一种远志中黄曲霉毒素的脱除方法技术

本发明专利技术涉及一种远志中黄曲霉毒素的脱除方法，该方法是将远志在去离子水溶液中或是2%~3%的双氧水溶液中浸泡1min~3min，捞出后沥干水分，使远志的含水量在24%~28%，使用电子束辐照沥干后的远志，辐照剂量为6kGy~10kGy。本发明专利技术采用电子束辐照可以有效地降解黄曲霉毒素B1、B2、G1和G2等主要类型的黄曲霉毒素。本发明专利技术利用电子束辐照结合去离子水或双氧水浸泡，并调节含水量，可有效降解远志中的黄曲霉毒素。双氧水不稳定，降解后无残留无污染。本发明专利技术黄曲霉毒素的脱除方法可操作性强，适于大规模生产。产。产。

【技术实现步骤摘要】
一种远志中黄曲霉毒素的脱除方法


[0001]本专利技术涉及一种中药材中的有害物质的处理方法，具体地说是一种远志中黄曲霉毒素的脱除方法。

技术介绍

[0002]远志是一种常用的中药材，但由于其生长环境和保存条件等原因，而经常会受到黄曲霉菌的污染，从而产生黄曲霉毒素。黄曲霉毒素对人体健康有害，因此需要采取措施降低其含量。目前降解黄曲霉毒素的方法主要包括物理法、化学法和生物法。其中，物理法是指通过吸附、高温加热、溶剂萃取、辐照等方法，以破坏黄曲霉毒素化学结构的方式，对毒素进行降解，从而达到减少其含量的目的。物理降解法的过程较为安全可靠，其操作简单，对外界污染小。辐照处理对食品药品的有效成分可能会产生不良影响；萃取法有机溶剂具有毒性，此法处理后容易造成溶剂的残留。
[0003]辐射的能量破坏黄曲霉毒素的化学结构，从而导致毒性减小或消失，可达到去毒的效果，根据辐射源，辐照技术可分为γ射线辐照、紫外辐照、电子束辐照和微波辐照。
[0004]电子束辐照是利用电子束加速器产生电子束射线，然后对作用对象进行辐照处理。电子束辐照的能量可破坏黄曲霉毒素的化学结构，从而导致毒性变小或消失，达到脱毒的效果。电子束辐照因其具有穿透性强、辐照效果好、可操作性强、对环境友好等特点而被广泛应用于中药灭菌领域。但是，单一的辐照方式对毒素的降解效果有限，且过高的辐照剂量还会破坏药材本身的有效成分。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的就是提供一种远志中黄曲霉毒素的脱除方法，以解决现有电子束辐照降解方法存在的讲解效果有限和破坏药材有效成分的问题。
[0006]本专利技术的目的是这样实现的：一种远志中黄曲霉毒素的脱除方法，将远志在浓度为2%~3%的双氧水溶液中浸泡1min~3min，捞出后沥干水分，使远志的含水量在24%~28%，使用电子束辐照沥干后的远志，辐照剂量为6kGy~10kGy。
[0007]本专利技术的目的还可这样实现：一种远志中黄曲霉毒素的脱除方法，将远志在去离子水溶液中浸泡1min~3min，捞出后沥干水分，使远志的含水量在24%~28%，使用电子束辐照沥干后的远志，辐照剂量为6kGy~10kGy。
[0008]电子束辐照通过直接氧化和间接氧化两种方式破坏有机分子结构。直接氧化方式是指通过高能脉冲将辐照对象穿透，直接破坏有机物分子。间接氧化方式是指利用射线间接与水分子发生反应，产生H
·
、
·
OH等活性自由基，一方面这些自由基会使物质发生化学变化而引起分子受破坏。而双氧水是一种强氧化性物质，可协同电子束辐照增加对黄曲霉毒素的破坏性，双氧水不稳定、易分解，分解后的产物为水和氧气，无残留、无污染。
[0009]本专利技术采用电子束辐照可以有效地降解黄曲霉毒素B1、B2、G1和G2等主要类型的黄曲霉毒素。本专利技术利用6~10kGy的电子束辐照结合调节含水量24~28%或双氧水浓度2~3%
双氧水处理可有效降解远志中黄曲霉毒素。双氧水不稳定，降解后无残留无污染。该方法可操作性强，适于大规模生产。
附图说明
[0010]图1是不同辐照剂量对远志中黄曲霉毒素的降解率直方图。
[0011]图2是辐照对不同双氧水浓度的远志中黄曲霉毒素的降解率直方图。
[0012]图3是辐照对不同含水量下远志中黄曲霉毒素的降解率直方图。
具体实施方式
[0013]下面结合附图对本专利技术做进一步详述。
