磁写头及其制造方法技术

本发明专利技术公开了一种磁写头及其制造方法。一种磁写极结构被构造以极大地简化垂直磁写头的制造。该磁写头具有沿垂直于数据轨道方向的平面取向的磁轭。这允许整个轭在单个电镀步骤中形成，而不是构建在几个电镀层中。该轭可以形成有侧磁屏蔽部，或者形成有尾或环绕磁屏蔽部，它们可以与轭的其余部分为一体并可以在相同的单个电镀步骤中方便地形成。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种磁写头，包括：　基板，具有表面；　磁轭，沿基本平行于所述基板的表面的平面形成为单个一体层；以及　磁写极，与所述磁轭连接。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：伊恩R麦克法迪恩，彼得勒斯A范德海登，
申请(专利权)人：日立环球储存科技荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]