多彩镀膜方法及工件技术

本发明专利技术公开了一种多彩镀膜方法及工件，涉及镀膜的技术领域。多彩镀膜方法包括以下步骤：提供基材；对基材的表面作喷砂处理；在喷砂后的基材上任意位置开槽，以形成素材，素材具有槽底面和与槽底面具有落差的喷砂面；将素材送入真空炉内进行真空镀膜；将素材送入真空炉内进行真空镀膜，包括以下步骤：向素材表面溅射钛靶，以在素材的表面镀上打底层；获取镀膜颜色并根据镀膜颜色设定氧气充入时长；向真空炉内持续充入氧气充入时长的氧气，以使钛靶与氧气反应形成氧化钛靶材，形成的氧化钛靶材在氧气充入时间内持续溅射于素材，以得到镀膜颜色。本发明专利技术解决了现有真空镀膜工艺在素材表面实现多种颜色同体时镀膜成本高以及工艺良率低的技术问题。低的技术问题。低的技术问题。

【技术实现步骤摘要】
多彩镀膜方法及工件


[0001]本专利技术涉及镀膜的
，尤其涉及一种多彩镀膜方法及工件。

技术介绍

[0002]真空镀膜是指在真空环境中，将金属靶材、合金靶材、氧化物靶材或氮化物靶材等靶材加热后以气相的形式沉积在金属表面形成装饰薄膜材料的技术。现有真空镀膜工艺在素材表面实现双色等多种颜色同体的方案需要多次镀膜，异色区域需要遮蔽，增加了镀膜成本，降低了工艺良率。

