【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】使用机器学习控制沉积膜的浓度轮廓
[0001]本公开内容的实施方式一般涉及制造系统并且具体而言涉及使用机器学习控制沉积膜的浓度轮廓。
技术介绍
[0002]在制造系统处处理电子装置可以包括在基板表面上产生复杂图案化的材料层。制造系统可以在基板表面上沉积膜并且可以执行蚀刻工艺以在沉积膜中形成复杂图案。沉积膜中的每种材料的材料类型及浓度可以影响蚀刻工艺的效能(例如，蚀刻工艺的速度、蚀刻工艺的准确性等)。随着电子装置变得更详细且复杂，制造系统的操作人员可以试图调整或增强沉积膜的材料特性以便产生满足特定装置规格的蚀刻基板。然而，操作人员可能难以识别将产生满足组件规格的电子装置的适当制造步骤或设置。
技术实现思路
[0003]所描述的一些实施方式涵盖一种方法，其中该方法包括将与在用于制造系统的处理腔室处的基板的沉积工艺期间待在基板表面上沉积的膜的目标浓度轮廓相关联的数据作为输入提供到经训练的机器学习模型。方法进一步包括获得经训练的机器学习模型的一个或多个输出。方法进一步包括由一个或多个输出决定识别沉积工艺设置的一个或多...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种方法，包含以下步骤：将与在用于制造系统的处理腔室处的基板的沉积工艺期间待在所述基板的表面上沉积的膜的目标浓度轮廓相关联的数据作为输入提供到经训练的机器学习模型；获得所述经训练的机器学习模型的一个或多个输出；由所述一个或多个输出决定识别沉积工艺设置的一个或多个集合的工艺配方数据，并且针对沉积工艺设置的每个集合，决定沉积工艺设置的相应集合对应于待在所述基板上沉积的所述膜的所述目标浓度轮廓的信赖水平的指示；以及回应于识别具有满足信赖准则水平的信赖水平的沉积工艺设置的所述相应集合，根据沉积工艺设置的所述相应集合执行所述沉积工艺的一个或多个操作。2.如权利要求1所述的方法，进一步包含以下步骤：接收待在所述基板的所述表面上沉积的所述膜的目标厚度的指示、所述膜的特定材料的目标初始浓度的指示、及所述膜的所述特定材料的目标最终浓度的指示；以及基于所述目标厚度、所述目标初始浓度、及所述目标最终浓度来决定所述膜的所述目标浓度轮廓。3.如权利要求1所述的方法，进一步包含以下步骤：将与所述沉积工艺相关联的一个或多个工艺约束的集合作为额外输入提供到所述经训练的机器学习模型。4.如权利要求1所述的方法，其中沉积工艺设置的每个集合与在所述基板的所述表面上沉积的所述膜的浓度轮廓相关联，并且其中回应于在与沉积工艺设置的所述相应集合相关联的所述浓度轮廓与所述目标浓度轮廓之间的差低于阈值差值的决定，沉积工艺设置的所述相应集合对应于所述目标浓度。5.如权利要求1所述的方法，其中所述基板的所述沉积工艺与沉积工艺设置的初始集合相关联，并且其中根据沉积工艺设置的所述相应集合执行所述沉积工艺的一个或多个操作的步骤包含以下步骤：将沉积工艺设置的所述初始集合的一个或多个修改为对应于沉积工艺设置的所述相应集合的一个或多个。6.如权利要求5所述的方法，进一步包含以下步骤：向连接到所述制造系统的客户端装置发送用于将沉积工艺设置的所述初始集合的所述一个或多个修改为对应于沉积工艺设置的所述相应集合的所述一个或多个的请求；以及从所述客户端装置接收指令，用于将沉积工艺设置的所述初始集合的所述一个或多个修改为对应于沉积设置的所述相应集合的所述一个或多个，其中根据所述接收的指令更新沉积工艺设置的所述初始集合的所述一个或多个。7.如权利要求1所述的方法，其中沉积工艺设置的所述相应集合包含下列的至少一个：所述处理腔室的温度设置、所述处理腔室的压力设置、或待在所述基板的所述表面上沉积的所述膜的一种或多种材料的前驱物的流动速率设置。8.如权利要求7所述的方法，其中所述一种或多种材料的所述前驱物包含含硅前驱物或含硼前驱物的至少一者。9.如权利要求1所述的方法，其中回应于所述信赖水平超过信赖值的阈值水平的决定，沉积工艺设置的所述相应集合的所述信赖水平满足所述信赖准则水平。10.一种系统，包含：
存储器；以及处理装置，耦接到所述存储器，其中所述处理装置用于执行训练机器学习模型以预测待针对制造系统处的当前基板执行的沉积工艺的一个或多个沉积设置的操作，所述操作包含以下步骤：产生所述机器学习模型的第一训练数据，其中所述第一训练数据包含与先前针对所述制造系统处的先前基板执行的先前沉积工艺的一个或多个先前沉积设置相关联的历史数据，其中所述先前沉积工艺包含在先前基板的表面上沉积先前膜；产生所述机器学习模型的第二训练数据...
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