描金工艺、浮雕工艺、青花工艺及釉下五彩结合的烧制方法技术

本发明专利技术公开了一种描金工艺、青花工艺、浮雕工艺及釉下五彩结合的烧制方法，该方法包括在素胚上面附着釉下五彩图案同时（或者）釉下青花，利用一种介质，覆盖釉下五彩图案和／或釉下青花图案以外的空白处；对素胚上面的釉下五彩图案和／或釉下青花图案进行喷釉；将上述步骤中的覆盖釉下五彩图案和／或釉下青花图案以外的介质去掉；用带有釉成分的特殊介质，在釉下五彩图案和／或釉下青花图案以外的素胚上面根据需要形成浮雕圆点；在１３８０摄氏度左右进行第一次烧制；第一次烧制后，用陶瓷黄金水，采用描金手法，涂在釉下五彩图案或者（同时）釉下青花图案以外的地方；以及在７５０度到８５０之间进行第二次烧制等步骤。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种青花工艺、浮雕工艺、描金工艺及釉下五彩工艺相互结合的烧制 方法。
技术介绍
釉下五彩(或者釉下青花)瓷只能在高温下烧制，才能有色彩丰富，永不褪色的效 果。而传统的釉上青花却不能在高温下烧制，我们独创的描金也不能在高温下烧制，而它们 又有各自的美，釉下五彩的淡雅，青花的素静，描金的富丽堂皇，如果把这些工艺进行结合， 效果将是非常的完美，目前没有结合的原因主要是技术上的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服上述技术问题，提供一种青花、浮雕、描金及釉下五彩一体 的具体烧制方法。把青花、描金及釉下五彩的最美之处结合起来，以满足当今鉴赏的需要。为实现上述目的，本专利技术提供了一种描金工艺、青花工艺及釉下五彩相互结合的 烧制方法，该方法具体步骤如下a.首先在素胚上面附着釉下五彩图案或者(同时)釉下青花，利用一种介质，覆盖 釉下五彩图案或者(同时)釉下青花图案以外的空白处，使得在素胚上面釉下五彩图案或 者(同时)釉下青花图案以外的地方不能喷釉；b.对素胚上面的釉下五彩图案或者(同时)釉下青花图案进行喷釉；c.将步骤(a)中的覆盖釉下五彩图案或者(同时)釉下青花图案以外的介质去 掉；d.用带有釉成分的特殊介质，在釉下五彩图案或者(同时)釉下青花图案以外的 素胚上面根据需要形成浮雕圆点；e.进行第一次烧制，温度在1380度左右。f.第一次烧制后，用陶瓷黄金水，采用描金手法，涂在釉下五彩图案或者(同时) 釉下青花图案以外的地方；g.在750度到850之间进行第二次烧制。由于本专利技术把素胚上面的釉下五彩或者(同时)釉下青花和描金工艺及浮雕工艺 分开使用，并两次烧制成功，成功解决了烧制技术的问题，专利技术人用这个方式制出的产品， 主要以釉下五彩为背景，辅以釉下青花、浮雕及描金工艺，色调对比鲜明，装饰效果非常好， 有着很高的鉴赏和收藏价值。改变了以往釉下五彩那种淡雅清逸的单调风格，丰富了瓷器 工艺的品种，满足了现代人不断追求高品质的、高鉴赏价值的艺术品。具体实施例方式本专利技术提供了一种描金工艺、青花工艺、浮雕工艺及釉下五彩相互结合的烧制方 法，下面对该方法进行详细说明。3a.首先在素胚上面附着釉下五彩图案或者(同时)釉下青花，利用一种介质，覆盖 釉下五彩图案或者(同时)釉下青花图案以外的空白处，使得在素胚上面釉下五彩图案或 者(同时)釉下青花图案以外的地方不能喷釉；b.对素胚上面的釉下五彩图案或者(同时)釉下青花图案进行喷釉；c.将步骤(b)中的覆盖釉下五彩图案或者(同时)是釉下青花图案以外的介质去 掉；d.用带有釉成分的特殊介质，在釉下五彩图案或者(同时)釉下青花图案以外的 素胚上面根据需要形成浮雕圆点；e.第一次烧制，温度在1380度左右。f.第一次烧制后，用陶瓷黄金水，采用描金手法，涂在釉下五彩图案或者(同时) 釉下青花图案以外的地方；g.在750度到850之间进行第二次烧制。在烧制方法中的步骤(a)所说的介质是一种覆盖胶水或者薄膜。也可以是其他的 覆盖物质，目的是在素胚上面釉下五彩图案或者(同时)釉下青花图案以外的地方不能喷 釉的。在烧制方法中的步骤(d)所说的带釉的介质是一个带釉的介质，目的是增加整体 立体感及描金后浮雕圆点的亮度。