用于防治无脊椎有害生物的唑类化合物制造技术

披露了具有式1的化合物，包括其所有几何异构体和立体异构体、N

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于防治无脊椎有害生物的唑类化合物
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2021年1月27日提交的美国临时申请号63/142,365的权益。


[0003]本披露涉及适用于农学和非农学用途的某些唑类化合物、其N
‑
氧化物、盐和组合物，以及它们用于在农学和非农学环境中防治无脊椎有害生物诸如节肢动物的方法。

技术介绍

[0004]防治无脊椎有害生物在实现高作物效率中是极其重要的。无脊椎有害生物对生长中和储存的农作物的损害可导致生产力显著降低，并由此导致消费者的成本增加。对林业、温室作物、观赏植物、苗圃作物、储存食品和纤维产品、家畜、家庭、草皮、木材产品以及公共健康和动物健康中的无脊椎有害生物的防治也是重要的。为了这些目的，许多产品是可商购的，但持续需要更有效、较低成本、较低毒性、对环境更安全或具有不同的作用位点的新型化合物。

技术实现思路

[0005]本披露涉及具有式1的化合物(包括所有几何异构体和立体异构体)、其N
‑
氧化物和盐，以及含有它们的组合物，以及它们用于防治无脊椎有害生物的用途：
[0006][0007]其中
[0008]Q是苯环或5至10元芳族环或环体系，每个环或环体系含有选自碳原子和最高达4个杂原子的环成员，这些杂原子独立地选自一个氧原子、一个硫原子和最高达3个氮原子，其中最高达2个碳原子环成员独立地选自C(＝O)和C(＝S)，并且硫原子环成员选自S、S(O)或S(O)2，每个环或环体系是未被取代的或被至少一个R5取代的；
[0009]A是N或CR4；
[0010]X是N或CR4；
[0011]R1和R2独立地是氢、卤素、氰基、硝基、C1‑
C6烷基、C1‑
C6卤代烷基、C1‑
C6烷氧基、C1‑
C6卤代烷氧基、C1‑
C6烷硫基或C1‑
C6卤代烷硫基；或者
[0012]R1和R2连同它们所附接的碳原子一起形成含有选自碳原子和最高达3个杂原子的环成员的3至7元环，这些杂原子独立地选自一个氧原子、一个硫原子和最高达3个氮原子，其中最高达2个碳原子环成员独立地选自C(＝O)和C(＝S)，并且硫原子环成员选自S、S(O)
或S(O)2，所述环是未被取代的或被最高达4个R
x
取代的；
[0013]R3是C(＝Z)NR6R7、C(＝NR8)R9或C(O)R9；或C2‑
C6烷基、C3‑
C6环烷基、C2‑
C6烯基或C2‑
C6炔基，每个是未被取代的或被至少一个R
x
取代的；或者R3是被至少一个R
x
取代的甲基基团；
[0014]每个R4独立地是氢、卤素、氰基、硝基、C1‑
C6烷基、C1‑
C6卤代烷基、C1‑
C6烷氧基、C1‑
C6卤代烷氧基、C1‑
C6烷硫基或C1‑
C6卤代烷硫基；
[0015]每个R5独立地是卤素、氰基、硝基、羟基、SF5、C1‑
C6烷基、C1‑
C6卤代烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C6烷氧基、C1‑
C6卤代烷氧基、C3‑
C6环烷氧基、C(＝Z)NR6R7、C(＝NR8)R9、OC(O)R9、NR6R7、NR6C(O)R9、C(O)R9、S(O)
n
R9、Si(R9)3、OSi(R9)3或LQ
a
；或者
[0016]相邻环原子上的两个R5取代基连同它们所附接的碳原子一起形成含有选自碳原子和最高达3个杂原子的环成员的3至7元环，这些杂原子独立地选自最高达2个氧原子、一个硫原子和最高达3个氮原子，其中最高达2个碳原子环成员独立地选自C(＝O)和C(＝S)，并且硫原子环成员选自S、S(O)或S(O)2，所述环是未被取代的或被最高达4个R
x
取代的；
[0017]Z是O或S；
[0018]L是键、O、C(O)或S(O)
n
；
[0019]n是0、1或2；
[0020]R6是H、NR
10
R
11
、OR
12
、C(＝NR
13
)R
14
、C(O)NR
10
R
11
、C(O)R
14
、S(O)
n
R
14
或Q
b
；或C1‑
C6烷基、C3‑
C6环烷基、C2‑
C6烯基或C2‑
C6炔基，每个是未被取代的或被至少一个R
x
取代的；
[0021]R7是H或Q
b
