相变存储器芯片版图结构制造技术

技术编号:3925555 阅读:242 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术揭示了一种相变存储器芯片版图结构,所述相变存储器芯片版图包括第一版图区、第二版图区、第三版图区、第四版图区、第五版图区和第六版图区;第一版图区、第二版图区、第三版图区和第四版图区位于相变存储器芯片版图的中央;第一版图区与第二版图区相连,第二版图区与第三版图区相连,第二版图区与第四版图区相连,第三版图区与第四版图区相连;第五版图区覆盖版图中央、除第一版图区、第二版图区、第三版图区和第四版图区外的其他空白区域;第六版图区均匀分布在相变存储器芯片版图的四周和四角。本发明专利技术提出的相变存储器芯片版图结构,芯片版图布局合理,有效减小了压控振荡器噪声以及数字电路的噪声对模拟电路和存储阵列的干扰。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于微电子
,涉及一种芯片版图结构,尤其涉及一种相变存储器 芯片版图结构。
技术介绍
相变存储技术颇具发展前景,具有读写速度快、高密度、低功耗、低成本、非易失 性、耐重复擦写次数高,与CMOS工艺兼容等优点。相变存储器利用相变材料在晶态与非晶 态之间转换时呈现出的导电特性差异来存储数据。相变材料在晶态时为低阻态,称为set 状态,代表“0”;非晶态时为高阻态,称为reset状态,代表“1”。相变材料多为硫系非晶半导体材料,如Ge2Sb2Te5(GST),这种材料比较稳定,同时 又具有较快的晶态非晶态转化速度,比较适合于制作相变存储器。通过加热可以诱发GST 相变。在超过GST熔点的温度下短时间加热,该材料可以从晶态转化为非晶态;在低于GST 熔点的温度下长时间加热,该材料可以从非晶态转化为晶态。在电路上,热量是通过电流脉 冲提供的,也就是短时间的大电流脉冲将GST非晶化,长时间的小电流脉冲将GST晶化。相变存储器的基本存储单元包括开关管和存储节点,开关管可以是一个NMOS管, 栅极连接字线(WL),源极14接地,漏极连接存储节点(GST) 12的一端,GST12的另一端连接 位线(BL) 15。具体版图实现参照图1,相变材料的版形绘制为方形,其下还有一个更小 尺寸的方形为底电极11,相变材料的下端通过底电极与开关管的漏极13相连,相变材料的 上端直接连接作为位线(BL) 15的顶层金属。现有的相变存储器芯片电路包括电流驱动器、带隙基准源电路、锁相环、逻辑控 制、译码器和存储阵列。其中锁相环中的压控振荡器存在振荡噪声,其他数字电路也会引入 数字噪声,如果这些噪声干扰进入模拟电路以及存储阵列,会造成信号失真和读写数据错 误。本版图在布局时充分考虑这些影响,采用不同的电源与地以及保护环,将不同的电路进 行隔离,有效减小了噪声对模拟电路和存储阵列的干扰。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种相变存储器芯片版图结构,有效减小了 压控振荡器噪声以及数字电路的噪声对模拟电路和存储阵列的干扰。为解决上述技术问题,本专利技术采用如下技术方案一种相变存储器芯片版图结构,所述相变存储器芯片版图包括第一版图区、第二 版图区、第三版图区、第四版图区、第五版图区和第六版图区;所述第一版图区、第二版图 区、第三版图区和第四版图区位于相变存储器芯片版图的中央;所述第一版图区与第二版 图区相连,所述第二版图区与第三版图区相连,所述第二版图区与第四版图区相连,所述第 三版图区与第四版图区相连;所述第五版图区覆盖版图中央、除第一版图区、第二版图区、 第三版图区和第四版图区外的其他空白区域;第六版图区均勻分布在相变存储器芯片版图 的四周和四角。作为本专利技术的一种优选方案,所述第一版图区为锁相环版图区,所述锁相环版图 区包括鉴频鉴相器、电荷泵、滤波器、压控振荡器和分频器;所述鉴频鉴相器采用数字电源 与地,所述电荷泵、滤波器采用模拟电源与地,所述压控振荡器、分频器采用振荡电源与地; 所述压控振荡器位于所述第一版图区的角落,同时也位于相变存储器芯片版图中央区的角 落、远离第二版图区、第三版图区和第四版图区,并通过保护环与其它电路隔离。作为本专利技术的一种优选方案,所述第二版图区为带隙基准源电路和电流驱动电路 版图区;所述带隙基准源电路中的电阻具有较宽宽度,所述较宽宽度为2-5倍于工艺所规 定的最小宽度;并采用交叉匹配的版图技术减小电阻比值匹配误差;所述电流驱动电路版 图区采用独立的电源与地,为存储单元读写操作提供所需的电流。 作为本专利技术的一种优选方案,所述第三版图区为逻辑控制电路版图区,所述逻辑 控制电路为数字电路。