离子束刻蚀电极装置制造方法及图纸

技术编号:38801874 阅读:2 留言:0更新日期:2023-09-15 17:33
本实用新型专利技术涉及脑科学设备技术领域,尤其涉及一种离子束刻蚀电极装置,旨在解决基片取放不便的问题。本实用新型专利技术包括转动挡板、升降压板、载片台和电极;载片台放置于电极上,用于承载基片;升降压板可在竖直方向移动以向下压紧载片台;转动挡板设置于载片台上方并可在水平面内转动以远离载片台。本实用新型专利技术将基片放置于载片台,并通过升降压板在竖直方向的移动将载片台压紧在电极上,防止载片台因电极的角度调整以及旋转导致偏移滑动甚至脱落,影响正常工作。通过升降压板的竖直运动实现对载片台的松开和锁紧来代替粘接或螺丝紧固的方式,可极大提高载片台的拆装效率,节约了取送片的时间。间。间。

【技术实现步骤摘要】
离子束刻蚀电极装置


[0001]本技术涉及脑科学设备
,尤其涉及一种离子束刻蚀电极装置。

技术介绍

[0002]在脑科学领域中,随着生命科学技术的发展,生物连续超薄切片样本制备技术由钻石刀切削逐渐过渡到离子逐层减薄或离子逐层减薄与钻石刀切割组合的工艺,其中典型的如离子束刻蚀减薄工艺。在半导体领域,随着集成技术的发展,半导体制备技术由湿法工艺逐渐过渡到干法工艺中,基于等离子体的半导体工艺处理技术大量的在芯片制备中使用。其中典型的如离子束刻蚀工艺,该技术基于等离子技术,采用特定的离子源产生离子束并对衬底材料进行物理轰击,实现对材料的去除。现有工艺中,基片粘连在电极上或使用螺丝紧固在电极上,基片的取放不便,浪费了取送片的时间。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种离子束刻蚀电极装置,以解决基片取放不便的问题。
[0004]为了解决上述技术问题,本技术提供的技术方案在于:
[0005]一种离子束刻蚀电极装置,包括转动挡板、升降压板、载片台和电极;载片台放置于电极上,用于承载基片;升降压板可在竖直方向移动以向下压紧载片台;转动挡板设置于载片台上方并可在水平面内转动以远离载片台。
[0006]进一步的,离子束刻蚀电极装置还包括磁流体转动部和磁流体固定部;电极和载片台安装于磁流体转动部,磁流体转动部可绕自身轴线转动;磁流体固定部设置于磁流体转动部下方并与磁流体转动部连接。
[0007]进一步的,离子束刻蚀电极装置还包括升降伸缩杆,升降伸缩杆竖直设置,一端与磁流体固定部连接,另一端与升降压板连接。
[0008]进一步的,离子束刻蚀电极装置还包括转动环,转动环安装于载片台上方,包括第一连接部和第二连接部,第一连接部与第二连接部可发生相对转动;第一连接部与载片台连接,第二连接部可与升降压板的下表面抵接。
[0009]进一步的,离子束刻蚀电极装置还包括第一驱动件,第一驱动件与转动挡板连接,用于驱动转动挡板在水平面内转动。
[0010]进一步的,离子束刻蚀电极装置还包括第二驱动件,第二驱动件与磁流体转动部连接并驱动磁流体转动部、电极和载片台转动。
[0011]进一步的,离子束刻蚀电极装置还包括水滑环,水滑环的转动部分与磁流体转动部连接并与磁流体转动部同步转动;水滑环的固定部分设置有回水通道,冷却水从水滑环的进水口进入电极的水槽后通过回水通道从水滑环的回水口流出。
[0012]进一步的,离子束刻蚀电极装置还包括分水盘,分水盘一端与水滑环的进水口连通,另一端与电极的水槽连通。
[0013]进一步的,离子束刻蚀电极装置还包括角度臂,角度臂与磁流体固定部连接,用于控制磁流体固定部的角度。
[0014]进一步的,离子束刻蚀电极装置还包括固定罩,磁流体转动部、磁流体固定部、第一驱动件、第二驱动件和水滑环均设置于固定罩内。
[0015]综合上述技术方案,本技术所能实现的技术效果在于:
[0016]本技术提供的离子束刻蚀电极装置包括转动挡板、升降压板、载片台和电极;载片台放置于电极上,用于承载基片;升降压板可在竖直方向移动以向下压紧载片台;转动挡板设置于载片台上方并可在水平面内转动以远离载片台。
[0017]本技术提供的离子束刻蚀电极装置将基片放置于载片台,并通过升降压板在竖直方向的移动将载片台压紧在电极上,防止载片台因电极的角度调整以及旋转导致偏移滑动甚至脱落,影响正常工作。通过升降压板的竖直运动实现对载片台的松开和锁紧来代替粘接或螺丝紧固的方式,可极大提高载片台的拆装效率,节约了取送片的时间。同时,转动挡板的设置可以遮挡基片,当离子束稳定后,转动挡板移开使离子束刻蚀基片,避免初期不稳定的离子束刻蚀基片导致刻蚀不均匀。
附图说明
[0018]为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案,下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本技术的一些实施方式,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0019]图1为本技术实施例提供的离子束刻蚀电极装置的结构示意图;
[0020]图2为本技术实施例提供的离子束刻蚀电极装置的内部示意图;
[0021]图3为本技术实施例提供的离子束刻蚀电极装置的剖视图。
[0022]图标:1

