基于二脲-二脲烷的触变组合物制造技术

本发明专利技术涉及包含二脲

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基于二脲
‑
二脲烷的触变组合物


[0001]本专利技术涉及包含一种或多种二脲
‑
二脲烷化合物和非质子溶剂的触变组合物，其制备工艺，以及其作为流变剂、特别是作为触变剂的用途，尤其是在粘合剂组合物中的用途。

技术介绍

[0002]二脲
‑
二脲烷化合物已被称为有机凝胶剂，也就是说，即使在相对较低的重量浓度(小于1％重量)下也能够使所有种类的有机溶剂凝胶化的小有机分子，或者被称为流变添加剂，也就是说使得可改变应用配制物(formulation,制剂)的流变性的添加剂。例如，它们使得可获得触变或假塑性效应。
[0003]液体形式的触变剂特别有价值，因为它们可容易地纳入配制物中，特别是水性涂料配制物中。
[0004]US 4 314 924描述了这样的触变组合物，其包含二脲
‑
二脲烷在非质子溶剂中的溶液和每脲基0.1至2摩尔的LiCl。LiCl用于使组合物稳定化。然而，当将该组合物应用于金属基材时，这种锂盐的存在可引起腐蚀问题，并且由于其路易斯酸性，可产生不受控制的实体本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.触变组合物，其包含式(I)的化合物或式(I)的化合物与非质子溶剂的混合物：[化学式26]其中：各R
’
独立地选自烷基、烯基、环烷基、芳基、芳烷基、
·
‑
[(CR
a
R
b
)
n
‑
O]
m
‑
Y和
·
‑
[(CR
c
R
d
)
p
‑
C(＝O)O]
q
‑
Z；符号
·
表示与式(I)的脲烷基团的连接点；各R2独立地为选自脂族基团、脂环族基团、芳族基团和芳脂族基团的二价基团；各R3独立地为选自脂族基团、脂环族基团、芳族基团、芳脂族基团和杂环基团的二价基团；Y和Z独立地选自烷基、烯基、环烷基、芳基和芳烷基；R
a
、R
b
、R
c
和R
d
独立地选自H和甲基，特别是H；各n独立地等于2、3或4，特别地n为2；m范围为1至30，特别地m范围为2至25；p范围为3至5，特别地p为5；q范围为1至20，特别地q范围为2至10；其特征在于，在排除非质子溶剂的情况下，所述组合物含有小于0.1摩尔盐/所述组合物中脲基。2.根据权利要求1所述的触变组合物，其特征在于，在排除非质子溶剂的情况下，所述组合物含有0至小于0.1摩尔、或0至0.09摩尔、或0至0.07摩尔、或0至0.05摩尔、或0至0.03摩尔、或0至0.01摩尔、或0至0.01摩尔盐/所述组合物中脲基。3.根据权利要求1或2所述的触变组合物，其特征在于，所述盐选自金属盐、离子液体和铵盐；特别地，所述盐是选自卤化物、乙酸盐、甲酸盐或硝酸盐的金属盐；更特别地，所述盐是锂盐；仍更特别地，所述盐是选自LiCl、LiNO3、LiBr及其混合物的锂盐。4.根据权利要求1至3中任一项所述的触变组合物，其特征在于，所述组合物含有小于0.1摩尔表面活性剂/所述组合物中脲基。5.根据权利要求1至4中任一项所述的触变组合物，其特征在于，所述触变组合物的NCO值小于0.5mg KOH/g、特别地小于0.2mg KOH/g、更特别地小于0.1mg KOH/g、仍更特别地0mg KOH/g。6.根据权利要求1至5中任一项所述的触变组合物，其特征在于，在排除非质子溶剂的情况下，相对于具有一个或多个选自脲、脲烷及其混合物的官能团的化合物的总摩尔量计，所述组合物包含按摩尔计5％至80％、特别地15％至75％、更特别地25％至65％的式(I)的化合物。7.根据权利要求1至6中任一项所述的触变组合物，其特征在于，所述组合物另外包含至少一种式(II)的化合物：[化学式27]
其中：R
’
和R2如权利要求1中所定义。8.根据权利要求7所述的触变组合物，其特征在于，在排除非质子溶剂的情况下，相对于具有一个或多个选自脲、脲烷及其混合物的官能团的化合物的总摩尔量，所述触变组合物包含按摩尔计20％至95％、特别地25％至85％、更特别地35％至75％的式(II)的化合物。9.根据权利要求1至8中任一项所述的触变组合物，其特征在于，各R
’
独立地选自烷基和
·
‑
[(CR
a
R
b
)
n
‑
O]
m
‑
Y；特别地，各R
’
独立地选自线型或支化的C1‑
C
30
烷基和
·
‑
[CH2‑
CH2‑
O]
m
‑
Y，其中Y是C1‑
C
24
烷基，并且m范围为1
‑
25；更特别地，各R
’
独立地选自支化的C8‑
C
20
烷基和
·
‑
[CH2‑
CH2‑
O]
m
‑
Y，其中Y是C1‑
C6烷基并且m范围为2至20。10.根据权利要求1至9中任一项所述的触变组合物，其特征在于，所述组合物包含式(I)的化合物，其中R
’
基团相同。11.根据权利要求10所述的触变组合物，其特征在于，所述R
’
基团相同并且对应于R1；R1是线型或支化的C1‑
C
30
烷基、特别是线型或支化的C8‑
C
20
烷基，更特别是支化的C8‑
C
20
烷基。12.根据权利要求1至9中任一项所述的触变组合物，其特征在于，所述组合物包含式(I)的化合物的混合物，所述混合物包含其中R
’
