流路装置及其制造方法制造方法及图纸

技术编号:38864951 阅读:60 留言:0更新日期:2023-09-17 10:05
本发明专利技术提供一种流路装置及其制造方法,所述流路装置具有流路,该流路由设置在基材上的槽和在与厚度方向交叉的方向上孔连通的多孔膜形成,与基材接触的多孔膜的至少一部分沿着流路被液密地密封。流路被液密地密封。流路被液密地密封。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】流路装置及其制造方法


[0001]本专利技术涉及一种流路装置及其制造方法。

技术介绍

[0002]流路装置是具备微米级的细流路,可以使用少量的试样进行例如细胞培养、分析等,因此在很多用途中被广泛使用。作为这种流路装置,已知有在流路的一部分使用多孔膜的装置。例如,在日本特开2016

000051号公报中公开了脏器模仿装置,在日本特开2017

136082号公报中公开了细胞培养系统。

技术实现思路

[0003]专利技术要解决的技术课题
[0004]以日本特开2016

000051号公报、日本特开2017

136082号公报等技术为代表,从以往一直在研究与使用多孔膜的流路装置相关的技术,但使用多孔膜引起的液体泄漏可能会成为问题。
[0005]本专利技术是鉴于这种状况而完成的,本专利技术的一实施方式所要解决的课题是提供一种能够抑制因多孔膜的面内方向的孔的连通而引起的液体泄漏的流路装置。
[0006]本专利技术的另一实施方式所要解决的课题是提供一种上述流路装置的制造方法。
[0007]用于解决技术课题的手段
[0008]本专利技术包括以下方式。
[0009]<1>一种流路装置,其具有流路,所述流路由设置在基材上的槽和在与厚度方向交叉的方向上孔连通的多孔膜形成,
[0010]与基材接触的多孔膜的至少一部分沿着流路被液密地密封。
[0011]<2>根据<1>所述的流路装置,其中,包括多个流路。
[0012]<3>根据<2>所述的流路装置,其中,包括隔着多孔膜相对置的两个所述流路。
[0013]<4>根据<1>至<3>中任一项所述的流路装置,其中,包括变压室,该变压室在多孔膜的面方向上位于流路的旁边且沿着流路的至少一部分延伸。
[0014]<5>根据<4>所述的流路装置,其中,包括位于流路的两侧的两个变压室。
[0015]<6>根据<1>至<5>中任一项所述的流路装置,其中,在与基材接触的多孔膜的上述至少一部分填充有聚合物材料。
[0016]<7>根据<1>至<5>中任一项所述的流路装置,其中,与基材接触的多孔膜的上述至少一部分被压缩。
[0017]<8>根据<1>至<5>中任一项所述的流路装置,其中,与基材接触的多孔膜的上述至少一部分被熔融。
[0018]<9>根据<1>至<8>中任一项所述的流路装置,其中,多孔膜的开口率为10%~70%,且平均开口直径为0.01μm~100μm。
[0019]<10>根据<1>至<9>中任一项所述的流路装置,其中,多孔膜在形成流路的
部分的表面形成有细胞外基质的层。
[0020]<11>根据<10>所述的流路装置,其中,槽不具有细胞外基质。
[0021]<12>一种流路装置的制造方法,其包括如下工序:在设置有第1槽的第1基材上配置在与厚度方向交叉的方向上孔连通的多孔膜,形成由第1槽和多孔膜形成的第1流路,沿着第1流路液密地密封与第1基材接触的多孔膜的至少一部分。
[0022]<13>根据<12>所述的流路装置的制造方法,其中,通过在与第1基材接触的多孔膜的上述至少一部分填充聚合物材料来进行密封。
[0023]<14>根据<12>所述的流路装置的制造方法,其中,通过压缩与第1基材接触的多孔膜的上述至少一部分来进行密封。
[0024]<15>根据<12>所述的流路装置的制造方法,其中,通过熔融与第1基材接触的多孔膜的上述至少一部分来进行密封。
[0025]<16>根据<12>至<15>中任一项所述的流路装置的制造方法,其包括如下工序:
[0026]第1基材具有两个第1侧槽,该两个第1侧槽位于第1槽的两侧且沿着第1槽的至少一部分设置,
[0027]将第2基材配置在第1基材上,形成由第2槽和多孔膜形成的第2流路以及由第1侧槽和第2侧槽形成的两个变压室,该第2基材以隔着多孔膜分别与第1槽及两个第1侧槽相对置的方式设置有第2槽和两个第2侧槽。
[0028]专利技术效果
[0029]根据本专利技术的一种实施方式,提供一种抑制了因多孔膜的面内方向的孔的连通而引起的液体泄漏的流路装置。
[0030]根据本专利技术的另一实施方式,提供一种上述流路装置的制造方法。
附图说明
[0031]图1是表示流路装置的一例的概略俯视图。
[0032]图2是沿图1的流路装置的A

