一种硅片湿法刻蚀的水膜铺设机构制造技术

本实用新型专利技术涉及太阳能硅片生产设备领域，具体为一种硅片湿法刻蚀的水膜铺设机构，包括外壳、电动辊、以及水箱，所述外壳的内壁顶端滑动设置有支架，所述支架上滑动设置有连块，所述连块的底端固定连接有喷头，所述喷头与所述水箱之间通过第一软管相连接，其中，所述外壳与所述支架之间设置有供所述支架滑动的第一导向组件。本实用新型专利技术通过喷头、动力组件以及往复驱动组件等共同作用，可以使喷头水平横向往复移动的同时进行水平纵向的间歇移动，当硅片移动到喷头的下方时，可以使喷头的喷水范围完全覆盖住整个硅片的表面，避免了由于喷头的位置固定导致水不能均匀的喷洒到硅片上，保证了硅片上水膜的铺设效果。了硅片上水膜的铺设效果。了硅片上水膜的铺设效果。

【技术实现步骤摘要】
一种硅片湿法刻蚀的水膜铺设机构


[0001]本技术涉及太阳能硅片生产设备领域，具体为一种硅片湿法刻蚀的水膜铺设机构。

技术介绍

[0002]太阳能硅片在湿法刻蚀处理前需要在其表面喷淋一层水膜，防止刻蚀工艺过程对硅片正面PN结的破坏。
[0003]现有的水膜铺设机构的喷头通常是固定安装在传动辊的上方，当传动辊带动硅片移动到喷头的下方时，喷头将水喷洒到硅片的表面，然而，当硅片的形状较为宽大时，固定喷头的喷水范围难以完全覆盖住硅片的表面，导致喷头不能将水均匀的喷洒到硅片上，从而造成水膜的铺设效果较差。

