一种丙二醇甲醚醋酸酯的制备方法技术

本发明专利技术提供了一种丙二醇甲醚醋酸酯的制备方法，涉及有机合成技术领域。本发明专利技术将丙二醇甲醚、醋酸、催化剂和复合溶剂混合进行酯化反应，得到丙二醇甲醚醋酸酯，所述酯化反应的过程中，生成的水与复合溶剂共沸带出；所述催化剂包括对甲苯磺酸和/或甲烷磺酸，所述复合溶剂包括低沸点非极性溶剂和低沸点极性溶剂；所述酯化反应的温度为75～100℃，时间为4～8h。本发明专利技术采用复合溶剂，协同高活性有机酸催化剂，可使酯化反应在较低的温度(75～100℃)、较短的反应时间(4～8h)内完成，从而保证了丙二醇甲醚醋酸酯产品的高收率和高质量，并降低丙二醇甲醚醋酸酯生产的能耗，为丙二醇甲醚醋酸酯大规模生产提供了强有力的技术支撑。酸酯大规模生产提供了强有力的技术支撑。

【技术实现步骤摘要】
一种丙二醇甲醚醋酸酯的制备方法


[0001]本专利技术涉及有机合成
，尤其涉及一种丙二醇甲醚醋酸酯的制备方法。

技术介绍

[0002]丙二醇甲醚醋酸酯是一种无色透明具有芳香味、性能优良(热稳定性好、粘度变化小)的低毒高级工业溶剂，其分子结构特殊，既存在不同烷基，也有醚、酯基羰基，因此丙二醇甲醚醋酸酯对极性物质和非极性物质都具有良好的溶解能力，广泛应用于涂料、油墨、纺织及高分子助剂、液晶显示清洗剂等工业中。近年来随着芯片技术的蓬勃发展，在半导体、PCB、LCD等领域中广泛应用的光刻胶逐渐成为热门电子化学品。光刻胶是光刻工艺最重要的耗材，其性能决定了加工成品的精密程度和良品率，而光刻工艺又是精密电子元器件制造的关键流程，这使得光刻胶在整个电子元器件加工产业，都有着至关重要的地位。而溶剂作为光刻胶中用量最大的材料，含量最高可达90％，其主要作用是使光刻胶形成均匀分散的溶液体系，具备流动性，方便涂布在器件表面，同时也作为光刻化学反应的介质。当下国内外市场上各品种光刻胶所用溶剂绝大多数正是丙二醇甲醚醋酸酯，海外简称PGMEA，国内又简称PMA。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种丙二醇甲醚醋酸酯的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将丙二醇甲醚、醋酸、催化剂和复合溶剂混合进行酯化反应，得到丙二醇甲醚醋酸酯，所述酯化反应的过程中，生成的水与复合溶剂共沸带出；所述催化剂包括对甲苯磺酸和/或甲烷磺酸，所述复合溶剂包括低沸点非极性溶剂和低沸点极性溶剂，所述低沸点非极性溶剂包括正己烷、环己烷、苯和二甲苯中的一种或几种，所述低沸点极性溶剂包括正庚醇、甲苯、四氢呋喃和异丙醚中的一种或几种；所述酯化反应的温度为75～100℃，时间为4～8h。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述丙二醇甲醚与醋酸的摩尔比为1：1.2～1.8。3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述催化剂的质量为丙二醇甲醚与醋酸总质量的0.5～3％。4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述复合溶剂中低沸点非极性溶剂与低沸点极性溶剂的质量比为1:1.5～2.5。5.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：车飞，沈丹艳，张景清，王利民，蔡建培，车方元，
申请(专利权)人：上海邦高化学有限公司，
类型：发明
国别省市：