【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种光助电化学刻蚀装置，包括盛装反应溶液（１６）的反应槽（９）、用于反应溶液循环的耐酸泵（１２）、与直流电源（１５）相连的网孔阴极（６）和环形阳极（５）、反应槽（９）下方与放置在网孔阴极（６）和环形阳极（５）之间刻蚀的硅片（４）相对应的卤素灯阵列（１）、设置在卤素灯阵列（１）与硅片（４）之间红外截止滤光片（３），其特征在于：在反应槽（９）外套装有盛装透光的冷却液（１７）的降温槽（１０），降温槽（１０）侧壁上设有冷却液输入管（２０）和冷却液输出管（１８），降温槽（１０）的底面与环形阳极（５）对应的位置设有可透过卤素灯光的透光窗（２），耐酸泵输出管（１３）的输出端连接有用于硅片（４）上方反应溶液（１６）循环的花洒式冲刷机构。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：赵志刚，牛憨笨，郭金川，
申请(专利权)人：深圳大学，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]
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