有机电致发光材料和装置制造方法及图纸

技术编号:39133624 阅读:22 留言:0更新日期:2023-10-23 14:51
本申请涉及有机电致发光材料和装置。本公开提供一种包含式I的第一配体L

【技术实现步骤摘要】
有机电致发光材料和装置
[0001]相关申请的交叉参考
[0002]本申请是2022年11月23日提交的同在申请中的美国专利申请第18/058,461号和2023年3月2日提交的美国专利申请第18/177,178号的部分继续申请,所述专利申请的内容以引用的方式并入本文中。本申请根据35U.S.C.
§
119(e)要求以下美国临时申请的优先权:2022年4月18日提交的第63/332,165号、2022年6月21日提交的第63/353,920号、2022年12月5日提交的第63/385,994号、2022年6月28日提交的第63/356,191号、2022年9月13日提交的第63/406,019号、2022年9月19日提交的第63/407,981号、2022年9月20日提交的第63/408,357号、2022年9月21日提交的第63/408,686号、2022年11月3日提交的第63/382,134号、2022年10月20日提交的第63/417,746号、2023年1月23日提交的第63/481,143号、2022年12月20日提交的第63/476,20本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种包含式I的第一配体L
A
的化合物,其中部分A和B各自独立地为单环或多环稠环系统,其中所述单环和所述多环稠环系统中的每个环独立地为5元或6元碳环或杂环;Z1至Z4各自独立地为C或N;K1或K2中的一者为直接键,且K1和K2中的另一者独立地选自由以下组成的群组:直接键、O、S、N(R
α
)、P(R
α
)、B(R
α
)、C(R
α
)(R
β
)和Si(R
α
)(R
β
);L选自由以下组成的群组:BR、BRR

、NR、PR、P(O)R、O、S、Se、C=O、C=S、C=Se、C=NR、C=CRR

、S=O、SO2、CR、CRR

、SiRR

、GeRR

、烷基、环烷基、芳基、杂芳基和其组合;R
A
和R
B
各自独立地表示单取代至最大可允许的取代,或无取代;R
α
、R
β
、R、R

、R
A
和R
B
各自独立地为氢或选自由以下组成的群组的取代基:氘、卤素、烷基、环烷基、杂烷基、杂环烷基、硼基、芳烷基、烷氧基、芳氧基、氨基、硅烷基、锗烷基、烯基、环烯基、杂烯基、炔基、芳基、杂芳基、酰基、羧酸、醚、酯、腈、异腈、硫基、亚磺酰基、磺酰基、膦基、硒基和其组合;L
A
与金属M配位;所述金属M选自由以下组成的群组:Ru、Re、Rh、Os、Ir、Pd、Pt、Cu、Ag和Au;L
A
可与其它配体接合以形成三齿、四齿、五齿或六齿配体;且任何两个取代基可接合或稠合以形成环;且其中所述化合物至少包含硅烷基、锗烷基或吸电子基团。2.根据权利要求1所述的化合物,其中所述部分A和所述部分B各自独立地选自由以下组成的群组:苯、吡啶、嘧啶、哒嗪、吡嗪、三嗪、咪唑、咪唑碳烯、苯并咪唑碳烯、吡唑、吡咯、噁唑、呋喃、噻吩、噻唑、三唑、萘、喹啉、异喹啉、喹唑啉、苯并呋喃、氮杂

苯并呋喃、苯并噁唑、氮杂

苯并噁唑、苯并噻吩、氮杂

苯并噻吩、苯并噻唑、氮杂

苯并噻唑、苯并硒吩、氮杂

苯并硒吩、茚、氮杂

茚、吲哚、氮杂

吲哚、苯并咪唑、氮杂

苯并咪唑、咔唑、氮杂

咔唑、二苯并呋喃、氮杂

二苯并呋喃、二苯并噻吩、氮杂

二苯并噻吩、喹喔啉、酞嗪、菲、氮杂

菲、蒽、氮杂

蒽、菲啶、芴和氮杂

芴;和/或其中至少一个R
A
、R
B
或L包含硅烷基、锗烷基或吸电子基团。3.根据权利要求2所述的化合物,其中所述吸电子基团选自由以下组成的群组:F、CF3、CN、COCH3、CHO、COCF3、COOMe、COOCF3、NO2、SF3、SiF3、PF4、SF5、OCF3、SCF3、SeCF3、SOCF3、SeOCF3、SO2F、SO2CF3、SeO2CF3、OSeO2CF3、OCN、SCN、SeCN、NC、
+
N(R)3、(R)2CCN、(R)2CCF3、CNC(CF3)2、BRR