[0014]实施例1：远志用去离子水溶液中浸泡处理2分钟，捞出远志沥干水分使含水量控制在24%，使用电子束辐照远志，辐照剂量为10 kGy，烘干后，测定远志的黄曲霉毒素含量及有效成分含量。
[0015]实施例2：远志用2%的双氧水溶液中浸泡处理2分钟，捞出远志沥干水分，使含水量控制在25%，使用电子束辐照远志，辐照剂量为10 kGy，烘干后，测定远志的黄曲霉毒素含量及有效成分含量。
[0016]实施例3：远志用去离子水溶液中浸泡处理1分钟，捞出远志沥干水分使含水量控制在26%，使用电子束辐照远志，辐照剂量为6 kGy，烘干后，测定远志的黄曲霉毒素含量及有效成分含量。
[0017]实施例4：远志用3%的双氧水溶液中浸泡处理1分钟，捞出远志沥干水分，使含水量控制在27%，使用电子束辐照远志，辐照剂量为7 kGy，烘干后，测定远志的黄曲霉毒素含量及有效成分含量。
[0018]实施例5：远志用去离子水溶液中浸泡处理3分钟，捞出远志沥干水分使含水量控制在28%，使用电子束辐照远志，辐照剂量为8kGy，烘干后，测定远志的黄曲霉毒素含量及有效成分含量。
[0019]实施例6：远志用2%的双氧水溶液中浸泡处理3分钟，捞出远志沥干水分，使含水量控制在25%，使用电子束辐照远志，辐照剂量为9 kGy，烘干后，测定远志的黄曲霉毒素含量及有效成分含量。
[0020]实施例7：远志用去离子水溶液中浸泡处理2.5分钟，捞出远志沥干水分使含水量控制在26%，使用电子束辐照远志，辐照剂量为7 kGy，烘干后，测定远志的黄曲霉毒素含量及有效成分含量。
[0021]实施例8：
远志用3%的双氧水溶液中浸泡处理2.5分钟，捞出远志沥干水分，使含水量控制在27%，使用电子束辐照远志，辐照剂量为9kGy，烘干后，测定远志的黄曲霉毒素含量及有效成分含量。
[0022]对比实验：1、 不同辐照剂量对远志中黄曲霉毒素的降解率的影响。
[0023]由图1可知，远志中黄曲霉毒素的降解率随辐照剂量的增加而增大，经10kGy辐照处理，远志中AFB1、AFB2、AFG1、AFG2的降解率分别为19.27%、19.64%、15.62%、15.14%，比8kGy辐照处理的黄曲霉毒素的降解率分别高4.81%、5.9%、0.75%、0.76%。其中，10kGy辐照处理的AFB1、AFB2降解率为8kGy 处理的1.3倍。处理之间的降解率差异达到显著水平；AFG1、AFG2的降解率差异不显著（P<0.05）。
[0024]2、不同双氧水浓度对辐照降解远志中黄曲霉毒素的影响。
[0025]由图2可知，经6kGy辐照处理，远志中黄曲霉毒素的降解率随双氧水浓度的增加而增大，在双氧水浓度为2%的远志所含AFB1、AFB2、AFG1、AFG2的降解率分别为22.89%、28.14%、23.22%、36.57%。比双氧水浓度为1 %的远志所含黄曲霉毒素的降解率分别提高16.71%、15.78%、6.5%、11.39%。两处理之间的降解率差异达到显著水平（P<0.05）。添加双氧水辐照处理的黄曲霉毒素降解率与未添加双氧水辐照处理的黄曲霉毒素降解率相比较，均有所提升，说明双氧水对辐照远志中的黄曲霉毒素降解有较好的促进作用。双氧水不稳定，自然环境下很快分解无残留无污染。
[0026]2、 不同含水量对辐照降解远志中黄曲霉毒素的影响。
[0027]由图3可知，经6kGy辐照处理，远志中黄曲霉毒素的降解率随含水量的增加本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种远志中黄曲霉毒素的脱除方法，其特征是，将远志在浓度为2%~3%的双氧水溶液中浸泡1min~3min，捞出后沥干水分，使远志的含水量在24%~28%，使用电子束辐照沥干后的远志，辐照剂量为6kGy~10kGy...

【专利技术属性】
技术研发人员：马力辉，李迅，赵志磊，崔炎，霍旭东，朱阔成，李春花，
申请(专利权)人：河北核力同方辐照科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：