技术实现思路

[0004]基于上述
技术介绍
中所提到的现有技术中的不足之处，本技术提供了一种硅片湿法刻蚀的水膜铺设机构。
[0005]本技术通过采用如下技术方案克服以上技术问题，具体为：
[0006]一种硅片湿法刻蚀的水膜铺设机构，包括外壳、电动辊、以及水箱，所述外壳的内壁顶端滑动设置有支架，所述支架上滑动设置有连块，所述连块的底端固定连接有喷头，所述喷头与所述水箱之间通过第一软管相连接；
[0007]其中，所述外壳与所述支架之间设置有供所述支架滑动的第一导向组件，所述外壳与所述支架之间还设置有对所述支架滑动提供驱动作用的动力组件，所述支架与所述连块之间设置有供所述连块滑动的第二导向组件，所述支架与所述连块的内部还设置有作用于所述连块的往复驱动组件，所述外壳的内部靠近所述电动辊的底端位置设置有集液组件。
[0008]作为本技术进一步的方案：所述第一导向组件包括设置于所述外壳内壁顶端的滑轨、以及滑动设置于所述滑轨上并与所述支架固定连接的滑块。
[0009]作为本技术再进一步的方案：所述动力组件包括安装于所述外壳内壁顶端的伺服电机、连接于所述伺服电机输出轴一端的螺杆、以及螺纹套接于所述螺杆上并与所述支架固定连接的螺套。
[0010]作为本技术再进一步的方案：所述第二导向组件包括设置于连块两侧并与所述支架固定连接的滑竿、以及滑动套合于所述滑竿上并与所述连块固定连接的滑套。
[0011]作为本技术再进一步的方案：所述往复驱动组件包括安装于所述支架上的电动机、连接于所述电动机输出轴一端的臂杆、以及固定于所述臂杆一端并插设于所述连块内部的插柱。
[0012]作为本技术再进一步的方案：所述集液组件包括设置于所述外壳内部靠近所述电动辊下方位置的水槽、以及设置于所述水槽底端并与所述水槽相连接的泵机，所述泵
机与所述水箱之间连接有第二软管。
[0013]采用以上结构后，本技术相较于现有技术，具备以下优点：通过喷头、动力组件以及往复驱动组件等共同作用，可以使喷头水平横向往复移动的同时进行水平纵向的间歇移动，当硅片移动到喷头的下方时，可以使喷头的喷水范围完全覆盖住整个硅片的表面，避免了由于喷头的位置固定导致水不能均匀的喷洒到硅片上，保证了硅片上水膜的铺设效果。
附图说明
[0014]图1为本技术的结构示意图。
[0015]图2为本技术的外观图。
[0016]图3为本技术中动力组件的结构示意图。
[0017]图4为本技术中往复驱动组件的结构示意图。
[0018]图5为本技术中臂杆和插柱的结构示意图。
[0019]图中：1、外壳；2、电动辊；3、水箱；4、支架；5、连块；6、喷头；7、第一软管；8、滑轨；9、滑块；10、伺服电机；11、螺杆；12、螺套；13、滑竿；14、滑套；15、电动机；16、臂杆；17、插柱；18、水槽；19、泵机；20、第二软管。
具体实施方式
[0020]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
[0021]实施例1
[0022]请参阅图1～5，本技术实施例中，一种硅片湿法刻蚀的水膜铺设机构，包括外壳1、电动辊2、以及水箱3，所述外壳1的内壁顶端滑动设置有支架4，所述支架4上滑动设置有连块5，所述连块5的底端固定连接有喷头6，所述喷头6与所述水箱3之间通过第一软管7相连接；
[0023]其中，所述外壳1与所述支架4之间设置有供所述支架4滑动的第一导向组件，所述外壳1与所述支架4之间还设置有对所述支架4滑动提供驱动作用的动力组件，所述支架4与所述连块5之间设置有供所述连块5滑动的第二导向组件，所述支架4与所述连块5的内部还设置有作用于所述连块5的往复驱动组件，所述外壳1的内部靠近所述电动辊2的底端位置设置有集液组件；
[0024]喷头6上设置有电磁阀，启动电磁阀可以将水箱3内的水通过喷头6向下喷洒出来，当电动辊2带动硅片移动至喷头6的下方位置时，通过往复驱动组件可以使连块5受到水平横向往复的驱动作用，此时连块5会带动喷头6在第二导向组件的限制下保持水平横向的往复移动，同时，通过控制动力组件可以使支架4受到水平纵向间歇式的驱动作用，此时支架4会在第一导向组件的限制下带动喷头6保持水平纵向并间歇式的进行移动，横向往复移动的喷头6在沿着硅片的横向将水喷洒到硅片的边缘时，喷头6在支架4的间歇带动下沿着硅片的纵向移动并停止，此时横向往复移动的喷头6会再次沿着硅片的横向将水喷洒到另一条边缘，如此进行直到喷头6将水均匀的喷洒到硅片的整个表面，进而可以使喷头6的喷水范围完全覆盖住整个硅片的表面，避免了由于喷头6的位置固定导致水不能均匀的喷洒到
硅片上，保证了硅片上水膜的铺设效果，此外集液组件可以将喷头6喷洒出来的多余的水收集并回流至水箱3内供喷头6再次利用，节约了水资源。
[0025]实施例2
[0026]在本技术的一个实施例中，所述第一导向组件包括设置于所述外壳1内壁顶端的滑轨8、以及滑动设置于所述滑轨8上并与所述支架4固定连接的滑块9；
[0027]当支架4受到水平纵向的驱动作用时，滑块9会在支架4的带动下沿着滑轨8的表面保持水平纵向滑动，此时支架4会在滑轨8和滑块9的限制作用下保持水平纵向滑动。
[0028]在本技术的另一个实施例中，所述动力组件包括安装于所述外壳1内壁顶端的伺服电机10、连接于所述伺服电机10输出轴一端的螺杆11、以及螺纹套接于所述螺杆11上并与所述支架4固定连接的螺套12；
[0029]当伺服电机10的输出轴带动螺杆11旋转时，螺杆11会对螺套12产生水平纵向的驱动作用，使得螺套12沿着螺杆11水平纵向移动，此时支架4在螺套12的带动下受到水平纵向的驱动力，当伺服电机10的输出轴停止旋转时，螺套12就不再受到螺杆11的驱动作用，可以使支架4受到水平纵向间歇式的驱动作用。
[0030]在本技术的又一个实施例中，所述第二导向组件包括设置于连块5两侧并与所述支架4固定连接的滑竿13、以及滑动套合于所述滑竿13上并与所述连块5固定连接的滑套14；
[0031]当连块5受到驱动作用进行移动时，滑套14会在连块5的带动下沿着滑竿13的表面水平横向进行滑动，此时连块5会在滑竿1本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硅片湿法刻蚀的水膜铺设机构，包括外壳(1)、电动辊(2)、以及水箱(3)，其特征在于，所述外壳(1)的内壁顶端滑动设置有支架(4)，所述支架(4)上滑动设置有连块(5)，所述连块(5)的底端固定连接有喷头(6)，所述喷头(6)与所述水箱(3)之间通过第一软管(7)相连接。2.根据权利要求1所述的一种硅片湿法刻蚀的水膜铺设机构，其特征在于，所述外壳(1)与所述支架(4)之间设置有供所述支架(4)滑动的第一导向组件，所述外壳(1)与所述支架(4)之间还设置有对所述支架(4)滑动提供驱动作用的动力组件，所述支架(4)与所述连块(5)之间设置有供所述连块(5)滑动的第二导向组件，所述支架(4)与所述连块(5)的内部还设置有作用于所述连块(5)的往复驱动组件，所述外壳(1)的内部靠近所述电动辊(2)的底端位置设置有集液组件，所述第一导向组件包括设置于所述外壳(1)内壁顶端的滑轨(8)、以及滑动设置于所述滑轨(8)上并与所述支架(4)固定连接的滑块(9)。3.根据权利要求2所述的一种硅片湿法刻蚀的水膜铺设机构，其特征在于，所述动力组件包...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩美洲，冯志东，胡大鹏，王小博，
申请(专利权)人：苏州港麟微电子有限公司，
类型：新型
国别省市：