；或C1‑
C6烷基、C3‑
C6环烷基、C2‑
C6烯基或C2‑
C6炔基，每个是未被取代的或被至少一个R
x
取代的；或者
[0022]R6和R7连同它们所附接的氮原子一起形成含有选自碳原子和最高达2个杂原子的环成员的3至10元环，这些杂原子独立地选自一个氧原子、一个硫原子和最高达2个氮原子，其中最高达2个碳原子环成员独立地选自C(＝O)和C(＝S)，并且硫原子环成员选自S、S(O)或S(O)2，所述环是未被取代的或被最高达4个R
x
取代的；或者
[0023]R6和R7合在一起为＝S(O)
p
R
15
R
16
或＝S(＝NR
17
)R
15
R
16
；
[0024]R8独立地是OR
12
、C(O)R
14
、S(O)
n
R
14
或NHR
10
；
[0025]R9独立地是H；或C1‑
C6烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C6烷氧基、C3‑
C6环烷氧基、C2‑
C6烯基或C2‑
C6炔基，每个是未被取代的或被至少一个R
x
取代的；或C(O)OR
14
、C(O)NR
10
R
11
、NR
10
R
11
、NR
13
C(O)R
14
、C(O)R
14
或Q
b
；
[0026]每个R
x
独立地是卤素、氰基、硝基、羟基、C1‑
C6烷基、C1‑
C6卤代烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C6烷氧基、C1‑
C6卤代烷氧基、C3‑
C6环烷氧基、C(＝NR
13
)R
14
、C(O)NR本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种选自式1的化合物、其N
‑
氧化物或盐，其中Q是苯环或5至10元芳族环或环体系，每个环或环体系含有选自碳原子和最高达4个杂原子的环成员，这些杂原子独立地选自一个氧原子、一个硫原子和最高达3个氮原子，其中最高达2个碳原子环成员独立地选自C(＝O)和C(＝S)，并且该硫原子环成员选自S、S(O)或S(O)2，每个环或环体系是未被取代的或被至少一个R5取代的；A是N或CR4；X是N或CR4；R1和R2独立地是氢、卤素、氰基、硝基、C1‑
C6烷基、C1‑
C6卤代烷基、C1‑
C6烷氧基、C1‑
C6卤代烷氧基、C1‑
C6烷硫基或C1‑
C6卤代烷硫基；或者R1和R2连同它们所附接的碳原子一起形成含有选自碳原子和最高达3个杂原子的环成员的3至7元环，这些杂原子独立地选自一个氧原子、一个硫原子和最高达3个氮原子，其中最高达2个碳原子环成员独立地选自C(＝O)和C(＝S)，并且该硫原子环成员选自S、S(O)或S(O)2，所述环是未被取代的或被最高达4个R
x
取代的；R3是C(＝Z)NR6R7、C(＝NR8)R9或C(O)R9；或C2‑
C6烷基、C3‑
C6环烷基、C2‑
C6烯基或C2‑
C6炔基，每个是未被取代的或被至少一个R
x
取代的；或者R3是被至少一个R
x
取代的甲基基团；每个R4独立地是氢、卤素、氰基、硝基、C1‑
C6烷基、C1‑
C6卤代烷基、C1‑
C6烷氧基、C1‑
C6卤代烷氧基、C1‑
C6烷硫基或C1‑
C6卤代烷硫基；每个R5独立地是卤素、氰基、硝基、羟基、SF5、C1‑
C6烷基、C1‑
C6卤代烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C6烷氧基、C1‑
C6卤代烷氧基、C3‑
C6环烷氧基、C(＝Z)NR6R7、C(＝NR8)R9、OC(O)R9、NR6R7、NR6C(O)R9、C(O)R9、S(O)
n
R9、Si(R9)3、OSi(R9)3或LQ
a
；或者相邻环原子上的两个R5取代基连同它们所附接的碳原子一起形成含有选自碳原子和最高达3个杂原子的环成员的3至7元环，这些杂原子独立地选自最高达2个氧原子、一个硫原子和最高达3个氮原子，其中最高达2个碳原子环成员独立地选自C(＝O)和C(＝S)，并且该硫原子环成员选自S、S(O)或S(O)2，所述环是未被取代的或被最高达4个R
x
取代的；Z是O或S；L是键、O、C(O)或S(O)
n
；n是0、1或2；R6是H、NR
10
R
11
、OR
12
、C(＝NR
13
)R
14
、C(O)NR
10
R
11
、C(O)R
14
、S(O)
n
R
14
或Q
b
；或C1‑
