一种等离子设备工装结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种等离子设备工装结构，包括工装本体，所述工装本体包括底座，所述底座的底部安装有转向轮，所述底座的顶部转动连接有旋转台，所述旋转台上的前侧安装有等离子防护结构，所述旋转台的后侧安装有等离子支撑结构；所述等离子防护结构包括矩形防护架、安装在矩形防护架四周的第一防护板和转动安装在矩形防护架上的第二防护板；所述等离子支撑结构包括两个竖直的支撑架,两个所述支撑架之间的旋转台上安装有上下驱动装置,两个所述支撑架的上方滑动安装有双滑轨架。本实用新型专利技术可上下左右微调满足任何高度喷射及位置角度调节，且通过离子防护结构4对等离子设备主机进行防护，可保护设备不被硬物或者进水而损坏。坏。坏。

【技术实现步骤摘要】
一种等离子设备工装结构


[0001]本技术涉及等离子设备安装
，尤其涉及一种等离子设备工装结构。

技术介绍

[0002]等离子设备(Plasma device)是用于产生等离子体的实验设备。等离子体是一种电离气体，其中的电子和离子被部分或完全分离，并且存在大量的自由电子和离子，因此具有很多特殊性质，如导电性、辐射性等。等离子设备通常由一个真空室、一个加热器和一个激发源组成，等离子设备有多种类型，包括等离子体喷射设备。
[0003]现有技术中，等离子体喷射设备生产使用等离子时为摆放桌面上，等离子喷头无法正常调节(参照图3)，等离子喷头偏移高度及位置不合适导致失效；等离子设备摆放桌面极其不方便，电器很容易遇到硬物或者进水而损坏。
[0004]由上所述，为此我们设计出了一种等离子设备工装结构来解决以上问题。

