一种用于探测形成在负载梁上凹窝位置的凹窝位置探测装置，设有照明装置（５５）、成像装置（５４）和图像处理部分（６０）。照明装置（５５）将照明光射向凹窝（３３）。成像装置（５４）从凹窝（３３）接收反射光。图像处理部分（６０）将由成像装置得到的图像二进制化。图像处理部分（６０）包括：用于使二进制化水平最大的装置（Ｓ２）、用于将反射光图像二进制化的装置（Ｓ３）、用于确定光点区域（Ｐ１）的面积或二进制化水平以上的在区域上的面积是否具有预定值的装置（Ｓ４）、当光点区域（Ｐ１）的面积小于预定值时降低二进制化水平的装置（Ｓ５、Ｓ６）、以及用于用由光点区域面积（Ｐ１）所达到的预定值来计算光点区域（Ｐ１）的重力位置的装置（Ｓ８）。
【技术实现步骤摘要】
专利技术背景本专利技术涉及一种用于探测包含在例如硬盘驱动器(HDD)内的盘驱动器 悬架的凹窝位置的装置和方法。用于向磁盘写入数据和从磁盘读取数据的硬盘驱动器包括盘驱动器悬架 (此后简称为悬架)和设置在该悬架的远端部分上的磁头。该悬架安装在托架 的致动臂上。该悬架设有基板、负载梁以及挠曲件等。该挠曲件固定到负载梁 上。包括舌部的万向架部分形成在挠曲件的一部分上。构成磁头的浮块安装在 舌部上。在负载梁的远端部分上通过冲压形成有凹窝。该凹窝基本上在朝向挠曲件 的舌部的半球内突出，且其顶部与舌部接触。凹窝的反向表面是凹的。固定在 舌部上的浮块围绕凹窝顶部沿起伏或纵摇方向摆动。因此，有必要精确地探知 凹窝(具体地是凹窝顶部)的位置。例如日本专利申请公开第2006-308425号(专利文件l)中揭示了一种用 于测量悬架的各部件的相应位置的装置。在悬架的加工工艺中， 一旦该挠曲件 固定到负载梁，凹窝就位于舌部的相反侧上。因此，专利文件1中描述的探测 装置不能光学地探测凹窝顶部的位置。即使挠曲件固定到负载梁，也可光学地观察凹窝的反向侧(凹表面)而不 被挠曲件所阻挡。由此，其专利技术人偶然发现通过从凹窝后面用照明光照射凹窝 来探测凹窝位置的想法。具体地说，将由凹窝的反向表面反射的光成像，并进 行二进制化的图像处理。然后，根据由二进制化得到的光点区域得到凹窝顶部 的位置。但是，在某些情况下如果凹窝的形状扭曲或如果凹窝表面粗糙，则不能得 到二进制化水平以上的光点区域(在区域上)。因此，如果反射光较弱，则进 行亮度调整，从而加强照明光以加强反射光，从而得到二进制化水平以上的光 点区域。但是，其专利技术人的调查揭示，如果根据亮度控制来得到凹窝位置，则不能 根据凹窝的情况精确地探测凹窝顶部的位置。在某些情况下，尤其是如果凹窝 形状扭曲，则凹窝顶部的探测位置(外观位置)可与实际凹窝顶部位置大大偏 离。以下对其原因进行说明。借助于精确冲压工具撞击负载梁的一部分并使其塑性变形来形成凹窝。因 此，随着冲压频率增加，工具可能磨损或变形，或其模制表面可能变粗糙。由 此，凹窝形状或表面可能会变得不规则或变粗糙。理想的是，凹窝具有圆弧回转体的拱顶形状(基本上半球形)，使得其顶 部位于其中心上。在该情况下，方向从其反向侧朝向凹窝的反向表面的照明光 被凹窝顶部的反向侧反射并直接射向成像元件。因此，反射光的顶点出现在对应于凹窝中心的位置，例如图9中典型地示出的反射光分布A所示。如果该反 射光较弱，反射光分布A可能有时不能超过二进制化水平SH1 。在这种情况下， 可通过加强照明光且因此通过加强反射光来得到二进制化水平SH1上方的反 射光分布。本文所述的"凹窝中心"意味着从负载梁上方看的凹窝的圆形轮廓的中心。 另一方面，"凹窝顶部"是凹窝的正向表面朝向舌部突出最远的部分(凸表面)。 在某些情况下，如果凹窝扭曲，则凹窝顶部可能与凹窝中心偏离。如果凹窝顶部与凹窝中心偏离，则反射光的顶点出现在离开凹窝中心的位 置，例如图10中典型地示出反射光分布A，，且分布A'是两侧非对称的。如果 反射光分布A'在二进制化水平SH1下方，则可通过加强照射光来实现二进制 化水平SH1上方的反射光分布B'。但是，如果加强照明光，则反射光分布B' 的顶点不可避免地从凹窝中心进一步偏离，如图10中的箭头D所示。因此， 根据由二进制化得到的光点区域得到凹窝顶部的外观位置与实际凹窝顶点位 置偏离AC。因此，不能根据凹窝的情况精确地探测顶部位置。
技术实现思路