、被取代或未被取代的二苯并硼杂环戊二烯、1

取代的咔唑、1,9

取代的咔唑、被取代或未被取代的咔唑、被取代或未被取代的吡啶、被取代或未被取代的嘧啶、被取代或未被取代的吡嗪、被取代或未被取代的哒嗪、被取代或未被取代的三嗪、被取代或未被取代
的噁唑、被取代或未被取代的苯并噁唑、被取代或未被取代的噻唑、被取代或未被取代的苯并噻唑、被取代或未被取代的咪唑、被取代或未被取代的苯并咪唑、酮、羧酸、酯、腈、异腈、亚磺酰基、磺酰基、部分和完全氟化的烷基、部分和完全氟化的芳基、部分和完全氟化的杂芳基、含氰基的烷基、含氰基的芳基、含氰基的杂芳基、异氰酸酯、芳基、含氰基的烷基、含氰基的芳基、含氰基的杂芳基、异氰酸酯、芳基、含氰基的烷基、含氰基的芳基、含氰基的杂芳基、异氰酸酯、其中每个R独立地为氢或选自由以下组成的群组的取代基:氘、卤素、烷基、环烷基、杂烷基、杂环烷基、硼基、芳烷基、烷氧基、芳氧基、氨基、硅烷基、锗烷基、烯基、环烯基、杂烯基、炔基、芳基、杂芳基、酰基、羧酸、醚、酯、腈、异腈、硫基、亚磺酰基、磺酰基、膦基、硒基和其组合;其中Y

选自由以下组成的群组:BR
e
、NR
e
、PR
e
、O、S、Se、C=O、S=O、SO2、CR
e
R
f
、SiR
e
R
f
和GeR
e
R
f
;且其中每个R
e
和R
f
独立地为氢或选自由以下组成的群组的取代基:氘、卤素、烷基、环烷基、杂烷基、杂环烷基、硼基、芳烷基、烷氧基、芳氧基、氨基、硅烷基、锗烷基、烯基、环烯基、
杂烯基、炔基、芳基、杂芳基、酰基、羧酸、醚、酯、腈、异腈、硫基、亚磺酰基、磺酰基、膦基、硒基和其组合。4.根据权利要求1所述的化合物,其中Z1为N且Z4为C;或其中Z1为C且Z4为N;或其中Z2为C且Z3为C;或其中Z1为碳烯C且Z4为C;或其中Z2为N且Z3为C;和/或其中K1和K2均为直接键;和/或其中L选自由以下组成的群组:O、S、Se、BR、NR、CRR

、SiRR

、烷基、环烷基和芳基。5.根据权利要求1所述的化合物,其中所述配体L
A
选自由以下组成的群组:
其中:X1至X
16
各自独立地为C或N;Y
A
选自由以下组成的群组:BR、BRR

、NR、PR、P(O)R、O、S、Se、C=O、C=S、C=Se、C=NR、C=CRR

、S=O、SO2、CR、CRR

、SiRR

和GeRR

;R
AA
和R
BB
各自独立地表示单取代至最大允许数目个取代,或无取代;每个R、R

、R
AA
、R
BB
和R
N
独立地为氢或选自由本文所定义的通用取代基组成的群组的取代基;任何两个R、R

、R
AA
、R
BB
、R
N
和L可稠合或接合以形成环或形成多齿配体;且至少一个R
AA
、R
BB
、R
N
或L包含硅烷基、锗烷基、吸电子基团或经吸电子基团取代的芳基或杂芳基或经吸电子基团取代的烷基或杂烷基。6.根据权利要求1所述的化合物,其中所述配体L
A
选自由以下组成的群组:
其中:Y
A
选自由以下组成的群组:BR、BRR

、NR、PR、P(O)R、O、S、Se、C=O、C=S、C=Se、C=NR、C=CRR

、S=O、SO2、CR、CRR

、SiRR

和GeRR

;R
AA
和R
BB
各自独立地表示单取代至最大允许数目个取代,或无取代;每个R、R

、R
AA
、R
BB
和R
N
独立地为氢或选自由本文所定义的通用取代基组成的群组的取代基;任何两个R、R

、R
AA
、R
BB
、R
N
和L可稠合或接合以形成环或形成多齿配体;且至少一个R
AA
、R
BB
、R
N
或L包含硅烷基、锗烷基、吸电子基团或经吸电子基团取代的芳基或杂芳基或经吸电子基团取代的烷基或杂烷基。7.根据权利要求1所述的化合物,其中所述配体L
A
选自由L
Ai
(R
G
)(R
H
)(R
I
)(E
A
)(G
A
)和L
Ai

(R
G
)(R
H
)(E
B
)(E
A
)(G
A
)组成的群组,其中i为1至18和25至51的整数,i

为19至24和52至54的整数,R
G
、R
H
和R
I
各自独立地选自由R1至R50组成的群组,E
A
和E
B
各自独立地选自由E1至E100组成的群组,并且G
A
选自由G1至G71组成的群组;其中L
A1
(R1)(R1)(R1)(E1)(G1)至L
A54
(R50)(R50)(R50)(E100)(G71)各自定义如下:
其中R1至R50具有以下结构:其中R1至R50具有以下结构:
其中E1至E100具有以下结构:其中E1至E100具有以下结构:
且其中G1至G71具有以下结构:
8.根据权利要求1所述的化合物,其中所述化合物具有式M(L
A
)
p
(L
B
)
q
(L
C
)
r
,其中L
B
和L
C
各自是双齿配体;且其中p为1、2或3;q为0、1或2;r为0、1或2;且p+q+r为所述金属M的氧化态。9.根据权利要求8所述的化合物,其中所述化合物具有选自由以下组成的群组的式:Ir(L
A
)3、Ir(L
A
)(L
B
)2、Ir(L
A
)2(L
B
)、Ir(L
A
)2(L
C
)和Ir(L
A
)(L
B
)(L
C
),且其中L
A
、L...

【专利技术属性】
技术研发人员:辛卫春T
申请(专利权)人:环球展览公司
类型:发明
国别省市:

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