本发明专利技术提供涂敷、显影装置及涂敷、显影方法以及存储介质。在解除检查模块的故障后，迅速将制品用基板输送至该检查模块并进行检查。当所述制品用基板通过比输送路径上的所述检查模块超前ｎ个的基准模块时，对所述检查模块，输出用于对该制品用基板所属的批进行检查的检查预约信号。在所述检查模块发生故障的期间，禁止输出针对所述制品用基板的检查预约信号，将向该检查模块输送的预定的制品用基板输送至该检查模块的下个输送顺序的模块。当该检查模块的故障被解除且将用于确认检查的基板优先输送至检查模块时，输出针对所述用于确认检查的基板的检查预约信号，并输送至所述检查模块，进行该检查模块的确认检查。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及例如对半导体晶圆(wafer)或LCD基板(液晶显示 器用玻璃基板)等基板进行抗蚀剂液的涂敷处理以及曝光后的显影处 理的涂敷、显影装置及涂敷、显影方法以及存储介质。
技术介绍
对半导体器件或LCD基板等基板涂敷抗蚀剂液，并将该抗蚀剂 按规定图案曝光后，进行显影处理，从而在基板上作成所希望的抗蚀 剂图案，这一连串的处理， 一般采用在进行抗蚀剂液的涂敷处理或显 影处理的涂敷、显影装置上连接曝光装置的系统来进行。该系统将以 下功能块排列成一列而构成，该功能块是承载块(carrierblock), 载放收容了构成基板的半导体晶圆(以下称为"晶圆")的晶圆输送 盒(wafer cassette),具备对该晶圆输送盒进行晶圓交接的交接臂； 处理块，对从承载块输送的晶圆进行抗蚀剂液的涂敷处理或显影处 理；以及接口块(interfaceblock)，连接该处理块和曝光装置。可是，对于形成了抗蚀剂图案的晶圓，进行规定检查例如抗蚀剂 图案的线宽、抗蚀剂图案和基底图案的重叠度、以及显影缺陷等的检 查，仅对判定为合格的晶圆进行下个工序。这时，若采用在涂敷、显 影装置内设置检查模块的联机(in-line)系统则更加便利，因此如图 10所示，本专利技术人采用在承载块Bl和处理块B3之间隔着具备多个 检查模块11的检查块B2的结构。图中B4是接口块，B5是曝光装置。在这种系统中，所述晶圆输送盒IO内的晶圆乂人^^载块B1过4全查 块B2而不停地输送至处理块B3，在此进行抗蚀剂液的涂敷处理后， 经由接口块B4输送至曝光装置B5，进行规定曝光处理。然后，曝光后的晶圓在处理块B3中进行显影处理，然后，在检查块B2中进行规 定检查。另一方面，对于不进行检查的晶圆，在处理块B3中进行显 影处理之后，使之过检查块B2而不停地返回到承载块Bl。这时，例如逐批地预先决定对该批内的晶圓是否进行检查或在进 行检查时该检查的种类。然后例如在进行检查的场合，若承载块Bl 的交接臂(未图示)从晶圓输送盒10内取出晶圆，则从控制涂敷、 显影装置的控制部(未图示)向进行检查的检查模块输出检查预约信 号，在检查模块中对接受检查预约信号的晶圆按接受检查预约信号的 顺序进行检查。如此在向检查模块11输送晶圆之前，预先向该检查模块11输出 检查预约信号的原因在于容易制作输送程序，此外还有这样的原因， 即，由于检查模块11的准备需要规定时间，所以通过与对晶圆形成 抗蚀剂图案的处理并行进行检查模块的准备，来输送所述处理后的晶 圆至检查块B2时立即进行检查，从而抑制生产量的降低。可是检查模块11发生故障(trouble)时，对于用该检查模块11 进行检查的预定晶圆，进行旁路输送，直到解除检查模块11的故障， 并恢复。该旁路输送指的是将晶圆暂且输送至设于检查块B2的緩冲 模块12，以取代向该检查模块11的输送，由此输送到该检查模块的 下个输送目的地例如承载块Bl 。此外，当解除了检查模块11的故障时，将用于确认检查的晶圆 从承载块Bl直接输送至检查块B2，在所述检查模块11中对所述用 于确认检查的晶圆进行检查，进行用于确认该检查模块11是否正常 的确认检查。该用于确认检查的晶圆在结束该检查模块11中的检查 后，再回到承载块B1。但是，在上述结构中，尽管解除检查模块11的故障，并成为能 够使用的状态，但是还存在不会输送至检查模块11而不能接受检查 的晶圆多的问题。对这一点，借助图ll进行具体说明。图11中横轴 是时间，图11中第1级表示承载块B1中从晶圆输送盒IO取出晶圆的定时和晶圓返回到该晶圆输送盒10的定时。此外，图11中第2级 表示检查模块11中的晶圆的处理状态，第3级表示晶圆对緩沖模块 12的输送状态。首先对于第l级，以这种场合为例进行说明，即，l批由25块晶 圆设定，将各批A F的晶圓在一个检查模块11中进行检查后，使之 返回到下个输送目的地即承载块B1的场合。各批A-F左端的时刻是 承载块Bl中从该批A ~ F的晶圓输送盒10取出最初晶圆的时刻，各 批A F右端的时刻表示包括检查在内的所有处理结束的该批A~F 的最后晶圆返回到该晶圓输送盒10的定时。即，时刻T1表示批A的 最初晶圆(Al )从晶圆输送盒10被取出的时刻，时刻T4表示批A 的最后晶圆(A25)返回到晶圓输送盒10的时刻。