本专利技术提供一种能够精确地探测凹窝顶部位置的凹窝位置探测装置。 本专利技术的凹窝位置探测装置包括照明装置，该照明装置将照明光射向凹 窝的正面或反向表面；成像装置，该成像装置获取由凹窝的正面或反向表面反射的光的成像；以及图像处理部分，该图像处理部分处理由成像装置获取的图 像；图像处理部分包括用于将反射光的图像二进制化的装置，用于改变二进 制化水平，从而使通过二进制化得到的光点区域面积具有预定值的装置，以及 当光点区域的面积达到预定值时，根据光点区域得到凹窝顶部位置的装置。根据该设置，通过根据由凹窝的正面或反向表面反射的光的强度改变二进 制化水平得到光点区域。当光点区域的面积达到预定值时，根据光点区域得到 凹窝顶部的位置。因此，即使凹窝顶部由于凹窝形状的不规则性而偏离凹窝中 心，也能精确地探测凹窝顶部的位置。因此，根据本专利技术，与在加强照明光的 进行常规光控制的情况相比，可更容易保持光点区域偏离凹窝顶部的实际位 置。此外，本专利技术的凹窝位置探测方法是一种用于探测形成在盘驱动器悬架的 负载梁上的凹窝的位置的方法，并包括将照明光射向凹窝的正面或反向表面 并获取由凹窝的正面或反向表面反射的光的图像的步骤；使二进制化水平最大 化的步骤；将反射光的图像二进制化的步骤；将通过二进制化得到的光点区域 的面积与预定值相比较的步骤；当光点区域的面积小于预定值时降低二进制化 水平并前进到二进制化步骤的步骤；当光点区域的面积达到预定值时，根据光 点区域得到凹窝顶部的位置的步骤；显示凹窝位置的探测结果的步骤；以及当 二进制化水平最小，光点区域的面积未达到预定值时，进行出错处理的步骤。本专利技术的其它目的和优点会在以下说明书中阐述，并部分会从说明书中变 得明显，或可从本专利技术的实践中得以了解。可通过此后具体指出的工具和组合 来实现和得到本专利技术的目的和优点。附图说明包含在本说明书中并组成说明书一部分的附图示出本专利技术的实施例，与以 上给出的总体说明和以下给出的各实施例的详细说明一起用于解释本专利技术的 原理。图1是带有悬架的盘驱动器的局部剖视图； 图2是图l所示悬架的立体图；图3是根据本专利技术一实施例的凹窝位置探测装置的立体图；图4是由图3所示凹窝位置探测装置的处理流程的实例的流程图；图5是典型地示出凹窝、照明光和反射光的轮廓的视图；图6是典型地示出凹窝顶部在凹窝中心的反射光分布和二进制化水平的图表；图7是典型地示出凹窝顶部偏离凹窝中心的反射光分布和二进制化水平 的图表；图8是示出二进制化反射光的光点区域的实例的视图； 图9是典型地示出加强照明光时凹窝顶部在凹窝中心得到的反射光分布 的图表；图10是典型地示出加强照明光时凹窝顶部偏离凹窝中心得到的反射光分 布的图表。具体实施方式现将参照图1至8描述本专利技术的一实施例。图1中所示硬盘驱动器(HDD) IO包括用作记录介质的磁盘11、悬架13 和臂(致动臂)14。头部12安装在每个悬架13上。悬架13安装在臂14上。 每个头部12用于磁性地访问(写入或读取)盘11的记录表面上的数据。图2示出悬架13的实例。该悬架13设有基板部分15、负载梁20、安装 在负载梁20上的挠曲件23等。挠曲件23通过激光点焊接等方法固定叠置到 负载梁20上。在挠曲件23的远端部分附近形成有用作可动部分的包括舌部24的万向部 分。浮块25安装在舌部24上。浮块25是头部12的部件。当盘11高速转动 时，在盘11和浮块25之间流过的空气形成空气支承，且浮块25在盘11的表 面上方轻轻飞行。飞行的浮块25的高度称为飞行高度。负载梁20具有近侧部分31和远端部分32。在负载梁32的远端部分32 附近形成有凹窝33。凹窝33的表面基本上是半球形凸表面。凹窝33朝向挠曲 件23的舌部本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种用于探测形成在盘驱动器悬架（１３）的负载梁（２０）上的凹窝（３３）的位置的装置，所述装置的特征在于包括： 照明装置（５５），所述照明装置将照明光射向所述凹窝（３３）的正面或反向表面； 成像装置（５４），所述成像装置获取由所述 凹窝（３３）的正面或反向表面反射的光的图像；以及 图像处理部分（６０），所述图像处理部分处理由所述成像装置（５４）获取的所述图像， 所述图像处理部分（６０）包括： 用于将所述反射光的所述图像二进制化的装置， 用于改变 二进制化水平，从而使通过所述二进制化得到的光点区域的面积具有预定值的装置，以及 当所述光点区域的所述面积达到所述预定值时，根据所述光点区域得到凹窝顶部位置的装置。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：本间彰，
申请(专利权)人：日本发条株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。