防散射格栅及CT成像设备制造技术

技术编号:38963477 阅读:90 留言:0更新日期:2023-09-28 09:19
本申请公开了一种防散射格栅及CT成像设备,属于X光设备的技术领域,以解决目前的格栅无法完全阻挡射线的技术问题。其中,防散射格栅包括屏蔽件以及多个光栅件,多个光栅件沿第一预设方向分布,且相邻光栅件之间通过屏蔽件连接。以通过屏蔽件对散射线进行屏蔽,避免散射线通过光栅件之间的间隙照射到CT成像设备的探测件上,从而提高了图像信息准确性和图像质量。质量。质量。

【技术实现步骤摘要】
防散射格栅及CT成像设备


[0001]本申请属于X光检测设备的
,尤其涉及一种防散射格栅及CT成像设备。

技术介绍

[0002]在CT设备的使用中,射线的散射会严重降低探测器的图像质量,因此需要在检测器上安装防散射栅格。防散射栅格通常使用钨等具有高射线屏蔽能力的材料制作,安装于探测器晶体上方,以屏蔽散射线,有利于保持图像信息的准确性,提高图像质量。
[0003]随着CT技术的发展,探测器的排数越来越高,对应的探测器像素单元也越来越多,为了便于生产制造以及提高成品率,通常将探测器沿X向划分有多个检测器模块,多个探测器模块布置在与焦点同心的一段圆弧上,每个探测器模块根据需要的排数数量,沿Z方向向划分为对应数量的探测器子模块。
[0004]然而,在相关技术中的防散射栅格,未在Z方向上设置屏蔽件,从而导致散射线通过光栅件之间的间隙照射到CT成像设备的探测件上,无法完全阻挡射线,影响图像信息准确性和图像质量。

技术实现思路

[0005]本申请旨在至少能够在一定程度上解决目前的格栅无法完全阻挡射线的技术问题。为此,本申请提本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种防散射格栅,应用于CT成像设备,其特征在于,包括:屏蔽件(100)和多个光栅件(200),多个所述光栅件(200)沿第一预设方向分布,且相邻所述光栅件(200)之间通过所述屏蔽件(100)连接,所述第一预设方向为所述CT成像设备的Z方向。2.根据权利要求1所述的防散射格栅,其特征在于,所述光栅件(200)包括多个子光栅部(210),多个所述子光栅部(210)沿所述第一预设方向间隔设置,相邻所述子光栅部(210)之间具有第一屏蔽层(220)。3.根据权利要求2所述的防散射格栅,其特征在于,多个所述子光栅部(210)还沿第二预设方向间隔设置,在所述第二预设方向上,相邻所述子光栅部(210)之间具有第二屏蔽层(230),所述第一预设方向与所述第二预设方向相交。4.根据权利要求3所述的防散射格栅,其特征在于,所述第一预设方向与所述第二预设方向相垂直。5.根据权利要求1

4任一项所述的防散射格栅,其特征在于,所述屏蔽件(100)与所述多个光栅件(200)通过3D打印工艺一体成型。6.根据权利要求1

4任一项所述的防散射格栅,其特征在于,所述屏蔽件(100)为屏蔽胶,多个所述光栅件(200)通过所述屏蔽胶...

【专利技术属性】
技术研发人员:李庆雷刘伯聪麻井伟
申请(专利权)人:美的集团上海有限公司
类型:新型
国别省市:

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