一种武术散打平衡训练装置制造方法及图纸

技术编号:38730525 阅读:15 留言:0更新日期:2023-09-08 23:20
本发明专利技术提供了一种武术散打平衡训练装置,属于平衡训练器材技术领域,包括底座、支撑块、活动块、踏板、调节组件以及触压板,所述支撑块固定安装在所述底座上部,所述活动块截面呈碗状结构,所述支撑块上部开设有可供所述活动块嵌入的碗状槽,所述踏板设有两组,两组所述踏板设置在所述活动块上部并间隔分布,所述触压板设置在所述活动块底部并与所述碗状槽接触,所述调节组件设置在所述活动块底部,用于对所述触压板与所述碗状槽的接触力度进行调节。本发明专利技术实施例相较于现有技术,能够对活动块在支撑块内部的灵活度进行调节,从而满足不同训练人员对于训练强度的需求,同时满足同一训练人员不同训练阶段的需求,提高了训练效果。提高了训练效果。提高了训练效果。

【技术实现步骤摘要】
一种武术散打平衡训练装置


[0001]本专利技术属于平衡训练器材
,具体是一种武术散打平衡训练装置。

技术介绍

[0002]众所周知,武术散打平衡训练装置是一种用于武术训练过程中,有助于提高散打学习的人员进行平衡能力的辅助装置,其在武术训练的领域中得到了广泛的使用。
[0003]现有的武术散打平衡训练装置结构较为简单,大多包含一个底部呈弧形结构的不平衡物体,训练人员进行平衡训练时站在该不平衡物体上部并维持该不平衡物体在地面或者支撑体上处于平衡状态,然而由于该不平衡物体的弧形底部与地面或者支撑体上部的灵活性较高,一些没有平衡基础的训练人员根本无法在该不平衡物体上部站稳,进而使得该不平衡物体无法对没有平衡基础的训练人员产生平衡训练帮助。

技术实现思路

[0004]针对上述现有技术的不足,本专利技术实施例要解决的技术问题是提供一种武术散打平衡训练装置。
[0005]为解决上述技术问题,本专利技术提供了如下技术方案:一种武术散打平衡训练装置,包括底座、支撑块、活动块、踏板、调节组件以及触压板,所述支撑块固定安装在所述底座上部,所述活动块截面呈碗状结构,所述支撑块上部开设有可供所述活动块嵌入的碗状槽,所述踏板设有两组,两组所述踏板设置在所述活动块上部并间隔分布,所述触压板设置在所述活动块底部并与所述碗状槽接触,所述调节组件设置在所述活动块底部,用于对所述触压板与所述碗状槽的接触力度进行调节。
[0006]作为本专利技术进一步的改进方案:所述调节组件包括转轴、转轮、斜齿片、齿轮、螺纹套筒以及螺杆,所述螺纹套筒一端与所述活动块底部转动连接,另一端套设于所述螺杆外部并与所述螺杆螺纹配合,所述螺杆远离所述螺纹套筒的一端与所述触压板相连,所述齿轮安装在所述螺纹套筒外部,所述转轮设有两组,两组所述转轮分别设置在所述齿轮两侧,两组所述转轮圆周侧壁上均铰接设置有若干所述斜齿片,每组所述斜齿片一侧均通过第三弹性件与所述转轮侧壁相连,两组所述转轮上部均固定设置有所述转轴,两组所述转轴上端分别与两组所述踏板相连。
[0007]作为本专利技术进一步的改进方案:所述触压板包括弧形支撑板以及设置在所述弧形支撑板一侧的弹性板,
所述螺杆远离所述螺纹套筒的一端与所述弧形支撑板相连,所述弹性件与所述碗状槽槽底相接触。
[0008]作为本专利技术进一步的改进方案:所述弹性板为橡胶板或硅胶板。
[0009]作为本专利技术再进一步的改进方案:所述碗状槽内还设置有限位组件,在训练人员双脚踏在两组所述踏板上时,所述限位组件用于将所述活动块限定在所述碗状槽内部。
[0010]作为本专利技术再进一步的改进方案:两组所述踏板底部均固定设置有压杆,所述压杆下端延伸至所述活动块内部并开设有方形孔,所述转轴上端固定设置有方形杆,所述方形杆远离所述转轴的一端延伸至所述方形孔内部,所述压杆下端与所述转轴上端之间通过第二弹性件相连,所述限位组件包括绳体、第一弹性件、限位销、限位齿以及弧形凸起,所述弧形凸起固定安装在所述碗状槽内壁上,所述限位齿在所述弧形凸起一侧呈间隔分布设有若干组,所述限位销一端延伸至所述弧形凸起一侧,另一端延伸至所述活动块内部并通过所述绳体与所述压杆相连。
[0011]作为本专利技术再进一步的改进方案:所述第一弹性件、第二弹性件以及第三弹性件为弹簧或金属弹片。
[0012]与现有技术相比,本专利技术的有益效果是:本专利技术实施例中,在进行平衡训练时,训练人员双脚分别踏在两组踏板上,活动块受到训练人员的重量在碗状槽内部发生适应性的转动,训练人员可通过双腿控制活动块的角度,使得活动块在碗状槽内维持平衡,从而实现平衡训练目的;在活动块在碗状槽内部发生适应性转动时可带动触压板贴合于碗状槽槽底进行适应性的滑动,当没有平衡基础的训练人员进行训练时,可通过调节组件对触压板与碗状槽的接触力度进行调节,使得触压板与碗状槽的接触力度增大,当触压板与碗状槽的接触力度增大后,触压板与碗状槽之间的摩擦力相应增大,使得活动块在碗状槽内部转动时的灵活度减小,从而降低活动块在碗状槽内部维持平衡的难度,反之当具有一定平衡基础的训练人员进行训练时,可通过调节组件对触压板与碗状槽的接触力度进行调节,使得触压板与碗状槽的接触力度减小,当触压板与碗状槽的接触力度减小后,触压板与碗状槽之间的摩擦力相应减小,使得活动块在碗状槽内部转动时的灵活度增大,从而增大活动块在碗状槽内部维持平衡的难度,相较于现有技术,能够对活动块在支撑块内部的灵活度进行调节,从而满足不同训练人员对于训练强度的需求,同时满足同一训练人员不同训练阶段的需求,提高了训练效果。
附图说明
[0013]图1为一种武术散打平衡训练装置的结构示意图;图2为一种武术散打平衡训练装置中活动块在支撑块内部的结构示意图;图3为图2中A区域放大示意图;图4为图2中B区域放大示意图;图中:10

