一种具有低散射副瓣和优良辐射特性的相控阵天线制造技术

该发明专利技术公开了一种具有低散射副瓣和优良辐射特性的相控阵天线，属于天线工程技术领域与雷达隐身技术领域。本发明专利技术结合负载优化与阵列赋形的方法，在缩减相控阵天线一定带宽、一定角域范围内单站RCS副瓣电平的同时，提升天线阻抗匹配特性和增益。本方法不但从法向入射的单站RCS缩减拓展到了一定角域入射的RCS缩减，还通过优化馈电结构，在缩减RCS的同时优化了相控阵天线的阻抗匹配特性并提高了增益。此外，天线结构容易加工，用简单的多层地面即可实现，易于装配；由于天线本身的外形设计，也具有非常低的辐射副瓣电平。有非常低的辐射副瓣电平。有非常低的辐射副瓣电平。

【技术实现步骤摘要】
一种具有低散射副瓣和优良辐射特性的相控阵天线


[0001]本专利技术属于天线工程
与雷达隐身
，涉及一种结构简单、具有低散射副瓣、低辐射副瓣、优良阻抗匹配的赋形相控阵天线。

技术介绍

[0002]在隐身应用中，缩减设备的RCS(雷达散射截面)至关重要。相控阵天线作为当今相控阵雷达的终端，也同时贡献了大部分散射，成为RCS缩减的瓶颈。然而，对于普通散射体常用的RCS缩减方法，并不适用于相控阵天线的带内同极化RCS缩减。如覆盖反射式或吸收式超材料，会遮挡相控阵天线本身的辐射；在单元之间加载超材料，会增大单元间距，引起栅瓣，使阵列天线无法扫描；普通天线改变辐射体形状的方法，由于阵列单元尺寸及阵元间互耦的影响，不适用于相控阵天线。
[0003]当前最常用的相控阵天线带内同极化RCS缩减方法是通过改变天线单元的负载调控模式项散射场，从而抵消天线结构项散射场或实现不同单元散射场对消。负载的实现可以有多种方式；如在文献“In
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band scattering and radiation tradeoff of broad本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有低散射副瓣和优良辐射特性的相控阵天线，该相控阵天线由阵列设置的多个单元天线组成，每个单元天线由上至下都包括：宽角匹配层、辐射贴片层、多层板馈电层，探针；所述宽角匹配层包括：第一PCB板；所述辐射贴片层由上至下依次包括：第一辐射贴片、第二PCB板、第二辐射贴片、第三PCB板；所述第一辐射贴片设置于第二PCB板的上表面；所述第二辐射贴片设置于第三PCB板的上表面；所述第二辐射贴片的面积大于第一辐射贴片；所述多层板馈电层由上至下依次包括：第一金属地板、第一通孔、第二金属地板、第二通孔、第三金属地板、第三通孔、第四金属地板、第四通孔、第五金属地板、第五通孔；所述探针穿过第一～第五金属地板中的第一～第五通孔和第三PCB板，给第三PCB板上表面的第二辐射贴片馈电，馈电位置为第二辐射贴片的边缘，所述第二辐射贴片包括边缘部分和中心部分...

【专利技术属性】
技术研发人员：李鹏发，屈世伟，杨仕文，胡俊，
申请(专利权)人：电子科技大学，
类型：发明
国别省市：