衬底处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种衬底处理装置。显影装置具备壳体、气流形成部及衬底保持装置。气流形成部在壳体的内部空间形成清洁的下降气流。显影装置还具备多个喷嘴及划分机构。多个喷嘴向由衬底保持装置保持的衬底供给处理液。划分机构在由衬底保持装置保持衬底的状态下，将壳体的内部空间划分为处理空间与非处理空间。处理空间是包含由衬底保持装置保持的衬底的空间。划分机构包含接住从衬底飞散的处理液的杯、具有喷嘴开口及多个贯通孔且设置于杯的上方的划分板、及覆盖喷嘴开口的罩构件。及覆盖喷嘴开口的罩构件。及覆盖喷嘴开口的罩构件。

【技术实现步骤摘要】
衬底处理装置


[0001]本专利技术涉及一种对衬底进行使用处理液的处理的衬底处理装置。

技术介绍

[0002]以往，为了对用于液晶显示装置或有机EL(Electro Luminescence：电致发光)显示装置等的FPD(Flat Panel Display：平板显示器)用衬底、半导体衬底、光碟用衬底、磁碟用衬底、磁光碟用衬底、光掩模用衬底、陶瓷衬底或太阳能电池用衬底等各种衬底进行使用处理液的特定处理，使用衬底处理装置。
[0003]作为这种衬底处理装置，有使用显影液进行感光性膜的显影处理的显影装置。在显影液具有强臭气的情况下，当包含显影液的氛围泄漏到显影装置的外部时，显影装置周边的作业环境的舒适性降低。为了抑制作业环境的舒适性降低，提案有一种抑制包含显影液的氛围泄漏的构成(例如，参考日本专利特开2021
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86994号公报)。
[0004]日本专利特开2021
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86994号公报所记载的显影装置具有于壳体内收容着衬底保持部、喷嘴、喷嘴罩、收容器及杯的构成。衬底保持部构成为能将衬底以水平姿势保持。喷嘴设置于衬底保持部的上方的位置，构成为能向由衬底保持部保持的衬底供给显影液。喷嘴罩具有圆筒形状，以俯视下包围喷嘴且侧视下与喷嘴的至少一部分重叠的方式设置。
[0005]收容器以于喷嘴罩的下方的位置离开喷嘴罩的方式设置，收容衬底保持部的下部。此外，收容器具有将壳体内的氛围排出到壳体外部的排气部。杯具有于俯视下包围衬底保持部的圆筒形状，能上下移动地设置。
[0006]于衬底的显影处理时，以于侧视下与喷嘴罩的下端及收容器的上端重叠的方式保持杯。由此，在壳体内，形成由喷嘴罩、杯及收容器包围的处理空间，且以包围处理空间的方式形成非处理空间。在这种状态下，在壳体内形成下降气流。

