本申请公开了一种电弧检测方法、装置、等离子电源及存储介质，涉及电弧检测技术领域，该方法包括：获取等离子电源的运行工况；基于所述运行工况，调节预设的电弧检测参数的阈值，其中，所述电弧检测参数包括敏感度参数、电压阈值以及电流阈值中的至少一项；根据预选择的电弧检测方式和所述阈值，对所述电弧进行检测。在本申请中，在等离子电源对工件镀膜时，根据等离子电源的工况，实时调节电弧检测参数的阈值，以提高电弧检测的准确度，避免电弧的误检或漏检，进而防止镀膜时存在电弧，提高工件的镀膜质量。的镀膜质量。的镀膜质量。
【技术实现步骤摘要】
电弧检测方法、装置、等离子电源及存储介质
[0001]本申请涉及电弧检测
，尤其涉及一种电弧检测方法、装置、等离子电源及存储介质。
技术介绍
[0002]为了提高工件的某一特性，常在工件加工完成后，对工件进行镀膜。通常对工件镀膜常使用等离子镀膜，使等离子电源将电离产生阴极离子溅射到工件表面，以使工件表面沉积出高密度，且均匀的薄膜。
[0003]在使用等离子电源对工件进行镀膜时，会使气体放电产生电弧，影响工件镀膜的质量，为保证工件镀膜的质量，需要在镀膜时，实时监测是否有电弧产生。目前，在对电弧监测时，常使用设定的电弧的阈值，监测镀膜时是否产生电弧。但是，在对工件进行镀膜时，等离子电源实际输出的频率与脉冲占空比是变化的，使用电弧的预设阈值检测是否产生电弧，会造成电弧误检或漏检，导致工件的镀膜质量下降。
技术实现思路
[0004]本申请的主要目的在于提供一种电弧检测方法、装置、等离子电源及存储介质，旨在解决现有技术中对电弧监测时使用电弧的预设阈值检测是否产生电弧，会造成电弧误检或漏检，导致工件的镀膜质量下降的技术问题。
[0005]为实现上述目的，本申请提供一种电弧检测方法，所述电弧检测方法包括：
[0006]获取等离子电源的运行工况；
[0007]基于所述运行工况，调节预设的电弧检测参数的阈值，其中，所述电弧检测参数包括敏感度参数、电压阈值以及电流阈值中的至少一项；
[0008]根据预选择的电弧检测方式和所述阈值，对所述电弧进行检测。
[0009]可选地，所述获取等离子电源的运行工况的步骤，包括：
[0010]获取等离子电源的工作参数，其中，所述工作参数包括等离子电源当前的功率、当前工作频率以及相应脉冲占比；
[0011]获取所述等离子电源的负载阻值；
[0012]基于所述工作参数和所述负载阻值，确定所述运行工况；
[0013]基于所述工作参数和所述负载阻值，确定所述运行工况。
[0014]可选地，所述基于所述运行工况，调节预设的电弧检测参数的阈值的步骤之前，所述方法还包括：
[0015]基于历史记录的电压有效值和/或者电流有效值，分别对应拟合得到电压瞬时值曲线和/或者电路瞬时值曲线。
[0016]可选地，所述基于所述运行工况，调节预设的电弧检测参数的阈值的步骤，包括：
[0017]基于所述运行工况，从所述电压瞬时值曲线和/或者所述电路瞬时值曲线中，确定参考电压；
[0018]基于所述参考电压，调节预设的电弧检测参数的阈值。
[0019]可选地，所述电弧检测方式包括单一方式，所述单一方式为电压电流检测方式、瞬态电压检测方式与电压有效值检测方式中的一种；
[0020]所述根据预选择的电弧检测方式和所述阈值，对所述电弧进行检测的步骤，还包括：
[0021]若预选择单一方式对所述电弧进行检测，则获取与所述预选择单一方式对应的阈值，对所述电弧进行检测；
[0022]其中，所述单一方式的选择是基于所述等离子电源的理论频率与预设的频率阈值的比对结果，或者基于所述等离子电源的占空比与预设的占空比阈值的比对结果选择的。
[0023]可选地，所述电弧检测方式包括联合方式，所述联合方式包括电压电流检测方式、瞬态电压检测方式与电压有效值检测方式中的至少两种；
[0024]所述根据预选择的电弧检测方式和所述阈值，对所述电弧进行检测的步骤，包括：
[0025]若预选择联合方式对所述电弧进行检测，则获取所述等离子电源的实际输出电压和实际输出电流；
[0026]其中，联合方式包括电压电流检测方式、瞬态电压检测方式与电压有效值检测方式中的至少两种；
[0027]基于所述联合方式，分别将所述实际输出电压和/或者所述实际输出电流，与对应的电压阈值和/或者电流阈值进行对比；
[0028]基于所述比对结果确定所述电弧的发生时刻。
[0029]本申请还提供一种电弧检测装置，电弧检测装置包括：
[0030]获取模块，用于获取等离子电源的运行工况；
[0031]调节模块，用于基于所述运行工况，调节预设的电弧检测参数的阈值，其中，所述电弧检测参数包括敏感度参数、电压阈值以及电流阈值中的至少一项；
