光测量装置制造方法及图纸

提供一种在不同的散射角度或不同的波长下能够简便地测定散射强度的光测量装置。具有低相干干涉仪的光测量装置具有：检测部，其具有第1检测单元及第2检测单元中的至少一个，该第1检测单元使将入射光入射到包含粒子的分散液而得到的散射光中的至少一部分与参考光发生干涉，并检测每个波长的干涉光强度，该第2检测单元使将入射光入射到包含粒子的分散液而得到的散射光中的至少一部分与参考光发生干涉，并检测每个散射角度的干涉光强度；以及转换部，其从由第1检测单元检测出的每个波长的干涉光强度的数据中取出多个分散液的特定的深度且特定的波长的散射强度，或者从由第2检测单元检测出的每个散射角度的干涉光强度的数据中取出多个分散液的特定的深度且特定的散射角度的散射强度，并将取出的散射强度的数据转换为分散液的特定的深度处的散射光的时间波动数据。间波动数据。间波动数据。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光测量装置


[0001]本专利技术涉及一种在不同的散射角度或不同的波长下测定包含粒子的分散液的散射强度的光测量装置。

技术介绍

[0002]有一种动态光散射测定法，其通过使用自相关函数或功率谱检测出使光照射到悬浊液等介质而从介质中的散射体散射的散射光强度的时间变动来调查散射体的动态特性。动态光散射测定法在粒径测定等各种测定中被广泛使用。
[0003]例如，在专利文献1中记载有一种光散射检测装置，其用于检测液态或气态试样中的微粒，该光散射检测装置具备：透明的试样池，保持试样；第1光源构件，射出具有第1波长或第1波长范围的静态光散射测定用的光；第2光源构件，射出具有与第1波长或第1波长范围不同的第2波长或第2波长范围的动态光散射测定用的光；第1检测构件，由多个检测器构成，该检测器配置成以试样池为中心环绕，为了检测出根据静态光散射测定用的光的照射从试样池向周围以不同的散射角散射的光而能够选择性地检测出第1波长或第1波长范围；第2检测构件，由一个或多个检测器构成，该检测器配置成以试样池为中心环绕，为了检测出根据动态光散射测定用的光的照射从试样池向周围以不同的散射角散射的光而能够选择性地检测出第2波长或第2波长范围；以及运算处理构件，在由第1光源构件照射的静态光散射测定用的光和由第2光源构件照射的动态光散射测定用的光同时照射到试样池时并行接收由第1检测构件检测出的检测信号和由第2检测构件检测出的检测信号，并根据前者执行基于静态光散射法的运算，并且根据后者执行基于动态光散射法的运算。
[0004]以往技术文献r/>[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2008
‑
39539号公报

