间的间距大于下烤盘的深度。本实用新型专利技术对上烤盘的结构进行改进设计,将上烤盘的内表面做上凸处理,增加烹饪腔的空间,提高烤盘的实际深度,在闭合状态下适配更大、厚度的食材,而且不会整机结构简单,不会导致尺寸更大。此外,上凸结构使得烹饪腔内的水蒸气不易流失,更能锁住水分。住水分。住水分。

【技术实现步骤摘要】
一种煎烤机


[0001]本技术涉及烹饪器具领域,具体涉及一种煎烤机。

技术介绍

[0002]类似电烤盘、煎烤机等煎烤设备,其基本结构通常包括底座、上盖,上盖相对底座可转动以使上盖具有打开位置、闭合位置,上盖上设有上烤盘,底座上设有下烤盘,上盖处于闭合位置时上烤盘与下烤盘之间形成烹饪腔,食材放入烹饪腔中并由上烤盘和下烤盘夹住进行双面煎烤。
[0003]由于上烤盘的内表面常表现为下凸结构,比如中国专利授权公告号CN209031974U、名称为“煎烤机及其烤盘组件”;中国专利授权公告号CN216020576U、名称为“一种煎烤机”;中国专利授权公告号CN209032006U、名称为“煎烤机及烹饪组件”;中国专利授权公告号CN214284607U、名称为“上盖组件和煎烤机”等专利中均公开了类似机构的上烤盘,但是此类煎烤机闭合后实际的烤盘深度小于下烤盘深度,从而无法煎烤较大、较厚的食材。通常以加深下烤盘深度为主,以解决闭合后烤盘深度过浅的问题,但也增加了整机的尺寸,增加了烤盘、外壳的用料成本。
[0004]鉴于烹饪腔的空间有限,无法煎烤较大、较厚的食材,一些专利中也从其他方面对烹饪腔的空间做了改进,如中国专利授权公告号CN215383298U、名称为“一种烹饪空间可调的煎烤机”的专利中,它公开了一种煎烤机,利用升降机构和弹性件配合来调整烹饪腔的空间,又如中国专利申请公开号CN114680662U、名称为“煎烤机”的专利中,它公开了一种煎烤机,在上盖上设置了多层视窗与透光隔热腔,而且上盖上没有设置上烤盘。
>[0005]但以上改进使得煎烤机的整机结构更复杂,尺寸更大,难以有效地解决烹饪腔的空间有限的不足。