又，在各批A-F 中，从晶圆输送盒IO取出最初晶圆时，从控制部向检查晶圆的预定 的检查模块ll输出检查预约信号。即，批A中，在最初晶圆(Al) 从晶圆输送盒10被取出的时刻Tl输出检查预约信号a。此外，若对第2级进行说明，则各批A ~ F左端的时刻相当于各 批A ~ F的最初晶圆搬入该检查模块11的时刻，各批A ~ F右端的时 刻相当于该批A ~ F的最后晶圆被从该检查模块11搬出的时刻。例如 时刻T2表示批A的最初晶圆(Al ) ^殳入4企查^t块11的定时，时刻 T4表示批A的最后晶圆(A25)从检查模块11搬出，同时下一批B 的最初晶圆(Bl )搬入该检查模块11的定时。在此，对于检查模块ll,通过设于检查块B2的输送部件来进行 晶圆交接，该输送部件例如具备2个臂，用一个臂从检查模块11取 出检查后的晶圆(A25 ),接着将保持在另 一臂上的检查前的晶圆(Bl ) 交接到该检查模块ll。因而，在晶圓(A25)取出与晶圆(Bl)交接 之间存在若干时滞(time lag),但是该时间极短，因此在这里为了方 便图示而用相同的时刻来表示。此外，时刻T4相当于第1级中该晶 圆(A25)返回到晶圆输送盒10的时刻，但是从检查模块11被取出 的晶圆(A25 )立即输送至承载块Bl ，因此在该图中为了方便说明用相同的时刻来表示。以下也同样。此外，时刻T3表示预定使用的检查模块11上发生故障的时刻， 时刻T5表示该检查模块11的故障被解除并且成为能够使用的时刻。 该例中，正在检查批A的晶圆的中途在该检查模块11上发生故障。可是如已做说明的那样，当批A ~ F的最初晶圓从晶圆输送盒10 被取出时，检查预约信号输出至检查模块11，但是检查模块ll上发 生故障且无法使用的情况下，控制部禁止输出该检查预约信号。因而 在该例中，时刻T3与时刻T5之间检查模块11因故障而处于无法使 用的状态，对于批D和批E，在这发生故障的情况下，最初晶圆从晶 圆输送盒10被取出，因此控制部不输出针对这些批D、 E的检查预约 信号。然后检查模块11的故障被解除且成为能够使用时，从晶圆输送 盒10给出用于确认;险查的晶圆CW,即使对于该用于检查确认的晶圆 CW,也在从晶圓输送盒10给出时，向检查模块11输出检查预约信 号w。因此检查模块11接受用于确认检查的晶圆CW的检查预约信 号w,作为批C的检查预约信号c之后的序号。可是，在检查模块11无法使用的时间(从时刻T3到时刻T5的 时间)，这时向该检查模块ll输送的晶圆即在检查模块ll上发生故 障之前已输出检查预约信号的晶圆、该例中为从批A的中途至最后的 晶圆、批B及批C的晶圆，已经处于向检查模块11输送的状态，因 此旁路输送至检查块B2的緩冲模块12，以取代检查模块11。这时该 例中在批C的中途检查模块11的故障被解除，对于批C的全部晶圆 预先输出了检查本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种逐批对多块制品用基板进行处理的涂敷、显影装置，其特征在于具备： 承载块，载放逐批收容多块制品用基板的制品用托架，且具有在与所述托架邻接的块之间进行基板交接的交接部件； 处理块，包括多个模块和第一基板输送部件，所述多个模块中包 含用于对从所述承载块交接的制品用基板进行抗蚀剂的涂敷处理以及对涂敷了抗蚀剂且已曝光的制品用基板进行显影处理的模块，所述第一基板输送部件对这些模块进行制品用基板的交接； 检查块，包括用于对显影处理的制品用基板按接受检查预约的顺序进行检查 的检查模块和对该检查模块进行基板交接的第二基板输送部件； 收容部，收容用于确认所述检查模块是否正常的用于确认检查的基板； 选择部件，由操作员对发生故障的所述检查模块进行选择，以选择在解除故障后优先输送所述制品用基板和所述用于确认 检查的基板中的哪一个；以及 控制部件，控制所述交接部件及第二基板输送部件， 所述控制部件执行以下步骤： 当所述制品用基板通过比输送路径上的所述检查模块超前ｎ（ｎ为１以上的整数）个的基准模块时，对所述检查模块，输出用于对该制 品用基板所属的批进行检查的检查预约信号的步骤； 在所述检查模块发生故障的期间，禁止输出针对所述制品用基板的检查预约信号，将向该检查模块输送的预定的制品用基板输送至该检查模块的下个输送顺序的模块的步骤； 当该检查模块的故障解除且所 述选择部件选择了制品用基板时，解除针对所述制品用基板的检查预约信号的输出禁止的步骤；以及 当该检查模块的故障被解除且所述选择部件选择了用于确认检查的基板时，从所述收容部搬出所述用于确认检查的基板，并输出针对该用于确认检查的基板的检查预 约信号，同时在借助所述用于确认检查的基板的所述检查模块的确认检查结束后，解除针对所述制品用基板的检查预约信号的输出禁止的步骤。...
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：金子知广，松本武志，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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