作为本专利技术的一种优选方案,所述第四版图区为存储阵列和译码器版图区;所述 存储阵列由512bit存储单元构成;所述存储单元由开关管和存储节点构成,所述存储节点 由相变存储材料制作,通过底电极与所述开关管的漏极相连;所述译码器版图区由行译码 和列译码构成。作为本专利技术的一种优选方案,所述第五版图区为电容版图区,所述电容版图区覆 盖芯片中央区中除去第一至第四版图区的其它空白区域,它连接上述四组不同的电源与 地,起到稳压作用。作为本专利技术的一种优选方案,所述第六版图区为输入输出接口版图区,包括48个 输入输出接口,均勻分布在所述相变存储器芯片版图的四周。本专利技术的有益效果在于本专利技术提出的相变存储器芯片版图结构,芯片版图布局 合理,有效减小了压控振荡器噪声以及数字电路的噪声对模拟电路和存储阵列的干扰。电流驱动电路版图区为存储阵列提供读写操作的编程电流;带隙基准源电路为电 流驱动电路提供基准电压和电流;锁相环为逻辑控制电路提供时钟信号;逻辑控制电路给 出行列地址并控制存储单元的操作;译码器通过行列地址译码选择存储阵列中的存储单 元;电容版图区连接电源与地,起到稳压作用。在版图实现上,将锁相环中产生时钟信号的振荡器布置在角落,并包围较宽的保 护环进行隔离,将数字电路与模拟电路分开布置,并采用四种不同的电源与地,有效地减小 了各部分之间的互相干扰。电容版图区对各电源起到了很好的稳压作用。附图说明图1为存储单元版图结构图。图2为本专利技术实施例ISOnmCMOS工艺512bit相变存储器芯片版图结构图。 具体实施例方式下面结合附图详细说明本专利技术的优选实施例。实施例一本专利技术揭示一种相变存储器芯片版图结构,使得芯片版图布局更加合理。请参阅图2,本实施例以ISOnmCMOS工艺制备的容量为512bit的相变存储器为例,阐述本专利技术提供的相变存储器芯片版图结构。该相变存储器芯片版图由第一版图区100、第 二版图区200、第三版图区300、第四版图区400、第五版图区500和第六版图区600组成; 第一版图区100、第二版图区200、第三版图区300和第四版图区400位于相变存储器芯片 版图的中央;第一版图区100与第二版图区200相连,第二版图区200与第三版图区300相 连,第二版图区200与第四版图区400相连,第三版图区300与第四版图区400相连;第五 版图区500覆盖版图中央区其它区域;第六版图区600均勻分布在相变存储器芯片版图的 四周和四角。第一版图区100为锁相环版图区,由鉴频鉴相器、电荷泵、滤波器、压控振荡器和 分频器构成;鉴频鉴相器采用数字电源与地,电荷泵、滤波器采用模拟电源与地,压控振荡 器、分频器采用振荡电源与地,减小了锁相环中各模块的互相干扰;压控振荡器位于相变存 储器芯片版图中央区的角落,并由非常宽的保护环将其环绕,减小了压控振荡器噪声对其 它电路的干扰。第二版图区200为带隙基准源电路和电流驱动电路版图区;所述带隙基准源电路 中的电阻具有较宽宽度,所述较宽宽度为2-5倍于工艺所规定的最小宽度(较佳地,所述较 宽宽度为2-4倍于工艺所规定的最小宽度);并采用交叉匹配技术减小匹配误差,得到具有 较小温度系数的基准源;电流驱动电路版图区采用独立的电源和地,为存储单元读写操作 提供所需的电流,并采用具有较宽宽度的金属层作为电流通路。第三版图区300为逻辑控制电路版图区,该版图区由数字电路构成。第四版图区400为存储阵列和译码器版图区,存储阵列包含512bit存储单元,存 储单元由开关管和存储节点构成,存储节点由相变存储材料制本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种相变存储器芯片版图结构,其特征在于,所述相变存储器芯片版图包括第一版图区、第二版图区、第三版图区、第四版图区、第五版图区和第六版图区;所述第一版图区、第二版图区、第三版图区和第四版图区位于相变存储器芯片版图的中央;所述第一版图区与第二版图区相连,所述第二版图区与第三版图区相连,所述第二版图区与第四版图区相连,所述第三版图区与第四版图区相连;所述第五版图区覆盖版图中央、除第一版图区、第二版图区、第三版图区和第四版图区外的其他空白区域;第六版图区均匀分布在相变存储器芯片版图的四周和四角。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:王倩陈后鹏蔡道林宋志棠
申请(专利权)人:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
类型:发明
国别省市:31[中国|上海]

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