一种激光镭雕方法及电子产品技术

本发明专利技术公开了一种激光镭雕方法及电子产品，所述激光镭雕方法包括以下步骤：在待镭雕的产品表面形成UV涂料层；通过激光镭雕机在形成UV涂料层的产品表面上进行激光镭雕；其中，所述激光镭雕机的激光波长为8500~10500nm。通过在产品表面形成UV涂料层，设置激光镭雕的激光波长为8500~10500nm，使用的涂料层具有耐激光的灼烧雕刻以及隔热、散热快的特点，在激光镭雕时，仅灼烧掉涂料层，减少激光灼伤产品零件的表面造成表面的不平整。同时，激光波长为8500~10500nm满足特殊窄范围的波长，既能够满足激光镭雕产品的油漆光面，又不会灼伤产品底层的基材，使得过渡区域更为规则，减少漆雾的产生，提高表面平整度，减少黏连的情况，提高了产品的外观美观度。产品的外观美观度。产品的外观美观度。

【技术实现步骤摘要】
一种激光镭雕方法及电子产品


[0001]本专利技术涉及激光
，特别涉及一种激光镭雕方法及电子产品。

技术介绍

[0002]越来越多电子产品从方方面面进入人们的生活，为人们提供极大的便利。出于美观性和实用性的考虑，电子产品的表面出现各种不同的工艺处理，例如高光、磨砂、哑光等表面处理。
[0003]现有的产品中，当高光面和哑光面同时出现时，需要多次喷涂才能实现高光面和哑光面的过渡，在高光面和哑光面的接触的位置，存在过渡区域不规则、漆雾、表面不平整以及黏连的情况，影响了电子产品的外观质量和使用体验。

