具有多门可进入性的低温室制造技术

本发明专利技术描述了一种环境控制室设备，该环境控制室设备包括真空室、控制器和至少一个门。在一个实施方案中，在顶面、四个或更多个侧面以及底面处限定该真空室。该至少一个门被连接至该四个或更多个侧面中的相应的侧面。该四个或更多个侧面包括至少一个开口，并且该至少一个门被配置为密封该至少一个开口。该控制器被配置为控制该真空室内的压力和温度。该压力可以为真空压力，并且该温度可以为低温温度。每个门均包括被配置为保持该真空室内的压力的周边带内衬的密封件，以及被配置为保持该真空室内的该温度的一个或多个辐射罩。室内的该温度的一个或多个辐射罩。室内的该温度的一个或多个辐射罩。

【技术实现步骤摘要】
具有多门可进入性的低温室
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本专利申请要求2022年4月29日提交的美国临时申请号63/363,854的优先权，其内容据此全文以引用方式并入本文。
[0003]联邦赞助研究或开发
[0004]本专利技术是在美国政府的支持下进行的。美国政府拥有本专利技术的某些权利。


[0005]各种实施方案涉及具有改善的可进入性的环境控制室设备。例如，各种实施方案涉及包括至少一个门的环境控制室设备，该至少一个门被配置为允许用于环境控制室设备的有效载荷的插入、进入、移除、修改等。

技术介绍

[0006]在各种场景下，动作(例如，实验、量子粒子受控状态演化、反应、功能的执行、系统和/或部件测试等)待在受控环境条件和/或通常不是地球上的周围条件的环境条件下执行。这些动作中的一些动作需要控制环境参数，诸如温度、压力等。例如，可能需要和/或期望在低温温度(例如，小于124K)下和/或在真空或近真空压力(例如，小于14.7psi)下执行动作，以便防止由环境噪声引起的扰动和/或错误。此类动作在低温真空环境中由有效载荷(例如，物体、对象、设备、系统、部件等)执行和/或在该有效载荷上执行。偶尔，此类动作可能需要在动作的时间过程期间和/或在动作的执行之间进行有效载荷的修改或调节，并且此类修改或调节需要在短时间帧内执行。

