一种照射光学系统，是用于朝对象物照射第1光的照射光学系统，具备：光源，其包含：面发光元件，其自光出射面出射上述第1光；及透镜部，其用于提高自上述面发光元件出射的上述第1光的指向性；光整形构件，其自光入射面入射自上述光源出射的上述第1光，用于将入射的上述第1光通过光通过孔予以整形并出射；及第1透镜，其用于将自上述光整形构件出射的上述第1光的像在上述对象物成像；上述面发光元件的光出射面与上述光整形构件的光入射面的距离为上述光出射面的一方向上的大小的26倍以下。出射面的一方向上的大小的26倍以下。出射面的一方向上的大小的26倍以下。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】照射光学系统、照射装置及光学测定装置
[0001]本专利技术涉及一种照射光学系统、照射装置及光学测定装置。
技术介绍
[0002]在专利文献1及专利文献2中记载有被用于试样浓度测定装置的光学部。这些光学部具备：成为光源的半导体激光器；准直透镜，其将自半导体激光器出射的光束转换成平行光束；圆柱透镜，其将通过准直透镜的光束经由开口及分束器入射，并将该光束导引至免疫层析试片；及光学台，其收纳这些构件。
[0003]在这些试样浓度测定装置中，自半导体激光器出射的光束经由准直透镜而成为平行光束。该平行光束经由开口朝偏光分束器入射。透过偏光分束器的光束朝圆柱透镜入射，通过圆柱透镜而仅在免疫层析试片的长度方向成像且朝免疫层析试片照射。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2003
‑
98078号公报
[0007]专利文献2：日本特开2002
‑
98631号公报
技术实现思路
[0008]专利技术所要解决的问题
[0009]在上述的试样浓度测定装置中，将自半导体激光器出射的光束通过圆柱透镜而设为椭圆形状、或利用开口而设为矩形形状，并朝添加有试样的免疫层析试片照射，由此，可缓和宽度方向的呈色不均对于免疫层析试片的影响。然而，在专利文献1、2所记载的光学部中，虽然言及将光束设为椭圆形状或矩形形状，但未言及该椭圆形状或矩形形状的光束的照射面内的照度分布的均匀化，也不具备用于此的结构。因此，在专利文献1、2所记载的试样浓度测定装置中，难以对免疫层析试片实现均匀的光照射。
[0010]本专利技术的目的在于提供一种可实现更均匀的光照射的照射光学系统、照射装置及光学测定装置。
[0011]解决问题的技术手段
[0012]本专利技术的照射光学系统是用于朝对象物照射第1光的照射光学系统，具备：光源，其包含：面发光元件，其自光出射面出射第1光；及透镜部，其用于提高自面发光元件出射的第1光的指向性；光整形构件，其用于将自光源出射的第1光自光入射面入射，且将入射的第1光通过光通过孔予以整形并出射；及第1透镜，其用于使自光整形构件出射的第1光的像在对象物成像；面发光元件的光出射面与光整形构件的光入射面的距离为光出射面的一方向上的大小的26倍以下。
[0013]在该照射光学系统中，自光源出射的第1光在由光整形构件予以整形后，经由第1透镜朝对象物照射。光源包含：面发光元件；及透镜部，其用于提高自面发光元件出射的第1光的指向性。而且，面发光元件的光出射面与光整形构件的光入射面的距离为面发光元件
的光出射面的一方向的大小的26倍以下。根据本专利技术人的见解，在与如上所述用于提高指向性的透镜部并用的面发光元件中，在该光出射面的尺寸的26倍以内的较近的距离范围内，为较高的光量，且获得均匀的照度分布。因此，通过将在配置于上述的距离范围内的光整形构件的入射面上的第1光的像利用第1透镜在对象物成像，而可对于对象物实现更均匀的光照射。此外，面发光元件的光出射面的一方向的大小作为一个例子，在面发光元件的光出射面具有长度方向的情况下，为该长度方向的大小。
[0014]本专利技术的照射光学系统也可具备第2透镜，所述第2透镜配置于光源与第1透镜之间，用于修正在第1透镜产生的像差。该情况下，可实现更均匀的光照射。
[0015]在本专利技术的照射光学系统中，第2透镜也可配置于光源与光整形构件之间、或光整形构件与第1透镜之间，具有提高自光源出射的第1光的指向性的功能。该情况下，降低因第1光的扩散所致的损失。
[0016]在本专利技术的照射光学系统中，第2透镜也可固定于光整形构件。该情况下，无需另行保持第2透镜的机构。
[0017]在本专利技术的照射光学系统中，也可是光源包含将面发光元件密封的光透过性的透光部，且透镜部形成于透光部且与面发光元件一体化。该情况下，可容易进行面发光元件及透镜部的处理及定位。
[0018]本专利技术的照射光学系统也可具备第1波长选择滤波器，所述第1波长选择滤波器设置于光源与第1透镜之间，用于将第1光中的一部分的波长成分朝向第1透镜选择性透过。该情况下，可将第1光中的一部分的波长成分选择性地朝对象物照射。
[0019]本专利技术的照射装置具备：上述的照射光学系统、及收纳照射光学系统的壳体，壳体包含：第1空间部，其形成有第1光的光路；及第1内壁面，其划定第1空间部。根据该照射装置，可发挥与上述的照射光学系统同样的效果。另外，根据该照射装置，由于将上述的照射光学系统收纳于壳体，因而该处理变得容易。