技术实现思路

[0007][专利技术所要解决的问题][0008]在具有所述构成的日本专利特开2021
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86994号公报的显影装置中，通过在壳体内部使处理空间内的压力低于非处理空间的压力，能抑制包含显影液的氛围通过非处理空间漏出到壳体的外部。然而，在日本专利特开2021
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86994号公报所记载的显影装置中，实际上难以使处理空间的压力比非处理空间的压力低到处理空间内部的氛围不漏出到非处理空间的程度。
[0009]本专利技术的目的在于提供一种能抑制衬底处理装置周边的作业环境的舒适性降低的衬底处理装置。
[0010][解决问题的技术手段][0011](1)按照本专利技术的一个方面的衬底处理装置具备：腔室，具有内部空间；气流形成部，向腔室内供给气体形成下降气流；衬底保持部，于腔室内保持衬底；喷嘴，从由衬底保持部保持的衬底的上方的处理位置，向衬底供给处理液；及划分机构，在由衬底保持部保持衬
底的状态下，将腔室的内部空间划分为包含由衬底保持部保持的衬底的处理空间、与包围处理空间的至少一部分的非处理空间，且划分机构包含：处理杯，于俯视下包围由衬底保持部保持的衬底且以侧视下与由衬底保持部保持的衬底重叠的方式设置，形成处理空间；划分板，设置于处理杯上方的位置，具有将下降气流的一部分引导到处理空间的贯通孔、与以俯视下与处理位置重叠的方式形成的喷嘴开口；及盖部件，构成为在由衬底保持部保持衬底且喷嘴位于处理位置的状态下，容许从喷嘴向衬底供给处理液且覆盖喷嘴开口。
[0012]在所述衬底处理装置中，在由衬底保持部保持衬底的状态下，腔室的内部空间被处理杯及划分板划分为处理空间与非处理空间。下降气流的一部分通过划分板具有的多个贯通孔引导到处理空间。在这种情况下，能使供给到处理空间的气体的量少于供给到非处理空间的气体的量。由此，能使处理空间的压力低于非处理空间的压力。
[0013]如果处理空间的压力低于非处理空间的压力，那么处理空间内的氛围不易进入非处理空间。因此，即使在处理空间内产生起因于处理液的臭气的情况下，所述臭气也不易泄漏到腔室的外部。
[0014]此外，在所述构成中，于划分板形成着喷嘴开口。根据所述构成，在喷嘴位于处理位置的状态下，喷嘴与盖部件不干涉。此外，在喷嘴位于处理位置的状态下，形成于划分板的喷嘴开口由盖部件覆盖。由此，从喷嘴向衬底供给处理液时，减少处理空间内的氛围从喷嘴开口漏出到非处理空间的情况。
[0015]结果，这些能抑制衬底处理装置周边的作业环境的舒适性降低。
[0016](2)衬底处理装置还可具备喷嘴驱动部，所述喷嘴驱动部使喷嘴在处理位置、与由衬底保持部保持的衬底的侧方的待机位置之间移动。在这种情况下，在未进行衬底的处理的状态下，能将喷嘴保持于待机位置。由此，在喷嘴位于待机位置的状态下，能进行虚拟分配等处理。因此，防止不需要的处理液从位于处理位置的喷嘴落下、及位于处理位置的喷嘴的前端部干燥等，抑制衬底的处理不良的产生。
[0017](3)衬底处理装置还可具备支撑体，所述支撑体支撑喷嘴且支撑盖部件，喷嘴驱动部通过使支撑体移动或旋转，而使喷嘴及盖部件移动。在这种情况下，在喷嘴在待机位置与处理位置之间移动时，喷嘴与盖部件一体移动。因此，能防止喷嘴与盖部件的干涉。
[0018](4)衬底处理装置还可具备排气部，所述排气部将处理空间的氛围排出到腔室的外部。在这种情况下，通过排出处理空间的氛围，能容易地使处理空间的压力低于非处理空间的压力。
[0019](5)划分板具有从喷嘴开口的内缘向上方延伸的第1壁部，盖部件具有俯视下大于喷嘴开口的盖本体部、与从盖本体部的外缘向下方延伸的第2壁部，于喷嘴开口被盖部件覆盖时，第2壁部还可以俯视下包围第1壁部的至少一部分，侧视下与第1壁部的至少一部分重叠且不与划分板接触的方式受保持。
[0020]在这种情况下，因为于喷嘴开口由盖部件覆盖时，盖部件不与划分板接触，所以抑制因多个部件接触而产生的微粒。此外，根据所述构成，于喷嘴开口由盖部件覆盖时，在位于划分板的第1壁部的内侧的空间、与位于盖部件的第2壁部的侧方的空间之间，形成由第1壁部及第2壁部夹持的间隙空间。由此，与不存在第1壁部及第2壁部的情况相比，减少处理空间的氛围通过喷嘴开口流出到非处理空间的情况。
[0021](6)划分机构还包含筒部件，所述筒部件以俯视下包围划分板，从划分板的外缘向
下方延伸且俯视下包围处理杯的上部的方式形成，处理杯构成为，能以转变为侧视下所述处理杯的上部离开筒部件的第1状态、与侧视下所述处理杯的上部与筒部件重叠的第2状态的方式，在上下方向升降。
[0022]在这种情况下，在由衬底保持部保持衬底的状态下，处理杯成为第2状态，由此，由处理杯、划分板及筒部件从非处理空间划分包围衬底的处理空间。此时，在处理空间与非处理空间之间，形成由筒部件及处理杯的上部夹持的间隙空间。由此，与不存在筒部件的情况相比，减少处理空间的氛围从处理杯与划分板之间流出到非处理空间。此外，根据所述构成，通过将处理杯设为第1状态，能对衬底保持部交接衬底。
[0023](7)衬底保持部构成为，在从喷嘴向衬底供给本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种衬底处理装置，具备：腔室，具有内部空间；气流形成部，向所述腔室内供给气体形成下降气流；衬底保持部，于所述腔室内保持衬底；喷嘴，从由所述衬底保持部保持的衬底的上方的处理位置，向衬底供给处理液；及划分机构，在由所述衬底保持部保持衬底的状态下，将所述腔室的内部空间划分为包含由所述衬底保持部保持的衬底的处理空间、与包围所述处理空间的至少一部分的非处理空间；且所述划分机构包含：处理杯，以俯视下包围由所述衬底保持部保持的衬底且侧视下与由所述衬底保持部保持的衬底重叠的方式设置，形成所述处理空间；划分板，设置于所述处理杯上方的位置，具有将所述下降气流的一部分引导到所述处理空间的多个贯通孔、及以俯视下与所述处理位置重叠的方式形成的喷嘴开口；及盖构件，构成为在由所述衬底保持部保持衬底且所述喷嘴位于所述处理位置的状态下，容许从所述喷嘴向衬底供给处理液且覆盖所述喷嘴开口。2.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其还具备喷嘴驱动部，所述喷嘴驱动部使所述喷嘴在所述处理位置、与由所述衬底保持部保持的衬底的侧方的待机位置之间移动。3.根据权利要求2所述的衬底处理装置，其还具备支撑体，所述支撑体支撑所述喷嘴且支撑所述盖构件；且所述喷嘴驱动部通过使所述支撑体移动或回转，而使所述喷嘴及所述盖构件移动。4.根据权利要求1到3中任一权利要求所述的衬底处理装置，其还具备排气部，所述排气部将所述处理空间的氛围排出到所述腔室的外部。5.根据权利要求1到4中任一权利要求所述的衬底处理装置，其中所述划分板具有从所述喷嘴开口的内缘向上方延伸的第1壁部；且所述盖构件具有：盖本体部，于俯视下大于所述喷嘴开口；与第2壁部，从所述盖本体部的外缘向下方延伸；在由所述盖构件覆盖所述喷嘴开口时，所述第2壁部以俯视下包围所述第1壁部的至少一部分，侧视下与所述第1壁部的至少一部分重叠且不与所述划分板接触的方式受保持。6.根据权利要求1到5...

【专利技术属性】
技术研发人员：甲盛谆，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：