本实用新型专利技术涉及耦合剂清洗技术领域，且公开了一种内科彩超用超声耦合剂清洗装置，包括清洗装置主体、清洗机构一、清洗机构二和限位机构，所述清洗机构一位于清洗装置主体的前部，所述清洗机构二位于清洗装置主体的外端，所述限位机构位于清洗装置主体的顶端，所述清洗机构一包括开槽、清洗头、连接杆、旋钮和清洁海绵，所述开槽固定设置于清洗装置主体的外端。该内科彩超用超声耦合剂清洗装置，安装了清洗机构一，通过清洗头便于后续对限位机构上的内科彩超超声耦合剂进行清洗，避免内科彩超超声耦合剂粘附在限位机构上而污染限位机构，避免影响限位机构的二次使用，连接杆便于使用者操作旋钮带动清洗头活动，便于清洗头对限位机构进行清洁。机构进行清洁。机构进行清洁。
【技术实现步骤摘要】
一种内科彩超用超声耦合剂清洗装置
[0001]本技术涉及耦合剂清洗
，具体为一种内科彩超用超声耦合剂清洗装置。
技术介绍
[0002]在进行内科彩超超声检查时，需要使用耦合剂进行造影，B超探头进行超声检查，当使用B超探头和耦合剂进行检查后，B超探头的表面会残留有大量的耦合剂，容易粘附灰尘而影响二次使用；
[0003]现有的，使用擦拭巾对B超探头进行擦拭，将B超探头表面的耦合剂进行清理，避免粘附灰尘，更加利于B超探头的二次使用；
[0004]但是，擦拭巾在擦拭的过程中，不便于对擦拭巾进行水洗，依旧会有部分耦合剂留存在B超探头的表面和缝隙中，缝隙中的耦合剂不便于进行清理。
技术实现思路
[0005](一)解决的技术问题
[0006]本技术的目的在于提供一种内科彩超用超声耦合剂清洗装置，以解决上述
技术介绍
中提出擦拭巾在擦拭的过程中，不便于对擦拭巾进行水洗，依旧会有部分耦合剂留存在B超探头的表面和缝隙中，缝隙中的耦合剂不便于进行清理的问题。
[0007](二)技术方案
[0008]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种内科彩超用超声耦合剂清洗装置，包括清洗装置主体、清洗机构一、清洗机构二和限位机构，所述清洗机构一位于清洗装置主体的前部，所述清洗机构二位于清洗装置主体的外端，所述限位机构位于清洗装置主体的顶端，所述清洗机构一包括开槽、清洗头、连接杆、旋钮和清洁海绵，所述开槽固定设置于清洗装置主体的外端，所述开槽呈对称分布，所述清洗头活动安装于限位机构的底端且于清洗装置主体的外端，所述清洗头与限位机构相适配。
[0009]优选的，所述连接杆固定安装于清洗头的外端且贯穿开槽，所述连接杆呈对称分布，所述旋钮固定安装于连接杆的外端且位于开槽的外端，通过清洗头便于后续对限位机构上的内科彩超超声耦合剂进行清洗，避免内科彩超超声耦合剂粘附在限位机构上而污染限位机构，避免影响限位机构的二次使用，连接杆便于使用者操作旋钮带动清洗头活动，便于清洗头对限位机构进行清洁。
[0010]优选的，所述清洁海绵粘贴于清洗头的内端且位于限位机构的底端，所述清洁海绵与限位机构相适配，通过清洁海绵便于对限位机构进行清洁且可进行更换。
[0011]优选的，所述清洗机构二包括进水管、喷头和排水管，所述进水管固定安装于清洗装置主体的外端，所述进水管贯穿清洗装置主体，所述进水管呈对称分布，所述喷头固定安装于进水管的内端且位于限位机构的下方，通过进水管连接外部水源，便于对限位机构进行水洗，喷头将进水管内的水喷出。
[0012]优选的，所述排水管固定安装于清洗装置主体的底端，所述排水管贯穿清洗装置主体的顶端，通过排水管排出喷头喷出的水，避免水流过多而影响限位机构的清洗。
[0013]优选的，所述限位机构包括限位槽、限位块和B超探头，所述限位槽固定设置于清洗装置主体的顶端，所述限位槽呈对称分布，通过限位槽便于限位块的安装和拆卸。
[0014]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0015]1、该内科彩超用超声耦合剂清洗装置，安装了清洗机构一，通过清洗头便于后续对限位机构上的内科彩超超声耦合剂进行清洗，避免内科彩超超声耦合剂粘附在限位机构上而污染限位机构，避免影响限位机构的二次使用，连接杆便于使用者操作旋钮带动清洗头活动，便于清洗头对限位机构进行清洁；
[0016]2、该内科彩超用超声耦合剂清洗装置，安装了清洗机构二，通过进水管连接外部水源，便于对限位机构进行水洗，喷头将进水管内的水喷出；
[0017]3、该内科彩超用超声耦合剂清洗装置，安装了限位机构，限位槽便于限位块的安装和拆卸，限位块对B超探头的位置进行限定，从而便于后续B超探头的清洗。
附图说明