[0020]在本专利技术的照射装置中，也可是在第1空间部，在光整形构件与第1透镜之间形成有经扩宽的第1扩宽部，第1内壁面在第1扩宽部中，包含与第1光的光路交叉且面向光整形构件侧的第1交叉面。该情况下，通过自光整形构件朝向第1透镜以一定以上的角度倾斜地行进的光由第1交叉面捕集，而抑制杂散光的产生。
[0021]本专利技术的照射装置也可具备第1光检测器，所述第1光检测器以面向第1光的光路的方式设置于第1内壁面，用于通过检测自光源出射且扩散的第1光的一部分，而检测自光源出射的第1光的光量。该情况下，可监视第1光的光量。
[0022]本专利技术的照射装置也可具备驱动电路，所述驱动电路用于自第1光检测器输入表示第1光的光量的检测信号，且以该光量为一定的方式驱动面发光元件。该情况下，可实现稳定的光量下的光照射。
[0023]在本专利技术的照射装置中，壳体也可由对于第1光具有吸收性的材料构成。或者，在本专利技术的照射装置中，壳体也可由不因第1光而产生自体荧光的材料构成。这些情况下，更可靠地抑制杂散光的产生。
[0024]本专利技术的光学测定装置具备：上述的照射装置；及检测光学系统，其用于检测来自被照射第1光的对象物的第2光；壳体进一步收纳检测光学系统，且包含：第2空间部，其形成有第2光的光路；及第2内壁面，其划定第2空间部；检测光学系统具备：第2光检测器，其用于
检测第2光；及第3透镜，其用于将第2光朝向第2光检测器聚光。根据该光学测定装置，通过检测来自通过上述的照射光学系统及照射装置而接收到均匀的光照射的对象物的第2光，而可进行对象物的稳定的测定。
[0025]本专利技术的光学测定装置也可具备第2波长选择滤波器，所述第2波长选择滤波器配置于第3透镜与第2光检测器之间，用于将第2光中的一部分的波长成分朝向第2光检测器选择性地透过。该情况下，可选择性地检测第2光中的一部分的波长成分。
[0026]在本专利技术的光学测定装置中，也可是在第2空间部，在第3透镜与第2波长选择滤波器之间形成有经扩宽的第2扩宽部，第2内壁面在第2扩宽部中，包含与第2光的光路交叉且面向第3透镜侧的第2交叉面。该情况下，通过自第3透镜朝向第2波长选择滤波器以一定以上的角度倾斜地行进的光由第2交叉面捕集，而限制朝第2波长选择滤波器入射的第2光的入射角的范围。由此，可降低第2波长选择滤波器的特性的入射角度依赖性的影响，可进行高精度的测定。...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种照射光学系统，其中，是用于朝对象物照射第1光的照射光学系统，具备：光源，其包含：面发光元件，其自光出射面出射所述第1光；及透镜部，其用于提高自所述面发光元件出射的所述第1光的指向性；光整形构件，其自光入射面入射自所述光源出射的所述第1光，用于将入射的所述第1光通过光通过孔予以整形并出射；及第1透镜，其用于将自所述光整形构件出射的所述第1光的像在所述对象物成像，所述面发光元件的光出射面与所述光整形构件的光入射面的距离为所述光出射面的一方向上的大小的26倍以下。2.如权利要求1所述的照射光学系统，其中，具备第2透镜，所述第2透镜配置于所述光源与所述第1透镜之间，且用于修正在所述第1透镜产生的像差。3.如权利要求2所述的照射光学系统，其中，所述第2透镜配置于所述光源与所述光整形构件之间、或所述光整形构件与所述第1透镜之间，具有提高自所述光源出射的所述第1光的指向性的功能。4.如权利要求2或3所述的照射光学系统，其中，所述第2透镜固定于所述光整形构件。5.如权利要求1～4中任一项所述的照射光学系统，其中，所述光源包含将所述面发光元件密封的光透过性的透光部，所述透镜部形成于所述透光部且与所述面发光元件一体化。6.如权利要求1～5中任一项所述的照射光学系统，其中，具备第1波长选择滤波器，所述第1波长选择滤波器设置于所述光源与所述第1透镜之间，用于将所述第1光中的一部分的波长成分朝向所述第1透镜选择性地透过。7.一种照射装置，其中，具备：权利要求1～6中任一项所述的照射光学系统；及壳体，其收纳所述照射光学系统，所述壳体包含：第1空间部，其形成有所述第1光的光路；及第1内壁面，其划定所述第1空间部。8.如权利要求7所述的照射装置，其中，在所述第1空间部，在所述光整形构件与所述第1透镜之间形成有经扩宽的第1扩宽部，所述第1内壁面在所述第1扩宽部中，包含与所述第1光的光路交叉且面向所述光整形构件侧的第1交叉面。9.如权利要求7或8所述的照射装置，其中，具备第1光检测器，所述第1光检测器以面向所述第1光的光路的方式设置于所述第1内壁面，用于通过检测自所述光源出射且扩散的所述第1光的一部分，而检测自所述光源出射的所述第1光的光量。
10.如权利要求...
【专利技术属性】
技术研发人员：小野田浩久，松村朋和，近藤房宣，森下直计，
申请(专利权)人：浜松光子学株式会社，
类型：发明
国别省市：
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