技术实现思路

[0003]有鉴于此，本专利技术提供了一种多彩镀膜方法及工件，用于解决现有真空镀膜工艺在素材表面实现多种颜色同体时镀膜成本高以及工艺良率低的技术问题。
[0004]为了解决上述技术问题，本专利技术采用的技术方案一为：
[0005]一种多彩镀膜方法，所述多彩镀膜方法包括以下步骤：
[0006]提供基材；
[0007]对基材的表面作喷砂处理；
[0008]在喷砂后的所述基材上任意位置开槽，以形成素材，所述素材具有槽底面和与所述槽底面具有落差的喷砂面；
[0009]将所述素材送入真空炉内进行真空镀膜；
[0010]所述将所述素材送入真空炉内进行真空镀膜，包括以下步骤：
[0011]向所述素材表面溅射钛靶，以在所述素材的表面镀上打底层；
[0012]获取镀膜颜色并根据所述镀膜颜色设定氧气充入时长；
[0013]向所述真空炉内持续充入所述氧气充入时长的氧气，以使所述钛靶与所述氧气反应形成氧化钛靶材，形成的所述氧化钛靶材在氧气充入时间内持续溅射于所述素材，以得到所述镀膜颜色。
[0014]在所述多彩镀膜方法的一些实施例中，所述向所述素材表面溅射钛靶步骤之后，及所述向所述真空炉内持续充入所述氧气充入时长的氧气步骤之前，所述将所述素材送入真空炉内进行真空镀膜还包括以下步骤：
[0015]向所述真空炉内持续充入氮气，以使所述钛靶与所述氮气反应形成氮化钛靶材，并在所述氮气的充入过程中溅射于所述打底层，以在所述打底层的表面镀上过渡层。
[0016]在所述多彩镀膜方法的一些实施例中，所述氧化钛靶材持续溅射于所述素材的过程中能够在所述素材上形成多次七彩颜色交替循环；
[0017]所述镀膜颜色为多次所述七彩颜色交替循环中的任一颜色，所述氧气充入时长为自所述氧化钛靶材溅射于所述素材始至形成所述镀膜颜色的时长。
[0018]在所述多彩镀膜方法的一些实施例中，所述氮气的充入参数为50sccm，所述氮气的充入持续时间为40min；所述氧气的充入参数为20sccm，所述氧气的充入持续时间为
30min。
[0019]在所述多彩镀膜方法的一些实施例中，所述向所述素材表面溅射钛靶步骤之前，所述将所述素材送入真空炉内进行真空镀膜还包括以下步骤：
[0020]制得多个所述素材；
[0021]将各个所述素材一同送入所述真空炉内进行真空镀膜；
[0022]调整各个所述素材的位置，以使各个所述素材能够相互遮蔽。
[0023]在所述多彩镀膜方法的一些实施例中，在所述将所述素材送入真空炉内进行真空镀膜步骤之前，所述多彩镀膜方法还包括以下步骤：
[0024]抛光所述槽底面。
[0025]在所述多彩镀膜方法的一些实施例中，所述多彩镀膜方法还包括以下步骤：
[0026]在所述在喷砂后的所述基材上任意位置开槽步骤之前，对喷砂后的所述基材喷涂保护层；
[0027]在所述抛光所述槽底面步骤之后，及所述将所述素材送入真空炉内进行真空镀膜步骤之前，脱掉所述素材上的所述保护层。
[0028]在所述多彩镀膜方法的一些实施例中，所述脱掉所述素材上的所述保护层步骤之后，及所述将所述素材送入真空炉内进行真空镀膜步骤之前，所述多彩镀膜方法还包括以下步骤：
[0029]清洗所述素材。
[0030]在所述多彩镀膜方法的一些实施例中，在所述将所述素材送入真空炉内进行真空镀膜步骤之后，所述多彩镀膜方法还包括以下步骤：
[0031]在所述素材上形成耐磨层。
[0032]为了解决上述技术问题，本专利技术采用的技术方案二为：
[0033]一种工件，由所述基材通过如上面实施例中所述的多彩镀膜方法加工而得。
[0034]实施本专利技术实施例，将至少具有如下有益效果：
[0035]上述多彩镀膜方法具有能够在素材上实现多种颜色同体的技术效果，并且镀膜成本低、工艺良率高，具体而言，本专利技术的多彩镀膜方法在真空镀膜之前先对基材作了开槽处理，形成的素材在送入真空炉内进行真空镀膜，在真空镀膜过程中，由于槽底面与喷砂面之间具有落差，导致靶材在槽底面和喷砂面上的沉积速率有差别，所以素材在依次镀完钛靶和氧化钛靶材后槽底面和喷砂面会产生明显的双色效果，从而实现了多种颜色同体的技术效果，并且本专利技术的多彩镀膜方法简单，不需要通过在一个素材上进行遮蔽区域的方式来实现双色效果，减少了镀膜成本，且只进行了一次真空镀膜工序。
[0036]上述工件，通过上述多彩镀膜方法加工而成，由于上述多彩镀膜方法结合了基材机加工工序和只有一次真空镀膜工序，减小了镀膜成本，提高了工艺良率。
附图说明
[0037]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0038]图1为本专利技术一个实施例中多彩镀膜方法的流程图；
[0039]图2为本专利技术一个实施例中涉及到的真空镀膜流程图；
[0040]图3为本专利技术一个实施例中多彩镀膜方法的流程图；
[0041]图4为本专利技术一个实施例中涉及到的真空镀膜流程图。
具体实施方式
[0042]为了便于理解本专利技术，下面将参照相关附图对本专利技术进行更全面的描述。附图中给出了本专利技术的较佳的实施例。但是，本专利技术可以通过许多其他不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本专利技术的公开内容的理解更加透彻全面。
[0043]需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。
[0044]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本专利技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
[0045]如图1
‑
2所示，在一种多彩镀膜方法实施例中，多彩镀膜方法包括以下步骤：
[0046]S10、提供基材。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种多彩镀膜方法，其特征在于，所述多彩镀膜方法包括以下步骤：提供基材；对基材的表面作喷砂处理；在喷砂后的所述基材上任意位置开槽，以形成素材，所述素材具有槽底面和与所述槽底面具有落差的喷砂面；将所述素材送入真空炉内进行真空镀膜；所述将所述素材送入真空炉内进行真空镀膜，包括以下步骤：向所述素材表面溅射钛靶，以在所述素材的表面镀上打底层；获取镀膜颜色并根据所述镀膜颜色设定氧气充入时长；向所述真空炉内持续充入所述氧气充入时长的氧气，以使所述钛靶与所述氧气反应形成氧化钛靶材，形成的所述氧化钛靶材在氧气充入时间内持续溅射于所述素材，以得到所述镀膜颜色。2.如权利要求1所述的多彩镀膜方法，其特征在于，所述向所述素材表面溅射钛靶步骤之后，及所述向所述真空炉内持续充入所述氧气充入时长的氧气步骤之前，所述将所述素材送入真空炉内进行真空镀膜还包括以下步骤：向所述真空炉内持续充入氮气，以使所述钛靶与所述氮气反应形成氮化钛靶材，并在所述氮气的充入过程中溅射于所述打底层，以在所述打底层的表面镀上过渡层。3.如权利要求2所述的多彩镀膜方法，其特征在于，所述氧化钛靶材持续溅射于所述素材的过程中能够在所述素材上形成多次七彩颜色交替循环；所述镀膜颜色为多次所述七彩颜色交替循环中的任一颜色，所述氧气充入时长为自所述氧化钛靶材溅射于所述素材始至形成所述镀膜颜色的时长。4.如权利要求3所述的多彩镀膜方法，其特征在于，所述氮气的充入参数为50sccm，所述氮气的充入...

【专利技术属性】
技术研发人员：李英策，李志建，吕寰丰，齐磊，唐育力，
申请(专利权)人：广东小天才科技有限公司，
类型：发明
国别省市：