[0018]图1为本技术立体结构示意图；
[0019]图2为本技术剖面结构示意图；
[0020]图3为本技术限位机构部分立体结构示意图；
[0021]图4为本技术清洁海绵剖面结构示意图；
[0022]图5为本技术俯视剖面结构示意图。
[0023]图中：1、清洗装置主体；2、清洗机构一；201、开槽；202、清洗头；203、连接杆；204、旋钮；205、清洁海绵；3、清洗机构二；301、进水管；302、喷头；303、排水管；4、限位机构；401、限位槽；402、限位块；403、B超探头。
具体实施方式
[0024]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0025]请参阅图1
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图5，本技术提供一种技术方案：一种内科彩超用超声耦合剂清洗装置，包括清洗装置主体1、清洗机构一2、清洗机构二3和限位机构4，其清洗机构一2位于清洗装置主体1的前部，清洗机构二3位于清洗装置主体1的外端，限位机构4位于清洗装置主体1的顶端，清洗机构一2包括开槽201、清洗头202、连接杆203、旋钮204和清洁海绵205，开槽201固定设置于清洗装置主体1的外端，开槽201呈对称分布，清洗头202活动安装于限位机构4的底端且与清洗装置主体1的外端，清洗头202与限位机构4相适配；
[0026]连接杆203固定安装于清洗头202的外端且贯穿开槽201，连接杆203呈对称分布，旋钮204固定安装于连接杆203的外端且位于开槽201的外端，通过清洗头202便于后续对限位机构4上的内科彩超超声耦合剂进行清洗，避免内科彩超超声耦合剂粘附在限位机构4上而污染限位机构4，避免影响限位机构4的二次使用，连接杆203便于使用者操作旋钮204带
动清洗头202活动，便于清洗头202对限位机构4进行清洁，清洁海绵205粘贴于清洗头202的内端且位于限位机构4的底端，清洁海绵205与限位机构4相适配，通过清洁海绵205便于对限位机构4进行清洁且可进行更换；
[0027]清洗机构二3包括进水管301、喷头302和排水管303，进水管301固定安装于清洗装置主体1的外端，进水管301贯穿清洗装置主体1，进水管301呈对称分布，喷头302固定安装于进水管301的内端且位于限位机构4的下方，通过进水管301连接外部水源，便于对限位机构4进行水洗，喷头302将进水管301内的水喷出，排水管303固定安装于清洗装置主体1的底端，排水管303贯穿清洗装置主体1的顶端，通过排水管303排出喷头302喷出的水，避免水流过多而影响限位机构4的清洗，限位机构4包括限位槽401、限位块402和B超探头403，限位槽401固定设置于清洗装置主体1的顶端，限位槽401呈对称分布，通过限位槽401便于限位块402的安装和拆卸，限位块402活动安装于限位槽401的内部，B超探头403固定安装于限位块402本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种内科彩超用超声耦合剂清洗装置，包括清洗装置主体(1)、清洗机构一(2)、清洗机构二(3)和限位机构(4)，其特征在于：所述清洗机构一(2)位于清洗装置主体(1)的前部，所述清洗机构二(3)位于清洗装置主体(1)的外端，所述限位机构(4)位于清洗装置主体(1)的顶端，所述清洗机构一(2)包括开槽(201)、清洗头(202)、连接杆(203)、旋钮(204)和清洁海绵(205)，所述开槽(201)固定设置于清洗装置主体(1)的外端，所述开槽(201)呈对称分布，所述清洗头(202)活动安装于限位机构(4)的底端且与清洗装置主体(1)的外端，所述清洗头(202)与限位机构(4)相适配。2.根据权利要求1所述的一种内科彩超用超声耦合剂清洗装置，其特征在于：所述连接杆(203)固定安装于清洗头(202)的外端且贯穿开槽(201)，所述连接杆(203)呈对称分布，所述旋钮(204)固定安装于连接杆(203)的外端且位于开槽(201)的外端。3.根据权利要求2所述的一种内科彩超用超声耦合剂清洗装置，其特征在于：所述清洁海绵(205)粘贴于清洗头(202)的内端且位于限位机构(4)的底端，所述清洁海绵(2...
【专利技术属性】
技术研发人员：郭晓巧，
申请(专利权)人：宁津县人民医院，
类型：新型
国别省市：
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