C6烷基、C3‑
C6环烷基、C2‑
C6烯基或C2‑
C6炔基，每个是未被取代的或被至少一个R
x
取代的；R7是H或Q
b
；或C1‑
C6烷基、C3‑
C6环烷基、C2‑
C6烯基或C2‑
C6炔基，每个是未被取代的或被至少一个R
x
取代的；或者
R6和R7连同它们所附接的氮原子一起形成含有选自碳原子和最高达2个杂原子的环成员的3至10元环，这些杂原子独立地选自一个氧原子、一个硫原子和最高达2个氮原子，其中最高达2个碳原子环成员独立地选自C(＝O)和C(＝S)，并且该硫原子环成员选自S、S(O)或S(O)2，所述环是未被取代的或被最高达4个R
x
取代的；或者R6和R7合在一起为＝S(O)
p
R
15
R
16
或＝S(＝NR
17
)R
15
R
16
；R8独立地是OR
12
、C(O)R
14
、S(O)
n
R
14
或NHR
10
；R9独立地是H；或C1‑
C6烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C6烷氧基、C3‑
C6环烷氧基、C2‑
C6烯基或C2‑
C6炔基，每个是未被取代的或被至少一个R
x
取代的；或C(O)OR
14
、C(O)NR
10
R
11
、NR
10
R
11
、NR
13
C(O)R
14
、C(O)R
14
或Q
b
；每个R
x
独立地是卤素、氰基、硝基、羟基、C1‑
C6烷基、C1‑
C6卤代烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C6烷氧基、C1‑
C6卤代烷氧基、C3‑
C6环烷氧基、C(＝NR
13
)R
14
、C(O)NR
10
R
11
、OC(O)R
14
、NR
10
R
11
、NR
13
C(O)R
14
、C(O)R
14
、S(O)
n
R
14
、Si(R
14
)3、OSi(R
14
)3或Q
b
；每个R
10
独立地是H、C1‑
C6烷基、C1‑
C4卤代烷基、C(O)R
18
或S(O)2R
18
；或苯基或5或6元杂环芳族环，每个是未被取代的或被至少一个独立地选自下组的取代基取代的，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基；每个R
11
独立地是H、C1‑
C6烷基或C1‑
C4卤代烷基；或者R
10
和R
11
连同它们所附接的氮原子一起形成含有选自碳原子和最高达2个杂原子的环成员的3至7元环，这些杂原子独立地选自一个氧原子、一个硫原子和最高达2个氮原子，其中最高达2个碳原子环成员独立地选自C(＝O)和C(＝S)，并且该硫原子环成员选自S、S(O)或S(O)2，所述环是未被取代的或被至少一个独立地选自下组的取代基取代的，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基；R
12
是C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基或C1‑
C4卤代烷基；或未被取代的或被至少一个独立地选自下组的取代基取代的苯基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基；每个R
13
独立地是OR
19
、S(O)
n
R
20
或NHR
21
；每个R
14
独立地是H；或C1‑
C6烷基、C3‑
C6环烷基、C2‑
C6烯基或C2‑
C6炔基，每个是未被取代的或被至少一个卤素、氰基或硝基取代的；或C1‑
C6烷氧基、C1‑
C6卤代烷氧基、C3‑
C6环烷氧基、C(O)OR
20
、C(O)NR
25
R
26
、NR
25
R
26
、NR
27
C(O)R
20
、C(O)R
20
或Q
b
；每个R
15
独立地是C1‑
C4烷基或C1‑
C4卤代烷基；或未被取代的或被至少一个独立地选自下组的取代基取代的苯基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基；每个R
16
独立地是C1‑
C4烷基或C1‑
C4卤代烷基；或未被取代的或被至少一个独立地选自下组的取代基取代的苯基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基；或者R
15
和R
16
连同它们所附接的硫原子一起形成环；R
17
是H、氰基、C1‑
C4烷基、C1‑