[0032]检测模块，用于根据预选择的电弧检测方式和所述阈值，对所述电弧进行检测。
[0033]本申请还提供一种等离子电源，所述等离子电源包括：
[0034]电弧检测装置；
[0035]控制装置，所述控制装置与所述电弧检测装置电性连接，所述控制装置用于控制所述电弧检测装置实现如权利要求1所述的电弧检测方法。
[0036]可选的，所述控制装置还用于产生电弧后，基于所述电弧检测方式可识别的电弧的类型，从预设灭弧方式中选择目标灭弧方式对所述电弧进行灭弧处理。
[0037]本申请还提供一种存储介质，存储介质上存储有实现上述电弧检测方法的程序，电弧检测方法的程序被处理器执行时实现如上述的电弧检测方法的步骤。
[0038]本申请提供一种电弧检测方法、装置、等离子电源及存储介质，与现有技术中对电弧监测时，使用电弧的预设阈值检测是否产生电弧，会造成电弧误检或漏检，导致工件的镀膜质量下降相比，在本申请中，获取等离子电源的运行工况；基于所述运行工况，调节预设的电弧检测参数的阈值，其中，所述电弧检测参数包括敏感度参数、电压阈值以及电流阈值中的至少一项；根据预选择的电弧检测方式和所述阈值，对所述电弧进行检测。在本申请中，获取等离子电源的运行工况，根据运行工况，在对工件镀膜时，实时调节电弧检测参数，也即，实时调节敏感度参数、电压阈值和/或者电流阈值，使检测电弧用的阈值更符合等离
子电源的运行工况，并通过调节后的阈值，检测是否有电弧发生，可以防止电弧误检或漏检，即在本申请中，在等离子电源对工件镀膜时，根据等离子电源的工况，实时调节电弧检测参数的阈值，以提高电弧检测的准确度，避免电弧的误检或漏检，进而防止镀膜时存在电弧，提高工件的镀膜质量。
附图说明
[0039]此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本申请的实施例，并与说明书一起用于解释本申请的原理。
[0040]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
[0041]图1为本申请电弧检测方法第一实施例的流程示意图；
[0042]图2为本申请电弧检测方法中自适应电弧检测策略流程示意图；
[0043]图3为本申请实施例方案涉及的硬件运行环境的设备机构示意图；
[0044]图4为本申请电弧检测方法中电弧检测参数自适应修正示意图；
[0045]图5为本申请电弧检测方法第二实施例的流程示意图；
[0046]图6为本申请电弧检测方法本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种电弧检测方法，其特征在于，应用于终端设备，所述电弧检测方法，包括：获取等离子电源的运行工况；基于所述运行工况，调节预设的电弧检测参数的阈值，其中，所述电弧检测参数包括敏感度参数、电压阈值以及电流阈值中的至少一项；根据预选择的电弧检测方式和所述阈值，对所述电弧进行检测。2.如权利要求1所述的电弧检测方法，其特征在于，所述获取等离子电源的运行工况的步骤，包括：获取等离子电源的工作参数，其中，所述工作参数包括等离子电源当前的功率、当前工作频率以及相应脉冲占比；获取所述等离子电源的负载阻值；基于所述工作参数和所述负载阻值，确定所述运行工况。3.如权利要求1所述的电弧检测方法，其特征在于，所述基于所述运行工况，调节预设的电弧检测参数的阈值的步骤之前，所述方法还包括：基于历史记录的电压有效值和/或者电流有效值，分别对应拟合得到电压瞬时值曲线和/或者电路瞬时值曲线。4.如权利要求3所述的电弧检测方法，其特征在于，所述基于所述运行工况，调节预设的电弧检测参数的阈值的步骤，包括：基于所述运行工况，从所述电压瞬时值曲线和/或者所述电路瞬时值曲线中，确定参考电压；基于所述参考电压，调节预设的电弧检测参数的阈值。5.如权利要求1所述的电弧检测方法，其特征在于，所述电弧检测方式包括单一方式，所述单一方式为电压电流检测方式、瞬态电压检测方式与电压有效值检测方式中的一种；所述根据预选择的电弧检测方式和所述阈值，对所述电弧进行检测的步骤，还包括：若预选择单一方式对所述电弧进行检测，则获取与所述预选择单一方式对应的阈值，对所述电弧进行检测；其中，所述单一方式的选择是基于所述等离子电源的理论频率与预设的频率阈值的...
【专利技术属性】
技术研发人员：邓双喜，王宁，龙文浩，
申请(专利权)人：苏州汇川控制技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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