显示装置的制造方法制造方法及图纸

提供一种容易实现高清晰化的显示装置的制造方法。提供一种兼具高显示品质和高清晰度的显示装置。在该制造方法中，在第一像素电极及第二像素电极上沉积第一EL膜，以覆盖第一EL膜的方式形成第一牺牲膜，对第一牺牲膜及第一EL膜进行蚀刻来使第二像素电极露出，并且形成第一像素电极上的第一EL层及该第一EL层上的第一牺牲层并去除第一牺牲层。第一EL膜及第二EL膜通过干蚀刻进行蚀刻，第一牺牲层通过湿蚀刻去除。刻去除。刻去除。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】显示装置的制造方法


[0001]本专利技术的一个方式涉及一种显示装置。本专利技术的一个方式涉及一种显示装置的制造方法。
[0002]注意，本专利技术的一个方式不局限于上述
作为本说明书等所公开的本专利技术的一个方式的
的一个例子，可以举出半导体装置、显示装置、发光装置、蓄电装置、存储装置、电子设备、照明装置、输入装置、输入输出装置以及上述装置的驱动方法或制造方法。半导体装置是指能够通过利用半导体特性而工作的所有装置。半导体装置是指能够通过利用半导体特性而工作的所有装置。

技术介绍

[0003]近年来，高清晰显示器面板被需求。作为被要求高清晰显示器面板的设备，例如有智能手机、平板终端、笔记本型个人计算机等。另外，电视装置、监视装置等固定式显示器装置也随着高分辨率化被要求高清晰化。再者，作为最需求高清晰度的设备，例如有应用于虚拟现实(VR：Virtual Reality)或增强现实(AR：Augmented Reality)的设备。
[0004]此外，作为可以应用于显示器面板的显示装置，典型地可以举出液晶显示装置、具备有机EL(Electro Luminescence：电致发光)元件或发光二极管(LED：Light Emitting Diode)等发光元件的发光装置、以电泳方式等进行显示的电子纸等。
[0005]例如，有机EL元件的基本结构是在一对电极之间夹有包含发光有机化合物的层的结构。通过对该元件施加电压，可以得到来自发光有机化合物的发光。由于应用上述有机EL元件的显示装置不需要液晶显示装置等所需要的背光源，所以可以实现薄型、轻量、高对比度且低功耗的显示装置。例如，专利文献1公开了使用有机EL元件的显示装置的一个例子。[先行技术文献][专利文献][0006][专利文献1]日本专利申请公开第2002
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324673号公报