技术实现思路

[0007]专利技术要解决的技术课题
[0008]在专利文献1中，准备波长或波长范围不同的第1光源构件和第2光源构件这两个光源构件，将来自这些光源构件的出射光同轴或非同轴地同时照射到试样池。为了同轴地照射两个光束，例如还需要具备将由第1光源构件照射的照射光和由第2光源构件照射的照射光沿着同一光路导入到试样池中的光合并构件。在专利文献1中，需要多个光源和多个检测器，装置结构会大型化。从该观点而言，对于测定波长数的增加或散射角度的分辨率提高是不利的。此外，为了检测从试样中的同一个部位产生的散射光，需要与检测器和光源的数量相当的调整光轴的劳力。并且，在多重散射的悬浊液中，由于会检测出因粒子而多次散射的信号，因此无法进行测定。在专利文献1中，难以在不同的散射角度或不同的波长下简便地测定包含粒子的分散液或悬浊液的散射强度。
[0009]本专利技术的目的在于提供一种在不同的散射角度或不同的波长下能够简便地测定
散射强度的光测量装置。
[0010]用于解决技术课题的手段
[0011]为了实现上述的目的，本专利技术的一方式提供一种光测量装置，其具有低相干干涉仪，该光测量装置具有：检测部，其具有第1检测单元及第2检测单元中的至少一个，该第1检测单元使将入射光入射到包含粒子的分散液而得到的散射光中的至少一部分与参考光发生干涉，并检测每个波长的干涉光强度，该第2检测单元使将入射光入射到包含粒子的分散液而得到的散射光中的至少一部分与参考光发生干涉，并检测每个散射角度的干涉光强度；以及转换部，其从由第1检测单元检测出的每个波长的干涉光强度的数据中取出多个分散液的特定的深度且特定的波长的散射强度的数据，或者从由第2检测单元检测出的每个散射角度的干涉光强度的数据中取出多个分散液的特定的深度且特定的散射角度的散射强度的数据，并将取出的散射强度的数据转换为分散液的特定的深度处的散射光的时间波动数据。
[0012]优选具有运算部，该运算部使用由转换部获取的时间波动数据计算出粒子的粒径。
[0013]优选具有运算部，该运算部通过将由转换部获取的时间波动数据和对由转换部获取的时间波动数据进行时间平均所得的时间平均数据针对规定了粒径与散射强度的关系的理论公式进行拟合而得到分散液中所包含的每一种粒子的粒度分布。
[0014]优选具有存储部，该存储部存储根据已知的粒子的复折射率、粒径及形状求出的、与已知的粒子的散射光强度相关的散射角度依赖数据及与散射光强度相关的波长依赖数据中的至少一个，并且具有运算部，该运算部通过将从由转换部获取的时间波动数据得到的散射角度依赖数据或从由转换部获取的时间波动数据得到的散射光的波长依赖数据针对存储部所存储的与已知的粒子的散射光强度相关的散射角度依赖数据或与散射光强度相关的波长依赖数据进行拟合而得到分散液中所包含的每一种粒子的粒度分布。
[0015]优选具有存储部，该存储部存储由已知的粒子的复折射率、粒径及形状求出的、与已知的粒子的散射光强度相关的散射角度依赖数据及与散射光强度相关的波长依赖数据中的至少一个，并且具有运算部，该运算部使用存储部所存储的与已知的粒子的散射光强度相关的散射角度依赖数据或与散射光强度相关的波长依赖数据来实施分散液中的粒子的粒子种类及分散液中的粒子的状态中的至少一个的判定。
[0016]第1检测单元优选具有如下的光检测器，该光检测器对与参考光发生了干涉的散射光进行波长分解并按每个波长检测出波长分解后的散射光。
[0017]第2检测单元优选具有按每个散射角度检测出与参考光发生了干涉的散射光的光检测器。
[0018]优选具有控制入射光的偏振状态的偏振控制部，第1检测单元或第2检测单元测定散射光的偏振成分的光强度作为散射强度。
[0019]优选具有控制入射光的中心波长及波长范围的光谱调整部。
[0020]例如，散射光的时间波动数据为功率谱或自相关函数。
[0021]专利技术效果
[0022]根据本专利技术，可提供一种在不同的散射角度或不同的波长下能够简便地测定散射强度的光测量装置。
附图说明
[0023]图1是表示本专利技术的实施方式的光测量装置的第1例的示意图。
[0024]图2是表示通过本专利技术的实施方式的光测量方法的第1例得到的功率谱的一例的图表。
[0025]图3是表示通过本专利技术的实施方式的光测量方法的第1例得到的自相关函数的一例的图表。
[0026]图4是表示在本专利技术的实施方式的光测量方法的第1例中得到的干涉光谱的一例的图表。
[0027]图5是表示在本专利技术的实施方式的光测量方法的第1例中得到的分散液的深度方向的散射分布的一例的图表。
[0028]图6是表示在本专利技术的实施方式的光测量方法的第1例中得到的关注深度区域的电场的时间响应的一例的图表。
[0029]图7是表示在本专利技术的实施方式的光测量方法的第1例中得到的功率谱的一例的图表。
[0030]图8是表示在本专利技术的实施方式的光测量方法的第1例中得到的时间相关函数的一例的图表。
[0031]图9是表示散射强度的波长依赖性的图表。
[0032]图10是表示静态光散射强度的波长依赖性的图表。
[0033]图11是表示用于说明本专利技术的实施方式的光测本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光测量装置，其具有低相干干涉仪，所述光测量装置具有：检测部，其具有第1检测单元及第2检测单元中的至少一个，所述第1检测单元使将入射光入射到包含粒子的分散液而得到的散射光中的至少一部分与参考光发生干涉，并检测每个波长的干涉光强度，所述第2检测单元使将所述入射光入射到包含所述粒子的所述分散液而得到的所述散射光中的至少一部分与所述参考光发生干涉，并检测每个散射角度的干涉光强度；以及转换部，其从由所述第1检测单元检测出的所述每个波长的所述干涉光强度的数据中取出多个所述分散液的特定的深度且特定的波长的散射强度的数据，或者从由所述第2检测单元检测出的所述每个散射角度的所述干涉光强度的数据中取出多个所述分散液的特定的深度且特定的散射角度的散射强度的数据，并将取出的所述散射强度的数据转换为所述分散液的所述特定的深度处的散射光的时间波动数据。2.根据权利要求1所述的光测量装置，其中，所述光测量装置具有运算部，所述运算部使用由所述转换部获取的所述时间波动数据计算出所述粒子的粒径。3.根据权利要求1所述的光测量装置，其中，所述光测量装置具有运算部，所述运算部通过将由所述转换部获取的时间波动数据和对由所述转换部获取的时间波动数据进行时间平均所得的时间平均数据针对规定了粒径与散射强度的关系的理论公式进行拟合而得到所述分散液中所包含的每一种粒子的粒度分布。4.根据权利要求2所述的光测量装置，其中，所述光测量装置具有存储部，所述存储部存储根据已知的粒子的复折射率、粒径及形状求出的、与所述已知的粒子的散射光强度相关的散射角度依赖数据及与散射光强度相关的波长依赖数据中的至少一个，所述光测量装置具有运算部，所述运算部通过将从由所述转换部获取的时间波动数据得到的散射...

【专利技术属性】
技术研发人员：中村崇市郎，滨田健一，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：