技术实现思路

[0006]针对现有煎烤机为了提高烤盘深度导致整机结构更复杂,尺寸更大的不足,本技术的目的在于提供一种煎烤机,对上烤盘的结构进行改进设计,将上烤盘的内表面做上凸处理,增加烹饪腔的空间,提高烤盘的实际深度,在闭合状态下适配更大、厚度的食材,而且不会整机结构简单,不会导致尺寸更大。此外,上凸结构使得烹饪腔内的水蒸气不易流失,更能锁住水分。
[0007]为实现上述目的,本技术提供了如下技术方案:一种煎烤机,包括下盖、活动设置在下盖上的上盖,上盖相对下盖可转动以使上盖具有打开位置、闭合位置,上盖上设有上烤盘,下盖上设有下烤盘,上盖处于闭合位置时上烤盘与下烤盘之间形成烹饪腔,所述上烤盘的内表面中间部位的高度大于边缘部位的高度,以使上烤盘的内表面形成上凸的曲面,上盖处于闭合位置时上烤盘与下烤盘之间的间距大于下烤盘的深度。
[0008]本技术方案中,将上烤盘的内表面做上凸处理,这样在上烤盘的内侧形成凹腔,上盖闭合后,凹腔作为烹饪腔的一部分增加了烹饪腔的空间,增加了上烤盘与下烤盘之间的
间距,使其大于下烤盘的深度,上盖闭合后烤盘的实际深度增加而不是减小,从而能煎烤厚度更大、体积更大的食材,此外上凸结构使得上烤盘的边缘部位起到挡水筋的作用,烹饪腔内的水蒸气上升后不能直接向外流失,而是需要进行向下折返,路径变长,从而起到一定的锁水作用,保证食材的口感。
[0009]本技术还进一步设置为:所述上烤盘的内表面在中间部位为平面,上烤盘的内表面在边缘部位向下延伸。通过本设置,上烤盘中间部位为横向延伸的平面,边缘部位为竖向延伸的环形面,这样平面作为上烤盘的煎烤区域,相当于抬高了上烤盘煎烤区域的高度,从而加深整个烤盘的深度。
[0010]本技术还进一步设置为:所述上烤盘的内表面为从中间部位到边缘部位高度逐渐减小的光滑曲面。通过本设置,上烤盘的内表面设计为平滑的曲面,而非平面,而且中间高,边缘低,在增加烤盘实际深度的同时,这使得煎烤过程中上烤盘上的冷凝水在重力的作用下能顺着弧面向上烤盘的边缘排走,防止直接向下滴落在食材上,进而影响口感。
[0011]本技术还进一步设置为:所述下烤盘的深度大于上烤盘的深度。通过本设置,下烤盘是烹饪腔的主体部分,上烤盘的凹腔起到辅助增加烹饪腔空间的作用,因此上烤盘的深度不宜过深,过深的上烤盘会削减上盖的强度,而且不方便对食材进行翻面等操作。
[0012]本技术还进一步设置为:所述下烤盘的深度为15mm至50mm,上烤盘的深度为1mm到30mm。通过本设置,下烤盘深度优选20mm至35mm,上烤盘深度优选5mm至10mm,在此范围内,可保证下烤盘的深度大于上烤盘的深度,而且适用于市面上大多数食材的煎烤,也便于食材进行翻面等操作。
[0013]本技术还进一步设置为:所述上烤盘边缘部位的下端面不高于下烤盘的上端面。通过本设置,水蒸气沿着上烤盘内表面流动时,首先经过边缘部位的向下折返,又向上折返从下烤盘的上端逸散出去,进一步增加流动路径,提高锁水效果和食材口感。
[0014]本技术还进一步设置为:所述下烤盘的侧壁由下至上竖向延伸或所述下烤盘的侧壁由下至上逐渐向外倾斜。通过本设置,下烤盘的侧壁为直壁或者斜壁,实际设计时,以斜壁为最佳,这样可以避免上盖开合时,上烤盘与下烤盘产生干涉的几率,同时斜壁对水蒸气具有导向作用,方便水蒸气的排出。
[0015]本技术还进一步设置为:所述上盖的一端设有转轴,下盖上设有轴孔,转轴转动设置在轴孔中。通过本设置,转轴和轴孔配合实现上盖的转动动作,从而实现上盖的转动打开或转动闭合。
[0016]本技术还进一步设置为:所述上盖的一端设有转轴,下盖上设有竖向延伸的条形孔,转轴转动设置在条形孔中且转轴可在条形孔中上下移动。通过本设置,煎烤机需要适配不同厚度的食材,因此需要通过上烤盘的悬浮结构来达到此效果,具体为上烤盘的转轴在条形孔中留有向上抬升的余量,使上烤盘能在垂直方向上小范围移动,烤盘的深度随之变化,而适配不同厚度的食材。
[0017]本技术的优点是:1)上烤盘的内表面做上凸处理,以在上烤盘的内侧形成凹腔,上盖闭合后,凹腔作为烹饪腔的一部分增加了烹饪腔的空间,增加了上烤盘与下烤盘之间的间距,使其大于下烤盘的深度,从而能煎烤厚度更大、体积更大的食材。2)上凸结构使得上烤盘的边缘部位起到挡水筋的作用,烹饪腔内的水蒸气上升后不能直接向外流失,而是需要进行向下折返,路径变长,从而起到一定的锁水作用,保证食材的口感。
附图说明
[0018]图1为本技术一个实施例中煎烤机的结构示意图;
[0019]图2为本技术一个实施例中煎烤机的剖视图;
[0020]图3为本技术一个实施例中煎烤机的剖视图;
[0021]图4为本技术一个实施例中煎烤机的剖视图;
[0022]图5为本技术一个实施例中煎烤机的剖视图;
[0023]图6为图5中A处的放大图。
[0024]附图标记:下盖100、下烤盘101、斜壁102、条形孔103、上盖200、上烤盘201、平面202、环形面203、曲面204、凸筋205、转轴206、烹饪腔300、凹腔301。
具体实施方式
[0025]在本实施例的描本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种煎烤机,包括下盖、活动设置在下盖上的上盖,上盖相对下盖可转动以使上盖具有打开位置、闭合位置,上盖上设有上烤盘,下盖上设有下烤盘,上盖处于闭合位置时上烤盘与下烤盘之间形成烹饪腔,其特征在于:所述上烤盘的内表面中间部位的高度大于边缘部位的高度,以使上烤盘的内表面形成上凸的曲面,上盖处于闭合位置时上烤盘与下烤盘之间的间距大于下烤盘的深度。2.根据权利要求1所述的一种煎烤机,其特征在于:所述上烤盘的内表面在中间部位为平面,上烤盘的内表面在边缘部位向下延伸。3.根据权利要求1所述的一种煎烤机,其特征在于:所述上烤盘的内表面为从中间部位到边缘部位高度逐渐减小的光滑曲面。4.根据权利要求1或2或3所述的一种煎烤机,其特征在于:所述下烤盘的深度大于上烤盘的深度。5.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员:朱泽春万军陈炯辉
申请(专利权)人:九阳股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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