一种应用于光学镜头的导电增透减反模及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种应用于光学镜头的导电增透减反模及其制备方法，关于光学薄膜技术领域，一种应用于光学镜头的导电增透减反模，所述光学镜头包括多个光学镜片，多个所述光学镜片均包括第一玻璃镜片和第二玻璃镜片，所述导电增透减反模包括基板，所述基板上置有导电膜，所述导电膜上设置有增透减反层，所述增透减反层包括多个交替设置的低折射率膜层和高折射率膜层，所述导电膜为透明导电材料的膜层，所述导电增透减反模的总层数为2～10层，所述第一玻璃镜片上设置有导电发热层。本发明专利技术能够实现使镜片发热后除去结霜、结露、结冰现象，进行正常成像，提高光透过率，降低光线在镜头内部反射杂光、鬼影、成像失真等状况发生，提高成像效果，安全性高。安全性高。安全性高。

【技术实现步骤摘要】
一种应用于光学镜头的导电增透减反模及其制备方法


[0001]本专利技术是关于光学薄膜
，特别是关于一种应用于光学镜头的导电增透减反模及其制备方法。

技术介绍

[0002]光学镜头整体透过率是光学镜头的一个重要参数，一个车载镜头组通常有4～6个镜片、8～12个面，未镀增透膜的每一个面可见光反射率为4～8％，整个镜头光透过率约为46％，较低光线光线透过率会造成图像昏暗，画面中心于周边差异大产生中心亮周边暗的情况，以及光线在镜头内部反射杂光、鬼影、成像失真等状况发生。
[0003]另外，光学镜头在冬季及秋季的早晨，镜头表面易产生的水汽、结露、结霜、结冰的现象，该现象导致对光学镜头产生遮挡，无法进行正常成像，且光学镜头的光透过率低，镜头内部易发生反射杂光、鬼影、成像失真等，容易造成事故的发生，安全性较低。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种应用于光学镜头的导电增透减反模及其制备方法，其能够实现使镜片发热后除去结霜、结露、结冰现象，进行正常成像，
提
高光透过率，降低光线在镜头内部反射杂光、鬼影、成像失真等状况发生，提高成像效果，安全性高。
[0005]为实现上述目的，本专利技术的实施例提供了一种应用于光学镜头的导电增透减反模，所述光学镜头包括多个光学镜片，多个所述光学镜片均包括第一玻璃镜片和第二玻璃镜片，所述导电增透减反模包括基板，所述基板上置有导电膜，所述导电膜上设置有增透减反层；
[0006]所述增透减反层包括多个交替设置的低折射率膜层和高折射率膜层，所述导电膜为透明导电材料的膜层，所述导电增透减反模的总层数为2～10层，所述第一玻璃镜片上设置有导电发热层，所述导电发热层和增透减反层均设置在第一玻璃镜片的内侧面上。
[0007]在本专利技术的一个或多个实施方式中，所述低折射率膜层的折射率为1.5以下，高折射率膜层的折射率为1.8以上。
[0008]在本专利技术的一个或多个实施方式中，所述低折射率膜层为氟化镁或二氧化硅，所述高折射率膜层为五氧化二钽、二氧化钛、钛酸镧、五氧化二铌或二氧化锆。
[0009]在本专利技术的一个或多个实施方式中，所述低折射率膜层包括第一低折射率膜层、第二低折射率膜层、和第三低折射率膜层，所述高折射率膜层包括第一高折射率膜层、第二高折射率膜层和第三高折射率膜层。
[0010]在本专利技术的一个或多个实施方式中，所述第一高折射率膜层的厚度为10nm～20nm，所述第一低折射率膜层的厚度为10nm～20nm，所述第二高折射率膜层的厚度为15nm～30nm，所述第二低折射率膜层的厚度为15nm～30nm，所述第三高折射率膜层的厚度为15nm～30nm，所述第三低折射率膜层的厚度为80nm～120nm。
[0011]在本专利技术的一个或多个实施方式中，所述导电膜为氧化铟锡薄膜或石墨烯薄膜，
所述导电膜电阻为5～200欧姆，所述导电膜厚度为100～400nm。
[0012]本专利技术的实施例提供了一种应用于光学镜头的导电增透减反模的制备方法，包括下述步骤；
[0013]S1、准备基板；
[0014]S2、沉积氧化铟锡；通过电子枪蒸镀机采用电子枪蒸镀法在基板10上沉积氧化铟锡，沉积开始的真空度设置为0.00001Torr，沉积温度设置为250℃～350℃；
[0015]S4、制作氧化锡薄膜；使用化学气相沉积设备利用化学气相沉积的方式制作氧化锡薄膜；
[0016]S5、沉积增透减反层：通过离子源辅助电子枪蒸镀机采用电子枪蒸镀法在基板上沉积增透减反层。
[0017]在本专利技术的一个或多个实施方式中，所述S2步骤中的沉积氧化铟锡可使用磁控溅射设备磁控溅射在基板上沉积氧化铟锡。
[0018]在本专利技术的一个或多个实施方式中，所述氧化铟锡膜层的沉积速率为2nm/s以下，所述S5步骤中的低折射率膜层的沉积速率为1.2nm/s以下，所述高折射率膜层的沉积速率为0.6nm/s以下。
[0019]在本专利技术的一个或多个实施方式中，所述基板为玻璃镜片，所述玻璃镜片为冕类光学玻璃或火石类光学玻璃。
[0020]与现有技术相比，根据本专利技术实施方式的一种应用于光学镜头的导电增透减反模及其制备方法，通过在导电膜上两端增设导线施加电压，使镜片发热后除去结霜、结露、结冰现象，进行正常成像，并设置增透减反膜层，
