一种新型热丝化学气相沉积装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及热丝化学气相沉积技术领域，具体是一种新型热丝化学气相沉积装置，其包括沉积室，沉积室的底端固定有进气管，沉积室的顶端固定有出气管，沉积室的内腔固定有上热丝组、下热丝组，沉积室的内腔中部固定有沉积工件，沉积室的侧壁开设有室门通孔，室门通孔通过水平沉积室弧带分为上室门通孔和下室门通孔，沉积室的侧壁上铰接有室门，沉积室的内侧壁涂镀有热辐射反射膜层；沉积工件包括沉积工件I、沉积工件II和沉积工件III，沉积工件I、沉积工件II和沉积工件III均包括水平基圈，水平基圈的内部固定有纵向栅杆；解决了现有的沉积设备在沉积掺硼金刚石薄膜时存在成品质量差、热能利用率低的问题。热能利用率低的问题。热能利用率低的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种新型热丝化学气相沉积装置


[0001]本技术涉及热丝化学气相沉积
，具体是一种新型热丝化学气相沉积装置。

技术介绍

[0002]在使用HFCVD装置沉积掺硼金刚石薄膜时，首先用固定在台基上的环形卡箍将沉积工件夹持于台基上，然后台基从沉积室的底部穿过位于下侧的热丝组，使得沉积工件位于上下两组热丝组之间，而后进行掺硼金刚石薄膜的双面沉积，沉积时进行硼掺杂，同时在沉积过程中还需要利用循环冷却水对台基进行冷却。
[0003]然而实践表明，现有的HFCVD装置在沉积掺硼金刚石薄膜时存在以下问题：现有的沉积室内部的温度场、浓度场和速度场的均匀一致性较差，热效率低，废品率高；同时冷却台基的过程中沉积室内部的热能损失大，热能利用率低；而且现有HFCVD装置在进行小面积掺硼金刚石薄膜制备时，均匀性的差异体现的不明显，但是用其进行大面积掺硼金刚石薄膜制备时就会因温度场和气流场等不均匀导致掺硼金刚石薄膜的质量不合格。
[0004]因此有必要专利技术一种新型热丝化学气相沉积装置来解决上述问题。

