氧化铁和/或氢氧化铁用还原剂组合物制造技术

本发明专利技术提供氧化铁和/或氢氧化铁用还原剂组合物、以及使该还原剂组合物接触氧化铁和/或氢氧化铁的氧化铁和/或氢氧化铁的还原方法，所述氧化铁和/或氢氧化铁用还原剂组合物是含有成分(A)～(C)、且pH为7～11的范围内的还原剂组合物，在含有成分(B)及(C)的水溶液中溶解成分(A)时的氧化还原电位在开始溶解成分(A)后20分钟以内成为

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】氧化铁和/或氢氧化铁用还原剂组合物


[0001]本专利技术涉及氧化铁和/或氢氧化铁用还原剂组合物以及使用了它的氧化铁和/或氢氧化铁的还原方法。

技术介绍

[0002]对于与水接触的机械、设备等，氧化铁在各种环境下产生，而使机械、设备的性能降低。例如，在自来水用配管、发电站用锅炉配管、居住环境设备等中，由于氧化铁的附着，产生性能的降低、卫生上或外观上的不利情况。另外，在核电站的废炉中，需要放射性物质的清除放射污染作业，由于放射性物质以被炼入附着于母材的氧化铁被膜中的方式存在，因此期望将氧化铁被膜高效地溶解。
[0003]因而，提出过各种各样的氧化铁除去技术。例如，专利文献1中，公开过含有二氧化硫脲、特定的碱金属无水盐及碱金属碳酸氢盐的还原剂组合物。专利文献2中，记载有包含碱性化合物、水溶性的金属螯合剂及二氧化硫脲的除锈用组合物。
[0004]专利文献1：日本特开昭57
‑
128767号公报
[0005]专利文献2：国际公开第2002/088427号小册子

