一种超低掺量烧结助剂制备AlON透明陶瓷的方法技术

本发明专利技术涉及一种超低掺量烧结助剂制备AlON透明陶瓷的方法，属于透明陶瓷材料制备领域。该方法在纯相AlON粉体中添加La2O3和Y2O3粉体作为烧结助剂，通过球磨调控混合粉体粒度，采用无压烧结方法制备AlON透明陶瓷，其中，所述La2O3粉体的掺量为0.02

【技术实现步骤摘要】
一种超低掺量烧结助剂制备AlON透明陶瓷的方法


[0001]本专利技术涉及一种超低掺量烧结助剂制备AlON透明陶瓷的方法，属于透明陶瓷材料制备领域。

技术介绍

[0002]氮氧化铝简称AlON，是Al2O3和AlN体系中的一个重要的单相固溶体，属立方尖晶石结构，光学各向同性。AlON陶瓷不仅在0.2
‑
6.0μm的宽波段范围内具有高透光性的特点，透过率可达80％以上，而且还拥有强度高、硬度大、耐高温及化学稳定性好等优点。因此，AlON透明陶瓷可以用作透明装甲、红外探测及精密仪器仪表的透明面板等，在军民领域均具有广阔的应用前景。
[0003]由于受本身的强共价键和低自扩散系数影响，AlON透明陶瓷的致密化烧结一般需要加入烧结助剂以促进气孔排出，获得高致密度和高透光性。然而，目前无压烧结制备AlON透明陶瓷仍然存在烧结温度高、保温时间长的问题，通常需要在1900℃以上保温6
‑
30h才能获得具有良好透光性AlON陶瓷。
[0004]另外，在AlON透明陶瓷烧结过程中使用烧结助剂时还要考虑AlON对本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种超低掺量烧结助剂制备AlON透明陶瓷的方法，其特征在于：在纯相AlON粉体中添加La2O3和Y2O3粉体作为烧结助剂，通过球磨调控混合粉体粒度，采用无压烧结方法制备AlON透明陶瓷，其中，所述La2O3粉体的掺量为0.02
‑
0.04wt.％，Y2O3粉体的掺量为0.02
‑
0.05wt.％，烧结助剂的总掺量≤0.08wt.％；所述混合粉体的D
50
为0.4
‑
0.6μm，粒度分布范围为0.15
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1.2μm，<0.25μm的颗粒含量<5vol.％，>0.9μm的颗粒含量<6vol.％。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所用AlON粉体是纯相的AlON，纯度>99.9％。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：将混合粉体干压预成型后，再冷等静压成型，得坯体；将所得坯体放入烧结炉中，在氮气环境中无压烧结制备AlON透明陶瓷。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于：所述预成型压强为20
‑
60MPa，冷等静压成型在100
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180MPa条件下完成。5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于：所述无压烧结的升温速率为10
‑
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【专利技术属性】
技术研发人员：单英春，徐久军，郗雪敏，马莉娅，郭浩然，
申请(专利权)人：大连海事大学，
类型：发明
国别省市：