技术实现思路

专利技术所要解决的技术问题
[0007]本专利技术的一个方式的目的之一是提供一种容易实现高清晰化的显示装置的制造方法。本专利技术的一个方式的目的之一是提供一种兼具高显示品质和高清晰度的显示装置。本专利技术的一个方式的目的之一是提供一种对比度高的显示装置。本专利技术的一个方式的目的之一是提供一种可靠性高的显示装置。
[0008]本专利技术的一个方式的目的之一是提供一种具有新颖结构的显示装置或显示装置的制造方法。本专利技术的一个方式的目的之一是提供一种以高成品率制造上述显示装置的方法。本专利技术的一个方式的目的之一是至少改善现有技术的问题中的至少一个。
[0009]注意，上述目的的记载并不妨碍其他目的的存在。本专利技术的一个方式不一定需要实现所有上述目的。可以从说明书、附图、权利要求书等的记载中抽取上述目的以外的目
的。解决技术问题的手段
[0010]本专利技术的一个方式是一种显示装置的制造方法，包括如下工序：在第一像素电极及第二像素电极上沉积第一EL膜的第一工序；以覆盖第一EL膜的方式形成第一牺牲膜的第二工序；对第一牺牲膜及第一EL膜进行蚀刻来使第二像素电极露出且形成第一像素电极上的第一EL层及该第一EL层上的第一牺牲层的第三工序；在第一牺牲层及第二像素电极上沉积第二EL膜的第四工序；以覆盖第二EL膜的方式形成第二牺牲膜的第五工序；对第二牺牲膜及第二EL膜进行蚀刻来使第一牺牲层露出且形成第二像素电极上的第二EL层及该第二EL层上的第二牺牲层的第六工序；去除第一牺牲层及第二牺牲层的第七工序；以及使第一EL层及第二EL层干燥的第八工序。另外，第一EL膜及第二EL膜通过干蚀刻被蚀刻，并且，第一牺牲层及第二牺牲层通过湿蚀刻被去除。
[0011]另外，在上述方法中，第一牺牲膜优选包含溶解于水或醇的树脂材料。并且，优选的是，在第三工序中，第一牺牲膜及第一EL膜通过在含氧气氛下进行的干蚀刻被连续地蚀刻。并且，优选的是，在第七工序中，第一牺牲层及第二牺牲层通过溶解于水或醇来去除。
[0012]另外，在上述方法中，第一牺牲膜优选包括金属膜、合金膜、金属氧化物膜、半导体膜或无机绝缘膜。并且，优选的是，在第三工序中，第一EL膜通过使用主要成分中不包含氧的蚀刻气体的干蚀刻被蚀刻。另外，优选的是，在第七工序中，第一牺牲层及第二牺牲层通过使用四甲基氢氧化铵水溶液(TMAH：Tetramethylammonium Hydroxide)、稀氢氟酸、草酸、磷酸、醋酸、硝酸或它们的混合液体的湿蚀刻被去除。
[0013]另外，上述任意个方法优选在第二工序与第三工序之间还包括形成硬掩模的第九工序。并且，优选的是，在第三工序中，在使用硬掩模对第一牺牲膜进行蚀刻之后，以同一处理对硬掩模及第一EL膜进行蚀刻。
[0014]另外，在上述任意个方法中，第一EL层及第二EL层优选都以其顶面形状为带状的方式被加工。或者，优选都以其顶面形状为岛状的方式被加工。
[0015]另外，上述任意个方法优选在第八工序之后还包括在第一EL层及第二EL层上形成公共电极的第十工序。并且，优选还包括在公共电极上形成保护层的第十一工序。
[0016]另外，上述任意个方法优选在第八工序之后且第十工序之前还包括在第一EL层及第二EL层上形成公共层的第十二工序。
[0017]另外，上述任意个方法优选在第一工序之前还包括在第一像素电极及第二像素电极上形成厚度互不相同的光学调整层的第十三工序。
[0018]另外，本专利技术的另一个方式是一种显示装置的制造方法，包括如下工序：在第一像素电极及第二像素电极上沉积EL膜的第一工序；以覆盖EL膜的方式形成牺牲膜的第二工序；对牺牲膜及EL膜进行蚀刻来形成第一像素电极上的第一EL层、该第一EL层上的第一牺牲层、第二像素电极上的第二EL层以及该第二EL层上的第二牺牲层的第三工序；去除第一牺牲层及第二牺牲层的第四工序；以及使第一EL层及第二EL层干燥的第五工序。另外，在第三工序中，EL膜通过干蚀刻被蚀刻。另外，在第四工序中，第一牺牲层通过湿蚀刻被去除。另外，EL膜包括呈现白色光的发光层。专利技术效果
[0019]根据本专利技术的一个方式，可以提供一种容易实现高清晰化的显示装置的制造方
法。另外，根据本专利技术的一个方式，可以提供一种兼具高显示品质和高清晰度的显示装置。另外，根据本专利技术的一个方式，可以提供一种对比度高的显示装置。另外，根据本专利技术的一个方式，可以提供一种可靠性高的显示装置。
[0020]另外，根据本专利技术的一个方式，可以提供一种具有新颖结构的显示装置或显示装置的制造方法。另外，根据本专利技术的一个方式，可以提供一种以高成品率制造上述显示装置的方法。另外，根据本专利技术的一个方式，可以至少改善现有技术的问题中的至少一个。
[0021]注意，上述效果的记载并不妨碍其他效果的存在。本专利技术的一个方式不一定需要具有所有上述效果。可以从说明书、附图、权利要求书等的记载中抽取上述效果以外的效果。附图简要说明
[0022]图1A至图1D是示出显示装置的结构例子的图。图2A至图2E是示出显示装置的制造方法例子的图。图3A至图3D是示出显示装置的制本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种显示装置的制造方法，包括如下工序：在第一像素电极及第二像素电极上沉积第一EL膜的第一工序；以覆盖所述第一EL膜的方式形成第一牺牲膜的第二工序；对所述第一牺牲膜及所述第一EL膜进行蚀刻来使所述第二像素电极露出且形成所述第一像素电极上的第一EL层及所述第一EL层上的第一牺牲层的第三工序；在所述第一牺牲层及所述第二像素电极上沉积第二EL膜的第四工序；以覆盖所述第二EL膜的方式形成第二牺牲膜的第五工序；对所述第二牺牲膜及所述第二EL膜进行蚀刻来使所述第一牺牲层露出且形成所述第二像素电极上的第二EL层及所述第二EL层上的第二牺牲层的第六工序；去除所述第一牺牲层及所述第二牺牲层的第七工序；以及使所述第一EL层及所述第二EL层干燥的第八工序，其中，所述第一EL膜及所述第二EL膜通过干蚀刻被蚀刻，并且，所述第一牺牲层及所述第二牺牲层通过湿蚀刻被去除。2.根据权利要求1所述的显示装置的制造方法，其中所述第一牺牲膜包含溶解于水或醇的树脂材料，在所述第三工序中，所述第一牺牲膜及所述第一EL膜通过在含氧气氛下进行的干蚀刻被连续地蚀刻，并且在所述第七工序中，所述第一牺牲层及所述第二牺牲层通过溶解于水或醇来去除。3.根据权利要求1所述的显示装置的制造方法，其中所述第一牺牲膜包括金属膜、合金膜、金属氧化物膜、半导体膜或无机绝缘膜，在所述第三工序中，所述第一EL膜通过使用主要成分中不包含氧的蚀刻气体的干蚀刻被蚀刻，并且在所述第七工序中，所述第一牺牲层及所述第二牺牲层通过使用四甲基氢氧化铵水溶液、稀氢氟酸、草酸、磷酸、醋酸、硝酸或它们的混合液体的湿蚀刻被去除。4.根据权利要求1或3所述的显示装置的制造方法，在所述第二工序与所述第三工序之间还包括形成硬掩模...

【专利技术属性】
技术研发人员：中村太纪，青山智哉，中泽安孝，佐藤来，保本清治，荻野清文，白石孝，
申请(专利权)人：株式会社半导体能源研究所，
类型：发明
国别省市：