承液盘、烤箱和烤箱灶制造技术

本申请公开了一种承液盘、烤箱和烤箱灶，其中承液盘包括盘底，盘底包括第一区域和围绕第一区域的第二区域，第一区域形成第一凹槽，第二区域形成第二凹槽，第一凹槽和第二凹槽连通，且第一凹槽的深度大于第二凹槽的深度。本申请技术方案中的承液盘的盘底具有第二凹槽和第一凹槽，第二凹槽和第一凹槽相连通，并且第二凹槽和第一凹槽的深度不一，在食物残渣较少时，食物残渣会集中于第一凹槽，移动承液盘时即使食物残渣离开第一凹槽也会进入到第二凹槽，从而避免外溢，在食物残渣较多时，食物残渣占据在第一凹槽和第二凹槽，由于第二凹槽和第一凹槽形成有深度差，因此能对食物残渣的流动形成阻力，从而避免由于移动承液盘而导致食物残渣外溢。物残渣外溢。物残渣外溢。

【技术实现步骤摘要】
承液盘、烤箱和烤箱灶


[0001]本申请涉及烘烤设备
，特别涉及一种承液盘、烤箱和烤箱灶。

技术介绍

[0002]烤箱是一种利用高温实现对食材烘烤的设备，烤箱具有烤架，食材放置在烤架上实现烘烤，为了收集食材上的油脂、水、碎屑等食物残渣，在食材的下方设置承液盘，相关技术中，用户在移动承液盘时，承液盘内的食物残渣容易出现移动而溢出。

技术实现思路

[0003]本申请旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此本申请提出一种承液盘。
[0004]为实现上述目的，本申请公开了一种承液盘，所述承液盘包括盘底，所述盘底包括第一区域和围绕所述第一区域的第二区域，所述第一区域形成第一凹槽，所述第二区域形成第二凹槽，所述第一凹槽和所述第二凹槽连通，且所述第一凹槽的深度大于所述第二凹槽的深度
[0005]在本申请的一些实施例中，所述第二凹槽的槽底围绕所述第一凹槽的槽壁的顶缘，且与所述第一凹槽的槽壁的顶缘相接。
[0006]在本申请的一些实施例中，所述承液盘适于在使用时沿前后方向推拉，于水平面作投影，所述第一凹槽的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种承液盘，其特征在于，所述承液盘包括盘底，所述盘底包括第一区域和围绕所述第一区域的第二区域，所述第一区域形成第一凹槽，所述第二区域形成第二凹槽，所述第一凹槽和所述第二凹槽连通，且所述第一凹槽的深度大于所述第二凹槽的深度。2.如权利要求1所述的承液盘，其特征在于，所述第二凹槽的槽底围绕所述第一凹槽的槽壁的顶缘，且与所述第一凹槽的槽壁的顶缘相接。3.如权利要求1所述的承液盘，其特征在于，所述承液盘适于在使用时沿前后方向推拉，于水平面作投影，所述第一凹槽的投影的左右两侧轮廓为非直线。4.如权利要求3所述的承液盘，其特征在于，所述第一凹槽的投影的左右两侧轮廓为弧线。5.如权利要求1所述的承液盘，其特征在于，所述承液盘适于在使用时沿前后方向推...

【专利技术属性】
技术研发人员：李嘉瑞，孟德奇，孙飞，李松，
申请(专利权)人：芜湖美的智能厨电制造有限公司，
类型：新型
国别省市：