技术实现思路

[0007]各种实施方案提供了环境控制室设备和/或对应的部件和/或方法。例如，示例性实施方案提供了包括至少一个门的环境控制室设备、具有设置在其内的有效载荷并且包括至少一个门的环境控制室设备、用于与环境控制室设备一起使用的门、操作包括至少一个门的环境控制室设备的方法等。在各种示例性实施方案中，环境控制室设备可以包括真空室，在该真空室内有效载荷可以被存储、设置、定位、操作和/或使用，以在真空压力和低温温度下执行一个或多个动作。在各种示例性实施方案中，环境控制室设备包括至少一个能够使得进入有效载荷的门。
[0008]根据第一方面，提供了一种环境控制室设备。环境控制室设备包括真空室。真空室由四个或更多个侧面、顶面和底面来限定。该四个或更多个侧面包括至少一个开口。环境控制室设备还包括控制器，该控制器被配置为控制真空室内的压力和温度。环境控制室设备还包括至少一个门。该至少一个门被连接至该四个或更多个侧面中的相应的侧面并且被配置为密封该至少一个开口。
[0009]在示例性实施方案中，控制器被配置为将真空室内的压力控制为真空压力(例如，小于14.7psi)并且将真空室内的温度控制为低温温度(例如，小于124K)。在示例性实施方
案中，真空室的该四个或更多个侧面中的每个侧面均包括开口，并且环境控制室设备包括四个或更多个门，每个门均被连接至该四个或更多个侧面中的相应的侧面并且对应于相应的侧面的开口。在示例性实施方案中，真空室由六个侧面、顶面和底面来限定，六个侧面中的每个侧面均包括开口，并且环境控制室设备包括六个门，每个门均被连接至六个侧面中的相应的侧面并且对应于相应的侧面的开口。
[0010]在示例性实施方案中，该至少一个门能够在打开状态与闭合状态之间移动(例如，可旋转、可滑动等)。该至少一个门被配置为当被定位在闭合状态下时，保持真空室内的压力和温度，并且被配置为当被定位在打开状态下时，使得能够进入真空室中。在示例性实施方案中，该至少一个门包括周边带内衬的密封件，该周边带内衬的密封件被配置为保持真空室内的压力。在示例性实施方案中，该至少一个门包括一个或多个辐射罩，该一个或多个辐射罩被配置为保持真空室内的温度和/或减少真空室内的杂散电场和/或杂散磁场。在示例性实施方案中，该至少一个门包括两个或更多个辐射罩，该两个或更多个辐射罩为嵌套的和/或分层的辐射罩。
[0011]在示例性实施方案中，该至少一个开口被配置为小于相应的侧面。该至少一个开口还被配置为使得该至少一个开口的面积最大化，并且该至少一个门的尺寸至少部分地基于该至少一个开口来进行设定。在示例性实施方案中，该至少一个开口的尺寸至少部分地基于待在真空室中被存储、设置、定位、操作和/或使用以执行一个或多个动作的有效载荷来进行设定。在示例性实施方案中，顶面包括一个或多个入口，该一个或多个入口被配置为使得能够通过(i)电线、(ii)光纤和/或光束路径、(iii)流体管线、(iv)光学成像设备或(v)机械馈通中的至少一者来进入真空室的内部体积。在示例性实施方案中，该至少一个门和/或该四个或更多个侧面中的至少一个侧面包括一个或多个入口。在示例性实施方案中，该一个或多个入口被配置为使得能够通过(i)电线、(ii)光纤和/或光束路径、(iii)流体管线、(iv)光学成像设备或(v)机械馈通中的至少一者来进入真空室的内部体积。在示例性实施方案中，该一个或多个入口在定位在真空室外部的光学成像设备的感兴趣的波长或波长范围处为透明的。在示例性实施方案中，控制器被配置为控制该至少一个门的移动。在示例性实施方案中，控制器被配置为通过门传感器来确定该至少一个门的闭合状态或打开状态。
[0012]根据另一方面，提供了一种操作环境控制室设备的方法，该环境控制室设备包括真空室、控制器和至少一个门。该方法包括打开该至少一个门。该至少一个门被连接至限定真空室的四个或更多个侧面中的相应的侧面。该方法还包括，在有效载荷已经被插入至真空室的内部体积中或者穿过与该至少一个门相对应的该四个或更多个侧面的至少一个开口来进入真空室内之后，确定该至少一个门被闭合。该方法还包括确定用于真空室的操作压力和操作温度，以及使真空室的内部体积具有所确定的操作压力和所确定的操作温度。在示例性实施方案中，所确定的操作压力为真空压力(例如，小于14.7psi)，并且所确定的操作温度为低温温度(例如，小于124K)。在示例性实施方案中，控制器使压力控制系统和/或温度控制系统将真空室内的压力减少至所确定的操作压力，和/或将真空室内的温度减少至所确定的操作温度。
[0013]在示例性实施方案中，真空室的该四个或更多个侧面中的每个侧面均包括开口，并且环境控制室设备包括四个或更多个门，每个门均被连接至该四个或更多个侧面中的相
应的侧面并且对应于相应的侧面的开口。在示例性实施方案中，真空室由六个侧面、顶面和底面来限定，六个侧面中的每个侧面均包括开口，并且环境控制室设备包括六个门，每个门均被连接至六个侧面中的相应的侧面并且对应于相应的侧面的开口。
[0014]在示例性实施方案中，该至少一个门能够在打开状态与闭合状态之间移动(例如，可旋转、可滑动等)。该至少一个门被配置为当被定位在闭合状态下时，保持真空室内的所确定的操作压力和所确定的操作温度，并且被配置为当被定位在打开状态下时，使得能够进入真空室中。在示例性实施方案中，该至少一个门包括周边带内衬的密封件，该周边带内衬的密封件被配置为保持真空室内的所确定的操作压力。在示例性实施方案中，该至少一个门包括一个或多个辐射罩，该一个或多个辐射罩被配置为保持真空室内的所确定的操作温度和/或减少真空室内的杂散电场和/或杂散本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种环境控制室设备，包括：真空室，所述真空室由四个或更多个侧面、顶面和底面来限定，其中所述四个或更多个侧面包括至少一个开口；控制器，所述控制器被配置为控制所述真空室内的压力和温度；和至少一个门，其中所述至少一个门被连接至所述四个或更多个侧面中的相应的侧面并且被配置为密封所述至少一个开口。2.根据权利要求1所述的环境控制室设备，其中所述控制器被配置为将所述真空室内的所述压力控制为小于14.7psi的真空压力，并且将所述真空室内的所述温度控制为小于124K的低温温度。3.根据权利要求1所述的环境控制室设备，其中：所述至少一个门能够在打开状态与闭合状态之间移动，所述至少一个门被配置为当被定位在闭合状态下时，保持所述真空室内的所述压力和所述温度，并且所述至少一个门被配置为当被定位在打开状态下时，使得能够进入所述真空室中。4.根据权利要求3所述的环境控制室设备，其中所述至少一个门包括周边带内衬的密封件，所述周边带内衬的密封件被配置为保持所述真空室内的所述压力。5.根据权利要求3所述的环境控制室设备，其中所述至少一个门包括一个或多个辐射罩，所述一个或多个辐射罩被配置为保持所述真空室内的所述温度和/或减少所述真空室内的杂散电场和/或杂散磁场。6.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：N，
申请(专利权)人：霍尼韦尔国际公司，
类型：发明
国别省市：