基团不同的至少一种式(I)的化合物；特别地，式(I)的化合物的混合物含有：
‑
其中R
’
基团不同的至少一种式(I)的化合物，R
’
基团中的一个对应于R4，另一个R
’
基团对应于R5；
‑
任选地其中R
’
基团相同并对应于R4的式(I)的化合物；
‑
任选地其中R
’
基团相同并对应于R5的式(I)的化合物；R4和R5如权利要求1或9中对于R
’
所定义。13.根据权利要求12所述的触变组合物，其特征在于，所述式(I)的化合物的混合物含有其中R
’
基团具有不同分子量的至少一种式(I)的化合物；特别地，所述混合物含有如下的至少一种式(I)的化合物：其中R
’
基团不同，所述R
’
基团中的一个对应于R4，并且另一个R
’
基团对应于R5，R4的分子量低于R5的分子量；更特别地，R4的分子量和R5的分子量之间的差值为至少50、至少100、至少150、至少200、至少300或至少350g/mol；仍更特别地，R4和R5基团是具有不同分子量的
·
‑
[(CR
a
R
b
)
n
‑
O]
m
‑
Y基团。14.根据权利要求12或13所述的触变组合物，其特征在于，所述式(I)的化合物的混合物含有如下的至少一种式(I)的化合物：其中R
’
基团具有不同的化学性质，特别是亲水性；特别地，所述混合物含有如下的至少一种式(I)的化合物：其中R
’
基团不同，所述R
’
基团中的一个对应于R4，并且另一个R
’
基团对应于R5，所述R4基团比R5更疏水；更特别地，R4是线型或支化的C1‑
C
30
烷基，并且R5是
·
‑
[(CR
a
R
b
)
n
‑
O]
m
‑
Y基团。15.根据权利要求1至14中任一项所述的触变组合物，其特征在于，所述式(I)的化合物的混合物含有其中R
’
基团不同的至少两种不同的式(I)的化合物；特别地，所述式(I)的化合物的混合物含有：
‑
如下的至少一种式(I)的化合物：其中R
’
基团不同，所述R
’
基团中的一个对应于R4，另一个R
’
基团对应于R5；和
‑
如下的至少一种式(I)的化合物：其中R
’
基团不同，所述R
’
基团中的一个对应于R4，另一个R
’
基团对应于R6；
‑
任选地如下的式(I)的化合物，其中R
’
基团不同，所述R
’
基团中的一个对应于R5，另一个R
’
基团对应于R6；
‑
任选地其中R
’
基团相同并对应于R4的式(I)的化合物；
‑
任选地其中R
’
基团相同并对应于R5的式(I)的化合物；
‑
任选地其中R
’
基团相同并对应于R6的式(I)的化合物；R4、R5和R6如上文对于R
’
所定义。16.根据权利要求15所述的触变组合物，其特征在于，所述式(I)的化合物的混合物含有其中R
’
基团具有不同分子量的至少两种不同的式(I)的化合物；特别地，所述混合物包含：
‑
如下的至少一种式(I)的化合物：其中R
’
基团不同，所述R
’
基团中的一个对应于R4，另一个R
’
基团对应于R5；
‑
如下的至少一种式(I)的化合物：其中R
’
基团不同，所述R
’
基团中的一个对应于R4，另一个R
’
基团对应于R6；R4、R5和R6的分子量是不同的；特别地，R5和R6基团是具有不同分子量的
·
‑
[(CR
a
R
b
)
n
‑
O]
m
‑
Y基团；更特别地，R5的分子量与R6的分子量的差值为至少50、至少100、至少150、至少200、至少300或至少350g/mol。17.根据权利要求15或16所述的触变组合物，其特征在于，所述式(I)的化合物的混合物含有如下的至少两种不同的式(I)的化合物，其中R
’
基团具有不同的化学性质，特别是亲水性；特别地，所述混合物包含：
‑
如下的至少一种式(I)的化合物：其中R
’
基团不同，所述R
’
基团中的一个对应于R4，另一个R
’
基团对应于R5；
‑
如下的至少一种式(I)的化合物：其中R
’
基团不同，所述R
’
基团中的一个对应于R4，另一个R
’
基团对应于R6；R4比R5和R6基团更疏水；更特别地，R4是线型或支化的C1‑
C
30
烷基，并且R5和R6是
·
‑
[(CR
a
R
b
)
n
‑
O]
m
‑
Y基团。18.根据权利要求1至17中任一项所述的触变组合物，其特征在于，式(I)的化合物中所含的所有R
’
基团中的大于20摩尔％、特别地25摩尔％至95摩尔％、30摩尔％至90摩尔％、35摩尔％至85摩尔％、或40摩尔％至80摩尔％是亲水性基团，特别是
·
‑
[(CR
a
R
b
)
n
‑
O]
m
‑
Y基团。19.根据权利要求1至18中任一项所述的触变组合物，其特征在于，各R2独立地为芳族基团；特别是具有下式的芳族基团：[化学式28]
更特别是根据下式之一的芳族基团：[化学式29]其中符号
·
表示与式(I)的脲或脲烷基团的连接点；仍更特别是根据下式之一的芳族基团：[化学式30]其中符号
★
表示与式(I)的脲烷基团的连接点并且符号
╪
表示与式(I)的脲基的连接点。20.根据权利要求1至19中任一项所述的触变组合物，其特征在于，式(I)的化合物中所含的所有R2基团中的大于85摩尔％、大于90摩尔％、大于95摩尔％、大于97...

【专利技术属性】
技术研发人员：D，
申请(专利权)人：阿科玛法国公司，
类型：发明
国别省市：