技术实现思路

[0005]本技术为了解决现有的沉积设备在沉积掺硼金刚石薄膜时存在成品质量差、热能利用率低的问题，提供了一种新型热丝化学气相沉积装置。
[0006]本技术是采用如下技术方案实现的：
[0007]一种新型热丝化学气相沉积装置，包括圆柱型的沉积室，沉积室的底端固定有呈倒锥台型的进气管，沉积室的顶端固定有呈锥台型的出气管，沉积室的内腔固定有沿上下分布的上热丝组、下热丝组，沉积室的内腔中部固定有位于上热丝组和下热丝组之间的沉积工件，沉积室的侧壁开设有室门通孔，室门通孔通过与沉积室一体设置的水平沉积室弧带分为上室门通孔和下室门通孔，沉积室的侧壁上铰接有覆盖室门通孔的室门，室门的内侧壁与沉积室的内侧壁齐平；所述沉积室的内侧壁涂镀有热辐射反射膜层；
[0008]所述沉积工件包括沉积工件I、沉积工件II和沉积工件III，沉积工件I、沉积工件II和沉积工件III均包括水平基圈，水平基圈的内部固定有沿左右分布的若干根纵向栅杆；相邻两根纵向栅杆之间的距离大于纵向栅杆的直径。
[0009]进一步地，所述沉积室的内腔侧壁上开设有两个位于同一标高且开有内螺纹的盲孔，每个盲孔内均旋拧有支撑螺杆，每根支撑螺杆远离盲孔的端部均一体固定有呈锥型的卡接块，支撑螺杆上旋拧有紧贴沉积室内侧壁的支撑螺母；所述水平沉积室弧带的侧壁开设有与盲孔位置匹配且开设有内螺纹的通孔，通孔内贯穿旋拧有紧固螺杆，紧固螺杆远离通孔的端部一体固定有位于沉积室内腔且呈锥型的紧固块，紧固螺杆上旋拧有紧贴沉积室内侧壁的紧固螺母，紧固螺杆远离沉积室外侧壁的表面上开设有一字槽；所述沉积工件的侧壁上开设有与卡接块和紧固块匹配的呈锥型的三个抵接槽；两个支撑螺杆之间的距离与
支撑螺杆到紧固螺杆之间的距离相等。
[0010]进一步地，所述沉积室的外侧壁左部固定有沿上下分布的三个安装座，每个安装座上均开设有上下贯通的安装孔，所述室门的左端固定有与三个安装座匹配的三个安装耳板，每个安装耳板与匹配的安装孔上均共同穿设有销轴；所述沉积室的外侧壁右部固定有沿上下分布的三个水平锁紧座，每个水平锁紧座远离沉积室的端部均一体固定有沿上下分布的两个锁紧叉，所述室门的右端铰接有与水平锁紧座位置匹配的纵螺杆，每根纵螺杆的后端均位于两个锁紧叉之间，且每根纵螺杆的后端均旋拧有紧贴锁紧叉后表面的锁紧螺母。
[0011]进一步地，所述沉积工件I中纵向栅杆的上表面与水平基圈的上表面齐平、纵向栅杆的下表面与水平基圈的下表面齐平；所述沉积工件II中纵向栅杆的上表面向上超出水平基圈的上表面、纵向栅杆的下表面与水平基圈的下表面齐平；所述沉积工件III中纵向栅杆的上表面与水平基圈的上表面齐平、纵向栅杆的下表面向下超出水平基圈的下表面；所述沉积工件II中的若干根纵向栅杆和沉积工件III中的若干根纵向栅杆呈交错布置，且沉积工件II与沉积工件III嵌合。
[0012]进一步地，每个支撑螺母与沉积室的内侧壁之间、紧固螺母与沉积室的内侧壁之间均夹设有垫片。
[0013]进一步地，所述沉积室的底端固定有安装法兰，安装法兰位于内侧的表面上开设有沿周向均布的若干个固定孔、位于外侧的表面开设有沿周向均布的若干个安装孔，所述进气管的上端固定有进气法兰，进气法兰通过固定孔与安装法兰固定连接；所述沉积室的顶端固定有出气法兰，出气管的底端固定有出气法兰I，出气法兰I与出气法兰固定连接。
[0014]进一步地，所述室门与沉积室的外侧壁之间夹设有垫片I；所述进气法兰与安装法兰之间、出气法兰I与出气法兰之间均夹设有垫片II。
[0015]本技术结构设计合理可靠，实现了改进后的沉积室能够提升掺硼金刚石薄膜的成品质量的目的；同时摒弃了现有的利用台基将沉积工件送到上下两组热丝组之间的方式，省去了循环水冷却系统，减少了沉积室内的热量损失，提高了沉积室内的热能利用率；进一步的，保证了沉积室内的气体浓度和气体流速的均匀一致性，有效提高了掺硼金刚石薄膜的沉积质量。
附图说明
[0016]图1是本技术的结构示意图。
[0017]图2是本技术的俯视示意图。
[0018]图3是本技术中沉积室的结构示意图。
[0019]图4是本技术中沉积室的侧视示意图。
[0020]图5是本技术中沉积室的俯视示意图。
[0021]图6是本技术中室门的俯视示意图。
[0022]图7是本技术中沉积工件I的俯视示意图和侧视示意图。
[0023]图8是本技术中沉积工件II的俯视示意图和侧视示意图。
[0024]图9是本技术中沉积工件III的俯视示意图和侧视示意图。
[0025]图10是本技术中支撑螺杆的结构示意图。
[0026]图11是本技术中紧固螺杆的结构示意图。
[0027]图12是本技术中纵螺杆的结构示意图。
[0028]图中：1
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沉积室，2
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进气管，3
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出气管，4
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上热丝组，5
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下热丝组，6
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沉积工件，7
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水平沉积室弧带，8
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上室门通孔，9
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下室门通孔，10
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室门，11
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热辐射反射膜层，12
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沉积工件I，13
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沉积工件II，14
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沉积工件III，15
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水平基圈，16
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纵向栅杆，17
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盲孔，18
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支撑螺杆，19
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卡接块，20
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支撑螺母，21
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通孔，22
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紧固螺杆，23
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紧固块，24
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紧固螺母本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种新型热丝化学气相沉积装置，其特征在于：包括圆柱型的沉积室（1），沉积室（1）的底端固定有呈倒锥台型的进气管（2），沉积室（1）的顶端固定有呈锥台型的出气管（3），沉积室（1）的内腔固定有沿上下分布的上热丝组（4）、下热丝组（5），沉积室（1）的内腔中部固定有位于上热丝组（4）和下热丝组（5）之间的沉积工件（6），沉积室（1）的侧壁开设有室门通孔，室门通孔通过与沉积室（1）一体设置的水平沉积室弧带（7）分为上室门通孔（8）和下室门通孔（9），沉积室（1）的侧壁上铰接有覆盖室门通孔的室门（10），室门（10）的内侧壁与沉积室（1）的内侧壁齐平；所述沉积室（1）的内侧壁涂镀有热辐射反射膜层（11）；所述沉积工件（6）包括沉积工件I（12）、沉积工件II（13）和沉积工件III（14），沉积工件I（12）、沉积工件II（13）和沉积工件III（14）均包括水平基圈（15），水平基圈（15）的内部固定有沿左右分布的若干根纵向栅杆（16）；相邻两根纵向栅杆（16）之间的距离大于纵向栅杆（16）的直径。2.根据权利要求1所述的一种新型热丝化学气相沉积装置，其特征在于：所述沉积室（1）的内腔侧壁上开设有两个位于同一标高且开有内螺纹的盲孔（17），每个盲孔（17）内均旋拧有支撑螺杆（18），每根支撑螺杆（18）远离盲孔（17）的端部均一体固定有呈锥型的卡接块（19），支撑螺杆（18）上旋拧有紧贴沉积室（1）内侧壁的支撑螺母（20）；所述水平沉积室弧带（7）的侧壁开设有与盲孔（17）位置匹配且开设有内螺纹的通孔（21），通孔（21）内贯穿旋拧有紧固螺杆（22），紧固螺杆（22）远离通孔（21）的端部一体固定有位于沉积室（1）内腔且呈锥型的紧固块（23），紧固螺杆（22）上旋拧有紧贴沉积室（1）内侧壁的紧固螺母（24），紧固螺杆（22）远离沉积室（1）外侧壁的表面上开设有一字槽（25）；所述沉积工件（6）的侧壁上开设有与卡接块（19）和紧固块（23）匹配的呈锥型的三个抵接槽（26）；两个支撑螺杆（18）之间的距离与支撑螺杆（18）到紧固螺杆（22）之间的距离相等。3.根据权利要求1所述的一种新型热丝化学气相沉积装置，其特征在于：所述沉积室（1）的外侧壁左部固定有沿上下分布的三个安装座（27），每个安装座（27）上均开设有上下贯通的安装孔，所述室门（10）的左端固定有与三个安装座（27）...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨作红，郭俊，陈明靖，
申请(专利权)人：海南和风佳会电化学工程技术股份有限公司，
类型：新型
国别省市：