镀膜机样品台控制方法、装置及磁控溅射镀膜机制造方法及图纸

技术编号:39143104 阅读:29 留言:0更新日期:2023-10-23 14:55
本发明专利技术提供了镀膜机样品台控制方法、装置及磁控溅射镀膜机,涉及镀膜机技术领域,镀膜机样品台控制方法包括:确定当前镀膜样品;获取所述当前镀膜样品的镀靶材顺序和相应的镀膜时间;基于所述镀靶材顺序和相应的镀膜时间确定镀膜转动流程;控制样品台按照所述镀膜转动流程进行转动,完成所述当前镀膜样品的镀膜。本发明专利技术可实现样品镀膜时样品台的全自动启停控制。停控制。停控制。

【技术实现步骤摘要】
镀膜机样品台控制方法、装置及磁控溅射镀膜机


[0001]本专利技术涉及镀膜机
,具体而言,涉及一种镀膜机样品台控制方法、装置及磁控溅射镀膜机。

技术介绍

[0002]磁控溅射镀膜机作为一种产生特定膜层的真空镀膜技术,被广泛应用于金属、半导体、绝缘体等各种材料的镀膜实践中,其自动化控制水平的提升大大提高了磁控溅射效率。
[0003]在镀膜实践过程中,当需要镀多层不同种类膜时,需由操作人员在操作界面上多次手动控制样品台启停,以转动样品台使样品朝向不同的靶材,这一过程需要操作人员同时兼顾观察样品台的位置和控制样品台启停,导致样品台难以停留在理想位置,对镀膜造成不良影响。

技术实现思路

[0004]本专利技术解决的问题是如何提高样品台停留位置的准确性。
[0005]为解决上述问题,本专利技术提供一种镀膜机样品台控制方法,包括以下步骤:
[0006]确定当前镀膜样品;
[0007]获取所述当前镀膜样品的镀靶材顺序和相应的镀膜时间;
[0008]基于所述镀靶材顺序和相应的镀膜时间确定镀膜转动流程本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种镀膜机样品台控制方法,其特征在于,包括以下步骤:确定当前镀膜样品;获取所述当前镀膜样品的镀靶材顺序和相应的镀膜时间;基于所述镀靶材顺序和相应的镀膜时间确定镀膜转动流程;控制样品台按照所述镀膜转动流程进行转动,完成所述当前镀膜样品的镀膜。2.如权利要求1所述的镀膜机样品台控制方法,其特征在于,所述基于所述镀靶材顺序和相应的镀膜时间确定镀膜转动流程包括以下步骤:获取所述镀靶材顺序对应的镀膜转动角度序列;根据所述镀膜转动角度序列和相应的镀膜时间生成所述镀膜转动流程。3.如权利要求2所述的镀膜机样品台控制方法,其特征在于,所述确定当前镀膜样品之后,所述控制样品台按照所述镀膜转动流程进行转动,完成所述当前镀膜样品的镀膜之前,还包括以下步骤:控制所述样品台保持或者转动至所述当前镀膜样品正对预设靶材的位置。4.如权利要求3所述的镀膜机样品台控制方法,其特征在于,所述控制所述样品台保持或者转动至所述当前镀膜样品正对预设靶材的位置包括:获取所述当前镀膜样品正对的靶材位置;根据所述当前镀膜样品正对的靶材位置,与所述预设靶材之间的差值,确定所述当前镀膜样品的差值角度;当所述差值角度为零时,控制所述样品台停止不动;当所述差值角度不为零时,控制所述样品台转动至所述当前镀膜样品正对预设靶材的位置。5.如权利要求1所述的镀膜机样品台控制方法,其特征在于,还包括以下步骤:接收到第一位置校准信号时,启动计数器;接收到第二位置校准信号时,获取计数器数值,判断所述计数器数值是否等于第一预设值;若否,则判定运行异常,控制所述样品台转动至预置位置。6.如权利要求5...

【专利技术属性】
技术研发人员:余望超宋学锋
申请(专利权)人:南方科技大学
类型:发明
国别省市:

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