在烧制方法中的步骤(f)所说的黄金水，是一种用在陶瓷方面的黄金水，颜色是 黑褐色粘稠状液体，由贵金属有机化合物、金属有机化合物和填充剂组成。贵金属有机化合 物是主要的发色物质，金属有机化合物赋予牢固的附着力，填充剂是主要的成膜物质，并赋 予良好的使用性能。所有制剂均为描绘型，适用于高、中、低档日用瓷、艺术瓷和精炻器等的 装饰。制剂经高温烤烧后，色泽光亮饱满，根据产品的种类的不同可分别呈现出高纯度的亮 黄金色调。黄金水涂在有白釉的地方形成非常亮的金(就是烧制步骤中(d)所说带釉的圆 点)，涂在没有上釉的素胚上面，形成一层仿金(感觉有点像磨砂形式)。亮金和仿金的结 合也是此次专利技术的重点。权利要求一种描金工艺、青花工艺、浮雕工艺及釉下五彩结合的烧制方法，该方法包括以下步骤a.首先在素胚上面附着釉下五彩图案和/或釉下青花，利用一种介质，覆盖釉下五彩图案和/或釉下青花图案以外的空白处，使得在素胚上面釉下五彩图案和/或釉下青花图案以外的地方不能喷釉；b.在素胚上面的釉下五彩图案和/或釉下青花图案进行喷釉；c.将步骤(a)中的覆盖釉下五彩图案和/或是釉下青花图案以外的介质去掉；d.用带有釉成分的特殊介质，在釉下五彩图案和/或釉下青花图案以外的素胚上面根据需要形成浮雕圆点；e.进行第一次烧制，温度在1380度左右。f.第一次烧制后，用陶瓷黄金水，采用描金手法，涂在釉下五彩图案或者(同时)釉下青花图案以外的地方；g.在750度到850之间进行第二次烧制。2.根据权利要求1所述的描金工艺、青花工艺、浮雕工艺及釉下五彩结合的烧制方法， 其特征在于在烧制方法中的步骤(a)所说的介质是一种覆盖胶水，薄膜。也可以是其他的 覆盖物质，目的在于使素胚上面的釉下五彩图案或者(同时)釉下青花图案以外的地方不 能喷釉。3.根据权利要求1所述的描金工艺、青花工艺、浮雕工艺及釉下五彩结合的烧制方法， 其特征在于在烧制方法中的步骤(d)所说的介质是一个带釉的介质，目的是增加整体立 体感及描金后浮雕圆点的亮度。4.根据权利要求1所述的描金工艺、青花工艺、浮雕工艺及釉下五彩结合的烧制方法， 其特征在于陶瓷黄金水涂在有釉的地方形成非常亮的金，涂在没有上釉的素胚上面，形成 一层仿金。全文摘要本专利技术公开了一种描金工艺、青花工艺、浮雕工艺及釉下五彩结合的烧制方法，该方法包括在素胚上面附着釉下五彩图案同时(或者)釉下青花，利用一种介质，覆盖釉下五彩图案和/或釉下青花图案以外的空白处；对素胚上面的釉下五彩图案和/或釉下青花图案进行喷釉；将上述步骤中的覆盖釉下五彩图案和/或釉下青花图案以外的介质去掉；用带有釉成分的特殊介质，在釉下五彩图案和/或釉下青花图案以外的素胚上面根据需要形成浮雕圆点；在1380摄氏度左右进行第一次烧制；第一次烧制后，用陶瓷黄金水，采用描金手法，涂在釉下五彩图案或者(同时)釉下青花图案以外的地方；以及在750度到850之间进行第二次烧制等步骤。文档编号C04B41/85GK101851117SQ20091013151公开日2010年10月6日 申请日期2009年4月3日 优先权日2009年4月3日专利技术者徐修东 申请人:徐修东本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种描金工艺、青花工艺、浮雕工艺及釉下五彩结合的烧制方法，该方法包括以下步骤：ａ．首先在素胚上面附着釉下五彩图案和／或釉下青花，利用一种介质，覆盖釉下五彩图案和／或釉下青花图案以外的空白处，使得在素胚上面釉下五彩图案和／或釉下青花图案以外的地方不能喷釉；ｂ．在素胚上面的釉下五彩图案和／或釉下青花图案进行喷釉；ｃ．将步骤（ａ）中的覆盖釉下五彩图案和／或是釉下青花图案以外的介质去掉；ｄ．用带有釉成分的特殊介质，在釉下五彩图案和／或釉下青花图案以外的素胚上面根据需要形成浮雕圆点；ｅ．进行第一次烧制，温度在１３８０度左右。ｆ．第一次烧制后，用陶瓷黄金水，采用描金手法，涂在釉下五彩图案或者（同时）釉下青花图案以外的地方；ｇ．在７５０度到８５０之间进行第二次烧制。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：徐修东，
申请(专利权)人：徐修东，
类型：发明
国别省市：34[中国|安徽]