技术实现思路

[0005]本技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种等离子设备工装结构。
[0006]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：
[0007]一种等离子设备工装结构，包括工装本体，所述工装本体包括底座，所述底座的底部安装有转向轮，所述底座的顶部转动连接有旋转台，所述旋转台上的前侧安装有等离子防护结构，所述旋转台的后侧安装有等离子支撑结构；
[0008]所述等离子防护结构包括矩形防护架、安装在矩形防护架四周的第一防护板和转动安装在矩形防护架上的第二防护板；
[0009]所述等离子支撑结构包括两个竖直的支撑架，两个所述支撑架之间的旋转台上安装有上下驱动装置，两个所述支撑架的上方滑动安装有双滑轨架，所述双滑轨架的内部滑动安装有双滑动架，所述双滑动架的前侧滑动安装有固定安装板，所述固定安装板的前侧固定连接有等离子喷头结构；
[0010]所述上下驱动装置与双滑轨架之间驱动连接。
[0011]优选的，所述等离子防护结构内部放置有等离子设备主机，所述第一防护板和第二防护板均有透明的塑料材质制成。
[0012]优选的，所述上下驱动装置包括驱动电机，所述驱动电机的输出端连接有驱动螺杆，所述双滑轨架的后侧之间连接有驱动块，所述驱动块的内部设置有与驱动螺杆相适配的螺纹套孔，所述驱动螺杆的顶端贯穿螺纹套孔，并连接有限位块。
[0013]优选的，所述双滑轨架的竖截面为“C”形结构，所述双滑动架滑动安装在双滑轨架的内部，且双滑动架的两端连接有竖直的限位条。
[0014]优选的，所述双滑动架的前侧设置有水平的第一滑槽，两个所述第一滑槽的内部均安装有第一滑动块，两个所述第一滑动块的另一端延伸至第一滑槽的外侧与固定安装板
固定连接，两个所述第一滑动块与固定安装板之间的连接方式为螺栓连接或者焊接方式中的一种。
[0015]优选的，所述固定安装板与等离子喷头结构之间通过螺栓固定连接。
[0016]优选的，两个所述支撑架的前侧均设置有竖直的第二滑槽，所述双滑轨架的一侧均连接有延伸至第二滑槽内部的第二滑动块。
[0017]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0018]1、旋转台上的前侧安装有等离子防护结构，等离子防护结构包括矩形防护架、安装在矩形防护架四周的第一防护板和转动安装在矩形防护架上的第二防护板，能够在使用过程中，通过离子防护结构对等离子设备主机进行防护，可保护设备不被硬物或者进水而损坏。
[0019]2、两个支撑架的上方滑动安装有双滑轨架，双滑轨架的内部滑动安装有双滑动架，在使用时，能够间接带动等离子喷头结构左右移动，便于调节等离子喷头结构进行喷射的范围，同时，双滑动架滑动安装在双滑轨架内部的设计，能够在调节等离子喷头结构喷射范围的过程中，让双滑动架在双滑轨架的内部进行移动，可以增加等离子喷头结构的调节喷射范围。
[0020]3、在使用时，通过控制驱动电机工作，让驱动电机带动驱动螺杆转动，驱动螺杆在转动时，带动驱动块和驱动块连接的双滑轨架进行竖直移动，从而间接带动双滑动架前侧的等离子喷头结构进行移动，便于根据调节等离子喷头结构喷射的高度，可上下左右微调满足任何高度喷射及位置角度调节。
附图说明
[0021]图1为本技术提出的一种等离子设备工装结构的结构示意图；
[0022]图2为本技术提出的一种等离子设备工装结构的侧视图；
[0023]图3为本技术提出的一种等离子设备工装结构的
技术介绍
中的现有技术图。
[0024]图中：1工装本体、2底座、3旋转台、4等离子防护结构、401矩形防护架、402第一防护板、403第二防护板、5支撑架、6上下驱动装置、7双滑轨架、8双滑动架、801滑槽、9固定安装板、10等离子喷头结构、11等离子设备主机、12限位条、13第二滑槽、14驱动块。
具体实施方式
[0025]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0026]实施例一
[0027]参照图1
‑
2，一种等离子设备工装结构，包括工装本体1，工装本体1包括底座2，底座2的底部安装有转向轮，底座2的顶部转动连接有旋转台3，其中，底座2与旋转台3的底部中心之间连接有圆柱形的转动轴，便于在等离子喷头结构10喷射时，根据需要调节等离子喷头结构10的喷射角度，旋转台3上的前侧安装有等离子防护结构4，旋转台3的后侧安装有等离子支撑结构，在使用过程中，旋转台3上方的等离子设备、等离子防护结构4和等离子支撑结构能够通过转动轴进行水平方向转动；
[0028]本实施例中，等离子防护结构4包括矩形防护架401、安装在矩形防护架401四周的第一防护板402和转动安装在矩形防护架401上的第二防护板403，其中，等离子防护结构4内部放置有等离子设备主机11，第一防护板402和第二防护板403均有透明的塑料材质制成；
[0029]需要说明的是，第二防护板403套罩在安装在矩形防护架401内部的等离子设备主机上方，且第二防护板403的一侧与矩形防护架401上之间连接有转轴；能够在使用过程中，通过离子防护结构4对等离子设备主机进行防护，可保护设备不被硬物或者进水而损坏。
[0030]本实施例中，等离子支撑结构包括两个竖直的支撑架5，两个支撑架5之间的旋转台3上安装有上下驱动装置6，两个支撑架5的上方滑动安装有双滑轨架7，双滑轨架7的内部滑动安装有双滑动架8，双滑动架8的前侧滑动安装有固定安装板9，固定安装板9的前侧固定连接有等离子喷头结构10；
[0031]其中，双滑轨架7的竖截面为“C”形结构，双滑动架8滑动安装在双滑轨架7的内部，且双滑动架8的两端连接有竖直的限位条12，能够在双滑动架8在双滑轨架7中移动时，限位条12可以避免双滑动架8脱落。
[0032]更加具体的是，双滑动架8的前侧设置有水平的第一滑槽801，两个第一滑槽801的内部均安装有第一滑本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种等离子设备工装结构，包括工装本体(1)，其特征在于，所述工装本体(1)包括底座(2)，所述底座(2)的底部安装有转向轮，所述底座(2)的顶部转动连接有旋转台(3)，所述旋转台(3)上的前侧安装有等离子防护结构(4)，所述旋转台(3)的后侧安装有等离子支撑结构；所述等离子防护结构(4)包括矩形防护架(401)、安装在矩形防护架(401)四周的第一防护板(402)和转动安装在矩形防护架(401)上的第二防护板(403)；所述等离子支撑结构包括两个竖直的支撑架(5)，两个所述支撑架(5)之间的旋转台(3)上安装有上下驱动装置(6)，两个所述支撑架(5)的上方滑动安装有双滑轨架(7)，所述双滑轨架(7)的内部滑动安装有双滑动架(8)，所述双滑动架(8)的前侧滑动安装有固定安装板(9)，所述固定安装板(9)的前侧固定连接有等离子喷头结构(10)；所述上下驱动装置(6)与双滑轨架(7)之间驱动连接。2.根据权利要求1所述的一种等离子设备工装结构，其特征在于，所述等离子防护结构(4)内部放置有等离子设备主机(11)，所述第一防护板(402)和第二防护板(403)均有透明的塑料材质制成。3.根据权利要求1所述的一种等离子设备工装结构，其特征在于，所述上下驱动装置(6...

【专利技术属性】
技术研发人员：于信峰，马兴兵，吴海涛，
申请(专利权)人：科建高分子材料上海股份有限公司，
类型：新型
国别省市：