硬盘托架制造技术

本发明专利技术涉及硬盘技术领域，尤其涉及一种硬盘托架。该硬盘托架包括托架本体、填补组件和第一导光柱。其中，托架本体包括第一连接部和第二连接部，第一连接部与第二连接部连接；第一连接部和第二连接部共同限定出用于容置硬盘本体的容置空间。填补组件与第一连接部可拆卸连接，且填补组件位于容置空间内；填补组件上开设有凹槽，凹槽贯穿填补组件相对的两个端面。第一导光柱设置在凹槽内，硬盘本体上设置有灯珠，当硬盘本体置于容置空间时，灯珠对准第一导光柱。该硬盘托架能够兼容不同类型、不同尺寸的硬盘，提高硬盘托架的兼容性能，节约成本。成本。成本。

【技术实现步骤摘要】
硬盘托架


[0001]本专利技术涉及硬盘
，尤其涉及一种硬盘托架。

技术介绍

[0002][0003]目前，SSD(固态硬盘)的形态多种多样，比如消费级的SATA、PCIe、M.2，企业级的U.2、SAS、E1.L、E1.S等，而E3.S是面向云服务、企业数据中心的NVMe SSD新形态标准，主要针对PCIe 5.0、PCIe 6.0，扩展性更强。
[0004]通常，E3.S硬盘种类多样化，不同种类的E3.S硬盘尺寸均不相同。在现有技术中，不同种类的E3.S硬盘需要配置特定的硬盘托架，而制造不同类型的硬盘托架需要不同的模具，从而导致增加硬盘托架的制造成本，降低硬盘托架的兼容性能，不利于批量化生产。
[0005]因此，亟需设计一种硬盘托架，来解决以上技术问题。

技术实现思路

[0006]本专利技术的目的在于提出一种硬盘托架，能够兼容不同类型、不同尺寸的硬盘，提高硬盘托架的兼容性能，节约成本。
[0007]为达此目的，本专利技术采用以下技术方案：
[0008]本专利技术提供一种硬盘托架，包括：<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.硬盘托架，其特征在于，包括：托架本体(100)，所述托架本体(100)包括第一连接部(110)和第二连接部(120)，所述第一连接部(110)与所述第二连接部(120)连接；所述第一连接部(110)和所述第二连接部(120)共同限定出用于容置硬盘本体(10)的容置空间(130)；填补组件(200)，所述填补组件(200)与所述第一连接部(110)可拆卸连接，且所述填补组件(200)位于所述容置空间(130)内；所述填补组件(200)上开设有凹槽(210)，所述凹槽(210)贯穿所述填补组件(200)相对的两个端面；第一导光柱(220)，所述第一导光柱(220)设置在所述凹槽(210)内，所述硬盘本体(10)上设置有灯珠(13)，当所述硬盘本体(10)置于所述容置空间(130)时，所述灯珠(13)对准所述第一导光柱(220)。2.根据权利要求1所述的硬盘托架，其特征在于，所述填补组件(200)具有第一端面和第二端面，所述第一端面上开设有第一通孔(230)，所述第二端面上开设有第二通孔(240)，所述第一通孔(230)和所述第二通孔(240)均连通于所述凹槽(210)，所述第一导光柱(220)的一端穿设在所述第一通孔(230)内，所述第一导光柱(220)的另一端穿设在所述第二通孔(240)内。3.根据权利要求2所述的硬盘托架，其特征在于，所述填补组件(200)的所述第一端面上凸设有定位柱(250)，所述硬盘本体(10)上开设有定位孔(11)，所述定位柱(250)能插接在所述定位孔(11)中。4.根据权利要求1所述的硬盘托架，其特征在于，所述填补组件(200)还包括限位件(260)，所述限位件(260)设置在所述凹槽(210)内，沿所述硬盘本体(10)的厚度方向，所述限位件(260)的高度高于所述第一导光柱(220)的高度。5.根据权利要求1所述的硬盘托架，其特征在于，所述硬盘托架包括第一固定件(300)和第二固定件(400)，所述填补组件(200...

【专利技术属性】
技术研发人员：曾博恒，
申请(专利权)人：英业达股份有限公司，
类型：发明
国别省市：