技术实现思路

[0004]本专利技术的主要目的是提出激光镭雕方法和电子产品，旨在克服现有技术中在高光面和哑光面的接触的位置，过渡区域不规则、漆雾、表面不平整以及黏连的情况的问题。
[0005]为实现上述目的，本专利技术提出一种激光镭雕方法，包括以下步骤：在待镭雕的产品表面形成UV涂料层；通过激光镭雕机在形成UV涂料层的产品表面上进行激光镭雕；其中，所述激光镭雕机的激光波长为8500~10500nm。
[0006]可选地，所述通过激光镭雕机在形成UV涂料层的产品表面上进行激光镭雕的步骤中，所述激光镭雕机的激光波长为9500~10000nm。
[0007]可选地，所述在待镭雕的产品表面形成UV涂料层的步骤中，所述UV涂料层的厚度为10~35μm。
[0008]可选地，所述在待镭雕的产品表面形成UV涂料层的步骤中，所述UV涂料层的UV涂料的原料包括聚氨酯丙烯酸酯、乙酸乙酯、甲基异丁基酮、1
‑
羟基
‑
环己基苯酮及改良剂。
[0009]可选地，所述改良剂包括机硅助剂、二氧化硅及甲苯中的至少一种。
[0010]可选地，所述改良剂在所述UV涂料中的质量占比为3~18%。
[0011]可选地，所述通过激光镭雕机在形成UV涂料层的产品表面上进行激光镭雕的步骤中，所述激光镭雕机的功率为70~160W。
[0012]可选地，所述通过激光镭雕机在形成UV涂料层的产品表面上进行激光镭雕的步骤中，所述激光镭雕机的电流为20~38A。
[0013]可选地，所述通过激光镭雕机在形成UV涂料层的产品表面上进行激光镭雕的步骤中，所述激光镭雕机的激光点灼烧产品表面的矩阵间距为0.04~0.18mm。
[0014]本专利技术还提出了一种电子产品，所述电子产品的外壳采用所述的激光镭雕方法进行激光镭雕。其中所述激光镭雕方法，包括以下步骤：在待镭雕的产品表面形成UV涂料层；通过激光镭雕机在形成UV涂料层的产品表面上进行激光镭雕；其中，所述激光镭雕机的激光波长为8500~10500nm。
[0015]通过在产品表面形成UV涂料层，设置激光镭雕的激光波长为8500~10500nm，使用的涂料层具有耐激光的灼烧雕刻以及隔热、散热快的特点，在激光镭雕时，仅灼烧掉涂料层，减少激光灼伤产品零件的表面造成表面的不平整。同时，激光波长为8500~10500nm满足特殊窄范围的波长，既能够满足激光镭雕产品的油漆光面，又不会灼伤产品底层的基材，使得过渡区域更为规则，减少漆雾的产生，提高表面平整度，减少黏连的情况，提高了产品的外观美观度。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
[0017]图1为本专利技术一实施例的激光镭雕方法的流程图。
具体实施方式
[0018]为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。实施例中未注明具体条件者，按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市售购买获得的常规产品。另外，全文中出现的“和/或”的含义，包括三个并列的方案，以“A和/或B”为例，包括A方案、或B方案、或A和B同时满足的方案。此外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本专利技术要求的保护范围之内。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0019]越来越多电子产品从方方面面进入人们的生活，为人们提供极大的便利。出于美观性和实用性的考虑，电子产品的表面出现各种不同的工艺处理，例如高光、磨砂、哑光等表面处理。
[0020]现有的产品中，当高光面和哑光面同时出现时，需要多次喷涂才能实现高光面和哑光面的过渡，在高光面和哑光面的接触的位置，存在过渡区域不规则、漆雾、表面不平整以及黏连的情况，影响了电子产品的外观质量和使用体验。
[0021]鉴于此，如图1所示，本专利技术提出一种激光镭雕方法，包括以下步骤：S10：在待镭雕的产品表面形成UV涂料层；需要说明的是，设置涂料层的目的是为了在产品表面形成UV涂料层使得涂料层具有耐激光的灼烧雕刻以及隔热、散热快的特点，在激光镭雕时，仅灼烧掉涂料层，减少激光灼伤产品零件的表面造成表面的不平整。
[0022]S20：通过激光镭雕机在形成UV涂料层的产品表面上进行激光镭雕；需要说明的是，所述激光镭雕的激光波长为8500~10500nm。满足特殊窄范围的波长，既能够满足激光镭雕产品的油漆光面，又不会灼伤产品底层的基材，使得过渡区域更为规则，减少漆雾的产生，提高表面平整度，减少黏连的情况，提高了产品的外观美观度。所述
激光镭雕的激光波长可以是8500nm、8600nm、8700nm、8800nm、8900nm、9000nm、9100nm、9200nm、9300nm、9400nm、9500nm、9600nm、9700nm、9800nm、9900nm、10000nm、10100nm、10200nm、10300nm、10400nm或10500nm，但不限于此数值。
[0023]本专利技术的技术方案中，通过在产品表面形成UV涂料层，设置激光镭雕的激光波长为8500~10500nm，使用的涂料层具有耐激光的灼烧雕刻以及隔热、散热快的特点，在激光镭雕时，仅灼烧掉涂料层，减少激光灼伤产品零件的表面造成表面的不平整。
[0024]应当理解的是，本专利技术不对激光镭雕机的具体结构和型号进行限定，可以选用不同品牌符合要求参数的二氧化碳镭雕机。
[0025]需要说明的是，UV涂料层，是用波长为200nm~450nm的紫外光照射可硬化的材料，是指一种高透亮树脂涂层，需经紫外线照射进行固化的涂料层。
[0026]在本专利技术的任意实施例中，所述通过激光镭雕机在形成UV涂料层的产品表面上进行激光镭雕的步骤中，所述激光镭雕机的激光波长为9500~10000nm。在此激光波长范围本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种激光镭雕方法，其特征在于，包括以下步骤：在待镭雕的产品表面形成UV涂料层；通过激光镭雕机在形成UV涂料层的产品表面上进行激光镭雕；其中，所述激光镭雕机的激光波长为8500~10500nm。2.如权利要求1所述的激光镭雕方法，其特征在于，所述通过激光镭雕机在形成UV涂料层的产品表面上进行激光镭雕的步骤中，所述激光镭雕机的激光波长为9500~10000nm。3.如权利要求1所述的激光镭雕方法，其特征在于，所述在待镭雕的产品表面形成UV涂料层的步骤中，所述UV涂料层的厚度为10~35μm。4.如权利要求1所述的激光镭雕方法，其特征在于，所述在待镭雕的产品表面形成UV涂料层的步骤中，所述UV涂料层的UV涂料的原料包括聚氨酯丙烯酸酯、乙酸乙酯、甲基异丁基酮、1
‑
羟基
‑
环己基苯酮及改良剂。5.如权利要求4所述的激光镭雕方...

【专利技术属性】
技术研发人员：毕经永，郭学胜，范文平，何朝明，柳贵友，杨杨，闫连子，焦绪聪，张建华，马菁华，
申请(专利权)人：歌尔股份有限公司，
类型：发明
国别省市：