载置台及基板处理装置制造方法及图纸

提供一种能够对吸附力的不均进行抑制，并降低成本的载置台及基板处理装置。该载置台包括：基台；静电吸盘，设置在所述基台上，并且在内部具有2极以上的N极的电极；以及电源，向所述N极的电极施加相位彼此不同的2相以上的N相的电压，该电压的正负周期性地交替，其中，设置在相邻的所述电极之间的电极间隙的中心线由x＝rCos(θ+2π(n

【技术实现步骤摘要】
载置台及基板处理装置


[0001]本公开涉及一种载置台及基板处理装置。

技术介绍

[0002]已知一种载置台，其在对基板进行蚀刻处理等所期望的处理的处理装置中，对基板进行吸附。
[0003]专利文献1中公开了一种施加交流电压的静电吸盘装置，所述交流电压为n相的交流电压，其中n为2以上，该静电吸盘装置的特征在于，具有：施加该n相交流电压的电极；由使所述各电极之间绝缘的绝缘体制成的试样台；以及施加所述n相交流电压的电路。
[0004]<现有技术文献>
[0005]<专利文献>
[0006]专利文献1：日本特开2003
‑
332412号公报

技术实现思路

[0007]<本专利技术要解决的问题>
[0008]在一个方面，本公开提供一种能够对吸附力的不均进行抑制，并降低成本的载置台及基板处理装置。
[0009]<用于解决问题的手段>
[0010]为了解决上本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种载置台，包括：基台；静电吸盘，设置在所述基台上，并且在内部具有2极以上的N极的电极；以及电源，向所述N极的电极施加相位彼此不同的2相以上的N相的电压，该电压的正负周期性地交替，其中，设置在相邻的所述电极之间的电极间隙的中心线由x＝rCos(θ+2π(n
‑
1)/N)y＝rSin(θ+2π(n
‑
1)/N)表示。2.根据权利要求1所述的载置台，其中，所述电源施加交流电压。3.根据权利要求1所述的载置台，其中，所述电源施加矩形波、三角波、以及锯齿波之中的任意一种以上...

【专利技术属性】
技术研发人员：谷川雄洋，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：