底座、20

支撑块、30

活动块、301

第一气道、302

第二气道、40

踏板、50

限位组件、501

绳体、502

第一弹性件、503

限位销、504

限位齿、505

弧形凸起、60

调节组件、601

转轴、602

转轮、603

压杆、604

方形杆、605

第二弹性件、606

斜齿片、607

第三弹性件、608

齿轮、609

螺纹套筒、610

螺杆、70

触压板、701

弧形支撑板、702

弹性板。
实施方式
[0014]下面结合具体实施方式对本申请的技术方案作进一步详细地说明。
[0015]下面详细描述本申请的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本申请,而不能理解为对本申请的限制。
[0016]请参阅图1和图2,本实施例提供了一种武术散打平衡训练装置,包括底座10、支撑块20、活动块30、踏板40、调节组件60以及触压板70,所述支撑块20固定安装在所述底座10上部,所述活动块30截面呈碗状结构,所述支撑块20上部开设有可供所述活动块30嵌入的碗状槽,所述踏板40设有两组,两组所述踏板40设置在所述活动块30上部并间隔分布,所述触压板70设置在所述活动块30底部并与所述碗状槽接触,所述调节组件60设置在所述活动块30底部,用于对所述触压板70与所述碗状槽的接触力度进行调节。
[0017]在进行平衡训练时,训练人员双脚分别踏在两组踏板40上,活动块30受到本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种武术散打平衡训练装置,其特征在于,包括底座、支撑块、活动块、踏板、调节组件以及触压板,所述支撑块固定安装在所述底座上部,所述活动块截面呈碗状结构,所述支撑块上部开设有可供所述活动块嵌入的碗状槽,所述踏板设有两组,两组所述踏板设置在所述活动块上部并间隔分布,所述触压板设置在所述活动块底部并与所述碗状槽接触,所述调节组件设置在所述活动块底部,用于对所述触压板与所述碗状槽的接触力度进行调节。2.根据权利要求1所述的一种武术散打平衡训练装置,其特征在于,所述调节组件包括转轴、转轮、斜齿片、齿轮、螺纹套筒以及螺杆,所述螺纹套筒一端与所述活动块底部转动连接,另一端套设于所述螺杆外部并与所述螺杆螺纹配合,所述螺杆远离所述螺纹套筒的一端与所述触压板相连,所述齿轮安装在所述螺纹套筒外部,所述转轮设有两组,两组所述转轮分别设置在所述齿轮两侧,两组所述转轮圆周侧壁上均铰接设置有若干所述斜齿片,每组所述斜齿片一侧均通过第三弹性件与所述转轮侧壁相连,两组所述转轮上部均固定设置有所述转轴,两组所述转轴上端分别与两组所述踏板相连。3.根据权利要求2所述的一种武术散打平衡训练装置,其特征在于,所述触压板包括弧形支撑板以及设置在所述弧形...

【专利技术属性】
技术研发人员:殷国玺刘力
申请(专利权)人:唐山职业技术学院
类型:发明
国别省市:

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