转动挡板;2

升降压板;3

载片台;4

固定罩;5

角度臂;6

电极;7

磁流体转动部;8

磁流体固定部;9

升降伸缩杆;10

水滑环;11

进水口;12

回水口;13

第一驱动件;14

第二驱动件;15

回水通道;16

分水盘;17

转动环。
具体实施方式
[0023]为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
[0024]因此,以下对在附图中提供的本技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围,而是仅仅表示本技术的选定实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。
[0025]下面结合附图,对本技术的一些实施方式作详细说明。在不冲突的情况下,下述的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0026]现有工艺中,基片粘连在电极上或使用螺丝紧固在电极上,基片的取放不便,浪费
了取送片的时间。
[0027]有鉴于此,本技术提供了一种离子束刻蚀电极装置,包括转动挡板1、升降压板2、载片台3和电极6;载片台3放置于电极6上,用于承载基片;升降压板2可在竖直方向移动以向下压紧载片台3;转动挡板1设置于载片台3上方并可在水平面内转动以远离载片台3。
[0028]本技术提供的离子束刻蚀电极装置通过升降压板2在竖直方向的移动将载片台3压紧在电极6上,防止载片台3因电极6的角度调整以及旋转导致偏移滑动甚至脱落,影响正常工作。通过升降压板2的竖直运动实现对载片台3的松开和锁紧来代替粘接或螺丝紧固的方式,可极大提高载片台3的拆装效率,节约了取送片的时间。同时,转动挡板1的设置可以遮挡基片,当离子束稳定后,转动挡板1移开使离子束刻蚀基片,避免初期不稳定的离子束刻蚀基片导致刻蚀不均匀。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种离子束刻蚀电极装置,其特征在于,包括转动挡板(1)、升降压板(2)、载片台(3)和电极(6);所述载片台(3)放置于所述电极(6)上,用于承载基片;所述升降压板(2)可在竖直方向移动以向下压紧所述载片台(3);所述转动挡板(1)设置于所述载片台(3)上方并可在水平面内转动以远离所述载片台(3)。2.根据权利要求1所述的离子束刻蚀电极装置,其特征在于,还包括磁流体转动部(7)和磁流体固定部(8);所述电极(6)和所述载片台(3)安装于所述磁流体转动部(7),所述磁流体转动部(7)可绕自身轴线转动;所述磁流体固定部(8)设置于所述磁流体转动部(7)下方并与所述磁流体转动部(7)连接。3.根据权利要求2所述的离子束刻蚀电极装置,其特征在于,还包括升降伸缩杆(9),所述升降伸缩杆(9)竖直设置,一端与所述磁流体固定部(8)连接,另一端与所述升降压板(2)连接。4.根据权利要求3所述的离子束刻蚀电极装置,其特征在于,还包括转动环(17),所述转动环(17)安装于所述载片台(3)上方,包括第一连接部和第二连接部,所述第一连接部与第二连接部可发生相对转动;所述第一连接部与所述载片台(3)连接,所述第二连接部可与所述升降压板(2)的下表面抵接。5.根据权利要求4所述的离子束刻蚀电极装置,其特征在于,还包括第一驱动件(13),所述第一驱动件(13)与所述转动挡板(...

【专利技术属性】
技术研发人员:韩华马宏图汪明刚李琳琳
申请(专利权)人:中国科学院自动化研究所
类型:新型
国别省市:

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