电子平衡帽套件制造技术

本实用新型专利技术涉及电子平衡帽套件，包括不同形状的多个电子平衡帽，多个电子平衡帽的厚度分别不同，电子平衡帽套设在指形电离室探测器的整个外壁上，指形电离室探测器用于测量X射线束流强度，电子平衡帽包括：探测器腔，用于容纳所述指形电离室；平衡体，顶端部为球形，并包裹探测器腔的上端部；以及支撑体，圆筒形且覆盖所述探测器腔的未被平衡体包裹的部分的外壁，厚度是平衡体的厚度，不同形状的多个电子平衡帽包含平衡体与支撑体的外径大小关系不同的电子平衡帽。通过使用本实用新型专利技术的电子平衡帽套件，能够保证各种平衡帽的机械强度的情况下，测量更多的能量范围的X射线束流。测量更多的能量范围的X射线束流。测量更多的能量范围的X射线束流。

【技术实现步骤摘要】
电子平衡帽套件


[0001]本技术涉及X射线束流强度测量领域，具体涉及用于测量X射线束流强度的指形电离室的电子平衡帽套件。

技术介绍

[0002]在核技术应用领域，随着辐射成像安检设备的广泛应用，由于X射线束流强度的准确测量，能够为辐射防护设计、辐射安全分析、辐射成像指标计算等实践活动提供准确数据，从而显得越来越重要。
[0003]在实际应用过程中，X射线束流强度的常用测量手段是利用指形电离室测量束流的照射量或比释动能，其准确测量要求保证电子平衡。根据X射线能量不同，通常在指形电离室壁外壁上套设一层某一厚度的空气等效固体材料(例如，石墨、塑料、树脂等)来实现电子平衡，这层空气等效固体材料称为电子平衡帽(简称，平衡帽)。
[0004]目前市场上辐射成像安检设备的能量跨度大、能量分级多，从100keV到15MeV各种X射线能量达几十种，单一或简单几种厚度的平衡帽已不能满足准确测量的要求。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于，提供能够使得指形电离室类型的探测器在较宽能量范围内测量X射线束流强度的电子平衡帽套件。
[0006]本技术的一个方面提供一种电子平衡帽套件，其中，包括不同形状的多个电子平衡帽，多个电子平衡帽的厚度分别不同，电子平衡帽套设在指形电离室探测器的整个外壁上，指形电离室探测器用于测量X射线束流强度电子平衡帽包括：探测器腔，用于容纳所述指形电离室；平衡体，顶端部为球形，并包裹所述探测器腔的上端部；以及支撑体，圆筒形且覆盖所述探测器腔的未被平衡体包裹的部分的外壁，所述厚度是所述平衡体的厚度，不同形状的多个电子平衡帽包含所述平衡体与所述支撑体的外径大小关系不同的电子平衡帽。
[0007]在上述的电子平衡帽套件中，指形电离室探测器包括指形电离室和探测器支撑体，指形电离室的直径小于探测器支撑体的直径。
[0008]在上述的电子平衡帽套件中，在多个电子平衡帽的一部分中，平衡体和支撑体的外径不同。
[0009]在上述的电子平衡帽套件中，包括：C型平衡帽，平衡体的外径小于支撑体的外径。
[0010]在上述的电子平衡帽套件中，还包括：B型平衡帽，平衡体的外径大于支撑体的外径。
[0011]在上述的电子平衡帽套件中，B型平衡帽在轴向上不仅覆盖指形电离室，还覆盖探测器支撑体的一部分。
[0012]在上述的电子平衡帽套件中，电子平衡帽由有机玻璃制成。
[0013]在上述的电子平衡帽套件中，还包括：A型平衡帽，平衡体和支撑体的外径相同。
[0014]在上述的电子平衡帽套件中，A型平衡帽、B型平衡帽、C型平衡帽的整体的厚度范围在1～32mm。
[0015]在上述的电子平衡帽套件中，A型平衡帽的厚度范围在1～3mm；B型平衡帽的厚度范围在4～11mm；C型平衡帽的厚度范围在12～32mm。
[0016]在上述的电子平衡帽套件中，A型平衡帽、B型平衡帽、C型平衡帽的平衡体的顶端部的半径范围在5～36mm。
[0017]在上述的电子平衡帽套件中，A型平衡帽的半径范围在5～7mm；B型平衡帽的半径范围在8～15mm；C型平衡帽的半径范围在16～36mm。
[0018]在上述的电子平衡帽套件中，不同形状和不同厚度的多个电子平衡帽分别用于测量不同能量的X射线束流强度。