技术实现思路

[0006]专利技术所要解决的课题
[0007]本专利技术提供一种氧化铁和/或氢氧化铁用还原剂组合物，是含有以下的成分(A)～(C)、且pH为7～11的范围内的还原剂组合物，在含有成分(B)及(C)的水溶液中溶解成分(A)时的氧化还原电位在开始溶解成分(A)后20分钟以内成为
‑
600mV以下，并且氧化还原电位的变化率在60分钟以内成为0mV/分钟以上的值。
[0008](A)还原剂
[0009](B)水溶性金属螯合剂
[0010](C)胺化合物
[0011]此外，本专利技术提供一种氧化铁和/或氢氧化铁的还原方法，该还原方法中，使所述的还原剂组合物接触氧化铁和/或氢氧化铁。
具体实施方式
[0012]专利文献2中记载的除锈用组合物中，主要使用苛性碱作为碱性化合物。另外，通过将二氧化硫脲和碱剂在水溶液中混合而生成作为氧化铁的还原种的连二亚硫酸，由此发生还原反应。但是，专利文献1中使用的碱金属碳酸氢盐、专利文献2中使用的苛性碱均存在以下问题：连二亚硫酸的生成速度慢，因此会与还原种因水中的溶解氧而失活的速度发生竞争，氧化铁的溶解时间和溶解量不充分。
[0013]因而，本专利技术涉及氧化铁和/或氢氧化铁用还原剂组合物以及使用其的氧化铁和/或氢氧化铁的还原方法，该氧化铁和/或氢氧化铁用还原剂组合物能够由二氧化硫脲迅速
地生成作为还原活性种的连二亚硫酸，无限地抑制由水中的溶解氧所致的还原种的失活，由此能够充分地发挥氧化铁和/或氢氧化铁的还原速度。
[0014]本专利技术人研究了各种碱剂，结果发现，通过使用胺化合物作为碱剂，能够由二氧化硫脲迅速地生成作为还原活性种的连二亚硫酸。由此，无限地抑制由水中的溶解氧所致的还原种的失活，能够充分地发挥氧化铁和/或氢氧化铁的还原速度。其结果是发现，能够将氧化铁和/或氢氧化铁还原溶解至接近二氧化硫脲的化学计量的量为止，从而完成了本专利技术。
[0015]本专利技术的氧化铁和/或氢氧化铁用还原剂组合物能够由二氧化硫脲迅速地生成作为还原活性种的连二亚硫酸，由此能够无限地抑制由水中的溶解氧所致的还原种的失活而充分地发挥氧化铁和/或氢氧化铁的还原速度。
[0016]〔成分(A)：还原剂〕
[0017]可以合适地使用二氧化硫脲作为成分(A)的还原剂。对于本专利技术的还原剂组合物中的成分(A)的含量，从氧化铁和/或氢氧化铁的溶解量高的观点出发，优选为0.01质量％以上，更优选为0.02质量％以上，进一步优选为0.03质量％以上，另外，从还原剂的溶解度的观点出发，优选为7.8质量％以下，更优选为7.0质量％以下，进一步优选为5.0质量％以下。
[0018]〔成分(B)：水溶性金属螯合剂〕
[0019]作为成分(B)的水溶性金属螯合剂，可以举出次氮基三乙酸、乙二胺四乙酸、二亚乙基三胺五乙酸、羟基乙基乙二胺三乙酸、三亚乙基四胺六乙酸、1,3
‑
丙二胺四乙酸、1,3
‑
二氨基
‑2‑
羟基丙烷四乙酸、羟基乙基亚氨基二乙酸、二羟基乙基甘氨酸、乙二醇醚二胺四乙酸、二羧基甲基谷氨酸、乙二胺
‑
N,N'
‑
二琥珀酸、L
‑
天冬氨酸
‑
N,N
‑
二乙酸、N
‑
(2
‑
羟基乙基)亚氨基二乙酸、甲基甘氨酸二乙酸、3
‑
羟基
‑
2,2'
‑
亚氨基二琥珀酸、L
‑
谷氨酸二乙酸、它们的盐等氨基羧酸系化合物；羟基乙叉二膦酸、次氮基三(甲基膦酸)、2
‑
膦酸丁烷
‑
1,2,4
‑
三羧酸、乙二胺四亚甲基膦酸、它们的盐等膦酸系化合物；葡糖酸、柠檬酸、它们的盐等羟基羧酸系化合物。它们当中，优选氨基羧酸系化合物、膦酸系化合物。
[0020]关于本专利技术的还原剂组合物中的成分(B)的含量，从氧化铁和/或氢氧化铁的溶解量高的观点出发，优选为0.01质量％以上，更优选为0.02质量％以上，进一步优选为0.03质量％以上，另外，从金属螯合剂的溶解度的观点出发，优选为40质量％以下，更优选为30质量％以下，进一步优选为20质量％以下。
[0021]关于本专利技术的还原剂组合物中的成分(A)与成分(B)的合计含量，从氧化铁和/或氢氧化铁的溶解量高的观点出发，优选为0.03质量％以上，更优选为0.04质量％以上，进一步优选为0.05质量％以上，另外，从成分(A)及成分(B)的溶解度的观点出发，优选为40质量％以下，更优选为30质量％以下，进一步优选为20质量％以下。
[0022]另一方面，在将本专利技术应用于核电站的原子炉设备的放射性物质的清除放射污染作业的情况下，由于氧化铁和/或氢氧化铁被与放射性物质一起溶解，因此为了减少对操作员的被辐照量，有时需要抑制氧化铁和/或氢氧化铁的溶解量。从该观点出发，在放射性物质的清除放射污染作业中使用本专利技术的还原剂组合物的情况下，本专利技术的还原剂组合物中的成分(A)与成分(B)的合计含量优选为0.01质量％以上，更优选为0.02质量％以上，进一步优选为0.03质量％以上，另外，从为了减少被辐照量而不溶解必需程度以上的氧化铁和/
或氢氧化铁的观点出发，优选为0.2质量％以下，更优选为0.1质量％以下，进一步优选为0.08质量％以下。
[0023]〔成分(C)：胺化合物〕
[0024]作为成分(C)的胺化合物，可以举出肼、甲胺、单乙醇胺、N,N
‑
二甲基氨基乙醇、N,N
‑
二乙基氨基乙醇、N,N
‑
二丁基氨基乙醇、N
‑
(β
‑
氨基乙基)乙醇胺、N
‑
甲基乙醇胺、2
‑
乙基氨基乙醇、单本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种氧化铁和/或氢氧化铁用还原剂组合物，其是含有以下的成分A～C、且pH为7～11的范围内的还原剂组合物，在含有成分B及C的水溶液中溶解成分A时的氧化还原电位在开始溶解成分A后20分钟以内成为
‑
600mV以下，并且氧化还原电位的变化率在60分钟以内成为0mV/分钟以上的值，A：还原剂；B：水溶性金属螯合剂；C：胺化合物。2.根据权利要求1所述的还原剂组合物，其中，成分A为二氧化硫脲。3.根据权利要求1或2所述的还原剂组合物，其中，成分B为氨基羧酸系化合物。4.根据权利要求1～3中任一项所述的还原剂组合物，其中，成分C为具有1,2

【专利技术属性】
技术研发人员：牛尾典明，
申请(专利权)人：花王株式会社，
类型：发明
国别省市：