【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】感光性树脂层叠体及其制造方法
[0001]本申请涉及感光性树脂层叠体及其制造方法。
技术介绍
[0002]印刷电路板一般通过光刻法来制造。光刻法是指通过下述工序在基板上形成期望布线图案的方法。即,首先在基板上形成由感光性树脂组合物形成的层,对该涂膜进行图案曝光和显影而形成抗蚀图案。接着,通过蚀刻或镀敷处理来形成导体图案。其后,通过去除基板上的抗蚀图案而在基板上形成期望的布线图案。
[0003]在印刷电路板的制造中,大多使用感光性元件(感光性树脂层叠体)。作为使用该感光性元件来形成布线图案的方法和适合于其的感光性树脂组合物,存在多个公知例(专利文献1~3)。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1:国际公开第2012/101908号
[0007]专利文献2:国际公开第2015/174467号
[0008]专利文献3:国际公开第2015/174468号
技术实现思路
[0009]专利技术要解决的问题
[0010]然而,上述专利 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种感光性树脂层叠体,其具备支承薄膜和形成在所述支承薄膜上的感光性树脂组合物层,所述感光性树脂组合物层含有:碱溶性高分子、具有烯属不饱和双键的化合物、光聚合引发剂、以及包含丙酮过氧化物和/或甲乙酮过氧化物的过氧化物,所述感光性树脂组合物层中的所述过氧化物的含量以所述感光性树脂组合物层作为基准计为0.01ppm以上且1000ppm以下。2.根据权利要求1所述的感光性树脂层叠体,其中,所述感光性树脂组合物层中的所述过氧化物的含量以所述感光性树脂组合物层作为基准计为0.1ppm以上。3.根据权利要求1所述的感光性树脂层叠体,其中,所述感光性树脂组合物层中的所述过氧化物的含量以所述感光性树脂组合物层作为基准计为1ppm以上。4.根据权利要求1所述的感光性树脂层叠体,其中,所述感光性树脂组合物层中的所述过氧化物的含量以所述感光性树脂组合物层作为基准计为10ppm以上。5.根据权利要求1~4中任一项所述的感光性树脂层叠体,其中,所述感光性树脂组合物层中的所述过氧化物的含量以所述感光性树脂组合物层作为基准计为200ppm以下。6.根据权利要求1~4中任一项所述的感光性树脂层叠体,其中,所述感光性树脂组合物层中的所述过氧化物的含量以所述感光性树脂组合物层作为基准计小于100ppm。7.根据权利要求1~3中任一项所述的感光性树脂层叠体,其中,所述感光性树脂组合物层中的所述过氧化物的含量以所述感光性树脂组合物层作为基准计为10ppm以下。8.根据权利要求1~3中任一项所述的感光性树脂层叠体,其中,所述感光性树脂组合物层中的所述过氧化物的含量以所述感光性树脂组合物层作为基准计为5ppm以下。9.根据权利要求1或2所述的感光性树脂层叠体,其中,所述感光性树脂组合物层中的所述过氧化物的含量以所述感光性树脂组合物层作为基准计为1ppm以下。10.根据权利要求1~9中任一项所述的感光性树脂层叠体,其中,所述碱溶性高分子为包含芳香族成分作为单体单元的共聚物。11.根据权利要求1~10中任一项所述的感光性树脂层叠体,其中,所述具有烯属不饱和双键的化合物包含具有3个或4个(甲基)丙烯酰基的单体。12.根据权利要求1~11中任一项所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员:内藤一也,村田直弘,松田隆之,
申请(专利权)人:旭化成株式会社,
类型:发明
国别省市:
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