提高光透过
率，降低光线在镜头内部反射杂光、鬼影、成像失真等状况发生，提高成像效果，安全性高。
附图说明
[0021]图1是导电增透减反膜的结构示意图；
[0022]图2是光学镜头摄像装置镀膜膜层制备工艺流程图；
[0023]图3是光学镜头的侧视结构示意图；
[0024]图4是根据本专利技术一实施方式的第一玻璃镜片1011的结构示意图；
[0025]图5是光学镜片在可见光范围内的反射率对比图。
[0026]图6是光学镜片在可见光范围内的透射率对比图；
[0027]图7是学镜片热成像状态示意图。
[0028]主要附图标记说明：
[0029]10
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基板，100
‑
光学镜头，101
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导电膜，1011
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第一玻璃镜片，1012
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第二玻璃镜片，231
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第一高折射率膜层，232
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第二高折射率膜层，233
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第三高折射率膜层，341
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第一低折射率膜层，342
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第二低折射率膜层，343
‑
第三低折射率膜层，20
‑
导电发热层，30
‑
增透减反层。
具体实施方式
[0030]下面结合附图，对本专利技术的具体实施方式进行详细描述，但应当理解本专利技术的保护范围并不受具体实施方式的限制。
[0031]除非另有其它明确表示，否则在整个说明书和权利要求书中，术语“包括”或其变
换如“包含”或“包括有”等等将被理解为包括所陈述的元件或组成部分，而并未排除其它元件或其它组成部分。
[0032]如图1至图4所示，根据本专利技术优选实施方式的一种应用于光学镜头的导电增透减反模，导电增透减反模包括基板10，基板10上置有导电膜101，导电膜101上设置有增透减反层30。
[0033]增透减反层30包括多个交替设置的低折射率膜层和高折射率膜层。
[0034]导电膜101为透明导电材料的膜层，导电膜101电阻为5～200欧姆，导电膜101厚度为100～400nm。
[0035]其中导电膜101属于高折射率材料，导电膜101为氧化铟锡薄膜或石墨烯薄膜。根据工艺不同，导电膜101的电阻值不同。
[0036]低折射率膜层为氟化镁或二氧化硅，高折射率膜层为五氧化二钽、二氧化钛、钛酸镧、五氧化二铌或二氧化锆。
[0037]如图1至图4所示，导电增透减反模的总层本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种应用于光学镜头的导电增透减反模，所述光学镜头包括多个光学镜片，多个所述光学镜片均包括第一玻璃镜片和第二玻璃镜片，其特征在于，所述导电增透减反模包括基板，所述基板上置有导电膜，所述导电膜上设置有增透减反层；所述增透减反层包括多个交替设置的低折射率膜层和高折射率膜层，所述导电膜为透明导电材料的膜层，所述导电增透减反模的总层数为2～10层，所述第一玻璃镜片上设置有导电发热层，所述导电发热层和增透减反层均设置在第一玻璃镜片的内侧面上。2.如权利要求1所述的一种应用于光学镜头的导电增透减反模，其特征在于，所述低折射率膜层的折射率为1.5以下，高折射率膜层的折射率为1.8以上。3.如权利要求1或2所述的一种应用于光学镜头的导电增透减反模，其特征在于，所述低折射率膜层为氟化镁或二氧化硅，所述高折射率膜层为五氧化二钽、二氧化钛、钛酸镧、五氧化二铌或二氧化锆。4.如权利要求1所述的一种应用于光学镜头的导电增透减反模，其特征在于，所述低折射率膜层包括第一低折射率膜层、第二低折射率膜层、和第三低折射率膜层，所述高折射率膜层包括第一高折射率膜层、第二高折射率膜层和第三高折射率膜层。5.如权利要求4所述的一种应用于光学镜头的导电增透减反模，其特征在于，所述第一高折射率膜层的厚度为10nm～20nm，所述第一低折射率膜层的厚度为10nm～20nm，所述第二高折射率膜层的厚度为15nm～30nm，所述第二低折射率膜层的厚度为15nm～30nm...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵向仁，袁怀刚，诸葛昌成，郑炯锡，
申请(专利权)人：威海世高光电子有限公司，
类型：发明
国别省市：