一种手表TP大气等离子清洗用保护结构制造技术

本实用新型专利技术涉及3C手表手环生产技术领域，具体为一种手表TP大气等离子清洗用保护结构，包括产品治具以及产品治具的输送护板，所述输送护板设置有两组，所述输送护板的一侧安装有输送电机，所述输送护板的另一侧设置有TP板的输送结构，两个所述输送护板的一侧均滑动连接有顶升板，所述输送护板的一侧安装有驱动顶升板升降的升降气缸；本实用新型专利技术通过设置能够升降的遮挡板，在等离子处理过程中，能够通过遮挡板轻压TP板上方对TP板贴合，能够保护TP非处理位置不被灼伤，遮挡板的上表面开设有与清洗轨迹一致的让位通槽，不影响等离子清洗；未加该装置之前灼伤损坏率高达80％，增加后能保证99.9％产品不被灼伤。99.9％产品不被灼伤。99.9％产品不被灼伤。

【技术实现步骤摘要】
一种手表TP大气等离子清洗用保护结构


[0001]本技术涉及3C手表手环生产
，具体为一种手表TP大气等离子清洗用保护结构。

技术介绍

[0002]目前手表手环自动化生产等离子清洗过程中，容易造成手表TP非处理区域的其他元器件被等离子灼伤，以及反面AF涂层被打伤，导致成产品质不良。
[0003]在中国专利CN203631506U中公开了一种清洗装置，用于对晶圆进行清洗，所述装置包括混合单元、与所述混合单元相连的第一管路、第二管路以及混合管路，其中所述混合管路还连接一喷头，所述喷头与所述晶圆正对，所述喷头与晶圆之间设有可活动的遮挡盘。在喷头与晶圆之间设置一可活动的遮挡盘，在进行喷等离子水或者氮气之前先使用遮挡盘对等离子水或氮气进行遮挡，直至混合单元将氮气和等离子水制作成高压水雾之后再移去遮挡盘，使高压水雾直接喷至晶圆的表面，进行清洗，防止等离子水或者氮气直接喷在晶圆的表面，减少静电的形成，避免对晶圆造成损伤。
[0004]该装置通过在喷头的底部安装可移动挡板，实现对产品遮挡，但对于手表手环TP屏小体积产品，该结构使挡板不能与本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种手表TP大气等离子清洗用保护结构，其特征在于：包括产品治具(1)以及产品治具(1)的输送护板(2)，所述输送护板(2)设置有两组，所述输送护板(2)的一侧安装有输送电机(3)，所述输送护板(2)的另一侧设置有TP板的输送结构(4)，两个所述输送护板(2)的一侧均滑动连接有顶升板(5)，所述输送护板(2)的一侧安装有驱动顶升板(5)升降的升降气缸(6)，两个所述顶升板(5)之间设置有遮挡板(7)以及遮挡板(7)的安装结构(8)，所述遮挡板(7)的下方设置有侧定位机构(9)，两个所述输送护板(2)之间安装有挡料气缸(10)。2.根据权利要求1所述的一种手表TP大气等离子清洗用保护结构，其特征在于：所述安装结构(8)包括顶升连杆(801)，所述顶升连杆(801)设置有四个，所述顶升连杆(801)的一端固定在顶升板(5)的上表面，所述顶升连杆(801)的另一端固定有支撑横杆(802)，所述支撑横杆(802)设置有两个，所述遮挡板(7)...

【专利技术属性】
技术研发人员：李南杰，孙俊，
申请(专利权)人：东莞市晟鼎精密仪器有限公司，
类型：新型
国别省市：