水处理方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及分解去除被处理水中的有机物的水处理装置，其具有：在被处理水中添加过氧化氢的过氧化氢添加单元(过氧化氢源(101))、对添加有过氧化氢的被处理水照射紫外线的紫外线氧化装置(103)、以及去除来自紫外线氧化装置(103)的出口水中包含的过氧化氢的过氧化氢去除装置(105)。过氧化氢去除装置(105)具有阳极(11)和阴极(12)、以及过氧化氢去除室(23)，所述过氧化氢去除室(23)配置于阳极(11)与阴极(12)之间，且设置有具有过氧化氢分解能力的金属催化剂，并在阳极(11)与阴极(12)之间施加直流电流。施加直流电流。施加直流电流。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】水处理方法及装置


[0001]本专利技术涉及分解去除被处理水中的有机物的水处理方法及装置。

技术介绍

[0002]以往，作为半导体装置的制造工序、液晶显示装置的制造工序中的清洗水等，使用将有机物、离子成分、微粒、细菌等高度去除得到的超纯水等纯水。特别是，在制造包含半导体装置的电子部件时，在其清洗工序中使用了大量的纯水，对其水质的要求也逐年变高。关于在电子部件制造的清洗工序等中使用的纯水，为了防止纯水中包含的有机物在之后的热处理工序中碳化而引起绝缘不良等，要求将作为水质管理项目之一的总有机碳(TOC(Total Organic Carbon))的浓度设为极低的水平。
[0003]伴随对这样的纯水水质的高度要求的显著化，近年，正在研究将纯水中包含的微量有机物(TOC成分)分解去除的各种方法。作为这种方法的代表，包括基于紫外线氧化处理的有机物的分解去除工序。通常，在通过紫外线氧化处理进行有机物的分解去除的情况下，例如使用紫外线氧化装置，在反应槽内导入被处理水，向被处理水照射紫外线，所述紫外线氧化装置具备不锈钢制反应槽和设置在该反应槽内的管状的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种水处理方法，其特征在于，所述水处理方法为对被处理水中包含的有机物进行分解处理的水处理方法，其包括如下工序：在所述被处理水中添加过氧化氢的工序，对添加有过氧化氢的所述被处理水照射紫外线的紫外线照射工序，以及去除来自所述紫外线照射工序的出口水中包含的过氧化氢的过氧化氢去除工序；所述的过氧化氢去除工序包括如下工序：在阳极与阴极之间施加直流电流的工序，以及将所述被处理水通水至过氧化氢去除室的工序，所述过氧化氢去除室配置于所述阳极与所述阴极之间，且设置有具有过氧化氢分解能力的金属催化剂。2.根据权利要求1所述的水处理方法，其中，所述金属催化剂为铂族金属催化剂，所述过氧化氢去除室填充有担载了所述铂族金属催化剂的离子交换体。3.根据权利要求1或2所述的水处理方法，其中，具有从所述被处理水中去除氧的工序，使得所述紫外线照射工序的入口水中的溶解氧浓度为3mg/L以下。4.根据权利要求1至3中任一项所述的水处理方法，其中，根据所述过氧化氢去除工序的出口水中的溶解氧浓度、所述紫外线照射工序的出口水以及所述过氧化氢去除工序的入口水中的过氧化氢浓度中的至少一者来调节添加到所述被处理水中的过氧化氢的量。5.根据权利要求1至3中任一项所述的水处理方法，其中，调节添加到所述被处理水中的过氧化氢的量，使得以所述过氧化氢去除工序的出口水中的溶解氧浓度为0.3mg/L以下。6.根据权利要求1至3中任一项所述的水处理方法，...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐佐木庆介，高桥一重，高桥悠介，须藤史生，
申请(专利权)人：奥加诺株式会社，
类型：发明
国别省市：