一种实现宽幅辉光放电的常压等离子设备制造技术

本实用新型专利技术涉及DBD宽幅辉光放电领域，且公开了一种实现宽幅辉光放电的常压等离子设备，包括外壳以及喷头，所述外壳的内部设置有气体流量控制结构，所述外壳的内部设置有高压脉冲源，所述高压脉冲源的侧面固定安装有直流电源，气体流量控制结构与喷头连接，喷头的一侧开设有等离子喷射口，喷头上安装有进气接口，喷头的另外一端设置有进电口，所述喷头内部设置有三组均压气道，所述喷头的内部设置有与进电口电性连接的宽幅电极，所述宽幅电极的外侧设置有陶瓷，该实现宽幅辉光放电的常压等离子设备，处理温度低，可用于薄膜、热敏材料处理，无静电，可用于精密元器件清洗。可用于精密元器件清洗。可用于精密元器件清洗。

【技术实现步骤摘要】
一种实现宽幅辉光放电的常压等离子设备


[0001]本技术涉及DBD宽幅辉光放电领域，具体为一种实现宽幅辉光放电的常压等离子设备。

技术介绍

[0002]常压等离子体清洗设备是在常压环境下，使用直流高压或高频高压电源，电离阴阳极之间的气体产生等离子体，再由气体带动等离子体至产品表面，以达到清洁活化作用的表面处理设备。因气体被电离后会变成导体，放电模式会由丝状发电向火花放电转化，放电会集中在尖端位置，故放电面积受限，并且火花放电处理均匀性差并伴随高压。
[0003]故现有对较大面积的清洗应用多为喷头做往返运动重复处理，或使用多个喷头并排处理，现有常压射流式喷头技术存在以下缺点：单次处理宽度受限，难以实现大面积清洗；
[0004]弧光放电，处理均匀性差；伴随高压、高热，不宜处理热敏材料及电子元器件，为此我们提出了一种实现宽幅辉光放电的常压等离子设备。

技术实现思路

[0005](一)解决的技术问题
[0006]针对现有技术的不足，本技术提供了一种实现宽幅辉光放电的常压等离子设备，解决了上述的问题。
[0007](二)技术方案
[0008]为实现上述所述目的，本技术提供如下技术方案：一种实现宽幅辉光放电的常压等离子设备，包括设备外壳以及喷头，所述外壳的内部设置有气体流量控制结构，所述外壳的内部设置有高压脉冲源，所述高压脉冲源的侧面固定安装有直流电源，气体流量控制结构与喷头连接，喷头的一侧开设有等离子喷射口，喷头上安装有进气接口，喷头的另外一端设置有进电口，所述喷头内部设置有三组均压气道，所述喷头的内部设置有与进电口电性连接的宽幅电极，所述宽幅电极的外侧设置有陶瓷。
[0009]优选的，所述进电口包括接线柱以及接线保护罩，所述接线保护罩设置在接线柱的外侧，接线柱与宽幅电极连接。
[0010]优选的，等离子喷射口为矩形长条状。
[0011]优选的，气体流量控制结构包括调压阀、节流阀以及流量计，设备外壳的侧面固定安装有调压阀以及流量计，所述设备外壳的另外一侧固定安装有触摸屏、节流阀以及开关，所述调压阀、流量计以及节流阀通过管路连接，节流阀的输出端通过管路与进气接口连接。
[0012]优选的，所述设备外壳侧面固定安装有I/O。
[0013](三)有益效果
[0014]与现有技术相比，本技术提供了一种实现宽幅辉光放电的常压等离子设备，具备以下有益效果：
[0015]1、该实现宽幅辉光放电的常压等离子设备，可实现宽幅处理，单次处理宽度可达500mm以上。
[0016]2、该实现宽幅辉光放电的常压等离子设备，辉光放电特性，保证处理均匀性。
[0017]3、该实现宽幅辉光放电的常压等离子设备，处理温度低，可用于薄膜、热敏材料处理，无静电，可用于精密元器件清洗。
附图说明
[0018]图1为本技术立体示意图；
[0019]图2为喷头剖视示意图。
[0020]图中：1、触摸屏；2、节流阀；3、开关；4、高压脉冲源；5、调压阀；6、I/O；7、流量计；8、直流电源；9、进气接口；10、进电口；11、等离子喷射口；12、接线柱；13、接线保护罩；14、均压气道；15、陶瓷；16、宽幅电极。
具体实施方式
[0021]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0022]请参阅图1
‑
2，一种实现宽幅辉光放电的常压等离子设备，包括设备外壳以及喷头，外壳的内部设置有气体流量控制结构，外壳的内部设置有高压脉冲源4，高压脉冲源4的侧面固定安装有直流电源8，气体流量控制结构与喷头连接，喷头的一侧开设有等离子喷射口11，喷头上安装有进气接口9，喷头的另外一端设置有进电口10，喷头内部设置有三组均压气道14，喷头的内部设置有与进电口10电性连接的宽幅电极16，宽幅电极16的外侧设置有陶瓷15。
[0023]进一步的，进电口10包括接线柱12以及接线保护罩13，接线保护罩13设置在接线柱12的外侧，接线柱12与宽幅电极16连接。
[0024]进一步的，等离子喷射口11为矩形长条状。
[0025]进一步的，气体流量控制结构包括调压阀5、节流阀2以及流量计7，设备外壳的侧面固定安装有调压阀5以及流量计7，所述设备外壳的另外一侧固定安装有触摸屏1、节流阀2以及开关3，调压阀5、流量计7以及节流阀2通过管路连接，节流阀2的输出端通过管路与进气接口9连接。
[0026]进一步的，设备外壳的侧面固定安装有I/O6。
[0027]工作原理：开关3闭合设备开机，调压阀5、节流阀2和流量计7控制气体流量大小，通过气管接入喷头的进气接口9，并通过喷头内的均压气道14，在等离子喷射口11处均匀喷出。触摸屏1设定好相关参数后可输出给定信号至高压脉冲源4，高压脉冲源4输出脉冲电压通过高压线缆及接线柱12传导至喷头的宽幅电极16，使包裹电极的陶瓷15极化，表面产生电子聚集，最终大量带电粒子扩散形成宏观的连续放电。陶瓷15可限制放电向电弧转化，维持稳定辉光等离子放电，保证处理均匀性。同时设备可通过I/O6实现外控、信息读取、报警及运行状态输出。
[0028]尽管已经示出和描述了本技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种实现宽幅辉光放电的常压等离子设备，其特征在于，包括设备外壳以及喷头，所述外壳的内部设置有气体流量控制结构，所述外壳的内部设置有高压脉冲源(4)，所述高压脉冲源(4)的侧面固定安装有直流电源(8)，气体流量控制结构与喷头连接，喷头的一侧开设有等离子喷射口(11)，喷头上安装有进气接口(9)，喷头的另外一端设置有进电口(10)，所述喷头内部设置有三组均压气道(14)，所述喷头的内部设置有与进电口(10)电性连接的宽幅电极(16)，所述宽幅电极(16)的外侧设置有陶瓷(15)。2.根据权利要求1所述的一种实现宽幅辉光放电的常压等离子设备，其特征在于：所述进电口(10)包括接线柱(12)以及接线保护罩(13)，所述接线保护罩(13)设置在接线柱(12)的外...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙丹，张炜，丁浩，王凯勋，孙斌，孙圣芳，
申请(专利权)人：上海悦威电子设备有限公司，
类型：新型
国别省市：