A线的概略剖视图。
[0033]图3是表示多孔膜的一例的概略俯视图。
[0034]图4是表示流路装置的一例的概略剖视图。
[0035]图5是表示流路装置的一例的概略剖视图。
[0036]图6是表示流路装置的一例的概略剖视图。
[0037]图7是表示流路装置的一例的概略剖视图。
[0038]图8是表示流路装置的一例的概略俯视图。
[0039]图9是表示沿图10的流路装置的B

B线的概略剖视图。
[0040]图10是表示流路装置的一例的概略剖视图。
[0041]图11是表示流路装置的一例的概略剖视图。
[0042]图12是表示流路装置的一例的概略剖视图。
[0043]图13是表示流路装置的一例的概略剖视图。
[0044]图14是表示流路装置的一例的概略剖视图。
[0045]图15是表示第1基材的一例的概略剖视图。
[0046]图16是表示在图15的第1基材上隔着多孔膜配置第2基材的情况的一例的概略剖视图。
[0047]图17是表示在图15的第1基材上隔着多孔膜配置第2基材的情况的一例的概略剖视图。
[0048]图18是表示在图15的第1基材上隔着多孔膜配置第2基材的情况的一例的概略剖视图。
[0049]图19是表示在图15的第1基材上隔着多孔膜配置第2基材的情况的一例的概略剖视图。
[0050]图20是表示在图15的第1基材上隔着多孔膜配置第2基材的情况的一例的概略剖视图。
[0051]图21是表示第1基材的一例的概略剖视图。
[0052]图22是表示在图21的第1基材上隔着多孔膜配置第2基材的情况的一例的概略剖视图。
[0053]图23是表示在图21的第1基材上隔着多孔膜配置第2基材的情况的一例的概略剖视图。
[0054]图24是表示在图21的第1基材上隔着多孔膜配置第2基材的情况的一例的概略剖视图。
[0055]图25是表示在图21的第1基材上隔着多孔膜配置第2基材的情况的一例的概略剖视图。
[0056]图26是表示实施例的第1基材的概略俯视图。
[0057]图27是表示实施例的第2基材的概略俯视图。
具体实施方式
[0058]以下,对本专利技术所涉及的流路装置及其制造方法的详细内容进行说明。
[0059]在本专利技术中,用“~”表示本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种流路装置,其具有流路,所述流路由设置在基材上的槽和在与厚度方向交叉的方向上孔连通的多孔膜形成,与所述基材接触的所述多孔膜的至少一部分沿着所述流路被液密地密封。2.根据权利要求1所述的流路装置,其中,包括多个所述流路。3.根据权利要求2所述的流路装置,其中,包括隔着所述多孔膜相对置的两个所述流路。4.根据权利要求1至3中任一项所述的流路装置,其中,包括变压室,所述变压室在所述多孔膜的面方向上位于所述流路的旁边,且沿着所述流路的至少一部分延伸。5.根据权利要求4所述的流路装置,其中,包括位于所述流路的两侧的两个所述变压室。6.根据权利要求1至5中任一项所述的流路装置,其中,在与所述基材接触的所述多孔膜的所述至少一部分中填充有聚合物材料。7.根据权利要求1至5中任一项所述的流路装置,其中,与所述基材接触的所述多孔膜的所述至少一部分被压缩。8.根据权利要求1至5中任一项所述的流路装置,其中,与所述基材接触的所述多孔膜的所述至少一部分被熔融。9.根据权利要求1至8中任一项所述的流路装置,其中,所述多孔膜的开口率为10%~70%,且平均开口直径为0.01μm~100μm。10.根据权利要求1至9中任一项所述的流路装置,其中,所述多孔膜在形成所述流路的部分的表面形成有细胞外基质的层。11.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员:望月彩汤川博之安田健一大场孝浩
申请(专利权)人:富士胶片株式会社
类型:发明
国别省市:

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