基板处理装置和基板处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板处理装置和基板处理方法，在向处理容器的内部搬入盛有干燥液的基板之前提高基板的温度的均匀性。基板处理装置具备托盘、处理容器、移动部、供给部、排出部以及冷却部。托盘用于从盛有干燥液的基板的下方水平地保持该基板。处理容器用于将基板与托盘一起收容。移动部用于使托盘在处理容器的外部的待机位置与处理容器的内部的处理位置之间移动。供给部用于向处理容器的内部供给与干燥液进行置换的超临界流体。排出部用于从处理容器的内部向外部排出超临界流体。冷却部从在待机位置待机的托盘的下方将该托盘进行冷却，由此将盛有干燥液的状态的基板进行冷却。此将盛有干燥液的状态的基板进行冷却。此将盛有干燥液的状态的基板进行冷却。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置和基板处理方法


[0001]本公开涉及一种基板处理装置和基板处理方法。

技术介绍

[0002]专利文献1所记载的基板处理装置通过将基板上所盛有的干燥液置换为超临界流体来使基板干燥。基板处理装置具有：处理容器，其用于收容基板；基板保持部，其用于在处理容器内水平地保持基板；供给部，其用于向处理容器内供给超临界流体；排出部，其用于从处理容器排出超临界流体；以及控制部。控制部在使处理容器内的压力上升的工序中控制基板的温度。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2021
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86857号公报

技术实现思路

[0006]专利技术要解决的问题
[0007]本公开的一个方式提供一种在向处理容器的内部搬入盛有干燥液的基板之前提高基板的温度的均匀性的技术。
[0008]用于解决问题的方案
[0009]本公开的一个方式所涉及的基板处理装置具备托盘、处理容器、移动部、供给部、排出部以及冷却部。所述托盘用于从盛有干燥液的基板下方水平地保本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，具备：托盘，其用于从盛有干燥液的基板的下方水平地保持该基板；处理容器，其用于将所述基板与所述托盘一起收容；移动部，其用于使所述托盘在所述处理容器的外部的待机位置与所述处理容器的内部的处理位置之间移动；供给部，其用于向所述处理容器的内部供给与所述干燥液进行置换的超临界流体；排出部，其用于从所述处理容器的内部向外部排出所述超临界流体；以及冷却部，其从在所述待机位置待机的所述托盘的下方将该托盘进行冷却，由此将盛有所述干燥液的状态的所述基板进行冷却。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，当将所述托盘从所述待机位置向所述处理位置移动的方向设为前方、将所述托盘从所述处理位置向所述待机位置移动的方向设为后方时，与所述基板的中心部相比，所述冷却部将所述基板的前端部更强力地进行冷却。3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，所述冷却部具有气体喷嘴，该气体喷嘴从所述托盘的下方朝向所述托盘喷出气体。4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，所述冷却部具有气流引导板，该气流引导板在所述气体喷嘴与在所述待机位置待机的所述托盘之间引导所述气体的流动。5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，所述气流引导板包括使所述气体通过的通风孔。6.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，所述冷却部在所述托盘的下方具有吸收所述托盘的热的冷却板。7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，所述冷却部具有设置于所述冷却板的帕尔贴元件。8.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，所述冷却部具有气体喷嘴，该气体喷嘴从所述冷却板的下方朝向所述冷却板喷出气体。9.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，所述冷却部在所述托盘的下方具有供制冷剂流动的冷却管。10.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，还具备：温度分布测定部，其从在所述待机位置待机的所述托盘的上方测定所述基板的温度分布；以及控制部，其基于所述温度分布测定部的测定结果来控制所述冷却部。11.一种基板处理方法，包括：利用托盘从盛有...

【专利技术属性】
技术研发人员：原口龙星，佐佐木佑美，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：