C4卤代烷基、C(O)R
20
或S(O)2R
20
；或未被取代的或被至少一个独立地选自下组的取代基取代的苯基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷
基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基；每个R
18
独立地是C1‑
C6烷基、C1‑
C6卤代烷基、C1‑
C6烷氧基、C1‑
C6卤代烷氧基或NR
25
R
26
；或苯基或5或6元杂环芳族环，每个是未被取代的或被至少一个独立地选自下组的取代基取代的，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基；每个R
19
独立地是C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C(O)R
22
、S(O)
n
R
23
或Q
b
；每个R
20
独立地是C1‑
C4烷基或C1‑
C4卤代烷基；R
21
是C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C(O)R
22
或C(O)OR
24
；或未被取代的或被至少一个独立地选自下组的取代基取代的苯基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基；每个R
22
独立地是C1‑
C4烷基、C1‑
C4卤代烷基、C3‑
C6环烷基、C3‑
C6卤代环烷基、C3‑
C6环烷基烷基或C3‑
C6卤代环烷基烷基；或未被取代的或被至少一个独立地选自下组的取代基取代的苯基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基；每个R
23
独立地是C1‑
C4烷基、C1‑
C4卤代烷基、C3‑
C6环烷基、C3‑
C6卤代环烷基、C3‑
C6环烷基烷基或C3‑
C6卤代环烷基烷基；或未被取代的或被至少一个独立地选自下组的取代基取代的苯基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基；每个R
24
独立地是C1‑
C4烷基、C1‑
C4卤代烷基、C3‑
C6环烷基、C3‑
C6卤代环烷基、C3‑
C6环烷基烷基或C3‑
C6卤代环烷基烷基；或未被取代的或被至少一个独立地选自下组的取代基取代的苯基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基；每个R
25
独立地是H、C1‑
C6烷基、C1‑
C4卤代烷基、C(O)R
28
或S(O)2R
28
；或苯基或5或6元杂环芳族环，每个是未被取代的或被至少一个独立地选自下组的取代基取代的，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基；每个R
26
独立地是H、C1‑
C6烷基或C1‑
C4卤代烷基；或者R
25
和R
26
连同它们所附接的氮原子一起形成含有选自碳原子和最高达2个杂原子的环成员的3至7元环，这些杂原子独立地选自一个氧原子、一个硫原子和最高达2个氮原子，其中最高达2个碳原子环成员独立地选自C(＝O)和C(＝S)，并且该硫原子环成员选自S、S(O)或S(O)2，所述环是未被取代的或被至少一个独立地选自下组的取代基取代的，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基；每个R
27
独立地是C1‑
C4烷基；每个R
28
独立地是C1‑
C6烷基、C1‑
C6卤代烷基、C1‑
C6烷氧基或C1‑
C6卤代烷氧基；或苯基或5或6元杂环芳族环，每个是未被取代的或被至少一个独立地选自下组的取代基取代的，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C1‑
C4烷基、C3‑
C6环烷基、C1‑
C4卤代烷基、C1‑
C4烷氧基和C1‑
C4卤代烷氧基；Q
a
是5至10元芳族环或环体系，每个环或环体系含有选自碳原子和最高达3个杂原子的
环成员，这些杂原子独立地选自一个氧原子、一个硫原子和最高达3个氮原子，其中最高达2个碳原子环成员独立...

【专利技术属性】
技术研发人员：张文明，K，
申请(专利权)人：FMC公司，
类型：发明
国别省市：