[0019]通过使用本技术的电子平衡帽套件，能够保证各种类的平衡帽的机械强度的情况下，准确测量更多能量范围的X射线束流。
附图说明
[0020]图1是示出本技术的A型平衡帽的剖视图；
[0021]图2是示出本技术的B型平衡帽的剖视图；
[0022]图3是示出本技术的C型平衡帽的剖视图；
[0023]图4是示出验证实验中6MV加速器输出剂量率随平衡帽厚度变化曲线的曲线图。
具体实施方式
[0024]下面将详细描述本申请的各个方面的特征和示例性实施例，为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及具体实施例，对本申请进行进一步详细描述。应理解，此处所描述的具体实施例仅意在解释本申请，而不是限定本申请。对于本领域技术人员来说，本申请可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本申请的示例来提供对本申请更好的理解。
[0025]需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括
……”
限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
[0026]在本技术中，电子平衡帽套件包括不同形状和不同厚度的多个电子平衡帽。其中，电子平衡帽套设在用于测量X射线束流强度的指形电离室探测器的整个外壁上。
[0027]如图1～图3所示，本技术中的电子平衡帽套件包括A型平衡帽、B型平衡帽、C型平衡帽，该A型平衡帽、B型平衡帽、C型平衡帽的形状和厚度不同。
[0028]图1是示出本技术的A型平衡帽的剖视图。图2是示出本技术的B型平衡帽的剖视图。图3是示出本技术的C型平衡帽的剖视图。
[0029]A型平衡帽、B型平衡帽、C型平衡帽均包括：探测器腔1、平衡体2、支撑体3。
[0030]其中，探测器腔1用于容纳指形电离室探测器。换言之，探测器腔1是用于容纳指形电离室探测器的空间，其形状与指形电离室探测器的形状相匹配。在图1～图3中探测器腔1的轴线沿上下方向配置，径向沿左右方向配置。
[0031]探测器腔1的外部的上下部分分别被平衡体2和支撑体3覆盖。
[0032]具体来说，平衡体2的顶端部为球形，并包裹探测器腔1的上端部。即，平衡体2包括球形的顶端部和圆筒部，其中，球形的顶端部覆盖探测器腔1的顶端，而圆筒部覆盖探测器腔1的上端部的外壁。所述球形的顶端部和圆筒部的半径相同。换言之，球形的顶端部与圆筒部之间是平滑连接的。
[0033]支撑体3为圆筒形，覆盖探测器腔1中的未被平衡体2包裹的部分的外壁。
[0034]不同形状的平衡帽可以包括平衡体2与支撑体3的外径大小关系分别不同的平衡帽。例如，平衡体2和支撑体3的外径相同的A型平衡帽、平衡体2的外径大于支撑体3的外径的B型平衡帽、以及平衡体2的外径小于支撑体3的外径的C型平衡帽。
[0035]A型平衡帽、B型平衡帽、C型平衡帽还可以包括：透气孔4和固定螺纹5。
[0036]透气孔4用于对探测器腔1和指形电离室探测器之间的气压进行调节。
[0037]固定螺纹5用本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种电子平衡帽套件，其中，包括不同形状的多个电子平衡帽，所述多个电子平衡帽的厚度分别不同，所述电子平衡帽套设在指形电离室探测器的整个外壁上，所述指形电离室探测器用于测量X射线束流强度，所述电子平衡帽包括：探测器腔，用于容纳所述指形电离室；平衡体，顶端部为球形，并包裹所述探测器腔的上端部；以及支撑体，圆筒形且覆盖所述探测器腔的未被平衡体包裹的部分的外壁，所述厚度是所述平衡体的厚度，不同形状的多个电子平衡帽包含所述平衡体与所述支撑体的外径大小关系不同的电子平衡帽。2.如权利要求1所述的电子平衡帽套件，其中，所述指形电离室探测器包括指形电离室和探测器支撑体，所述指形电离室的直径小于所述探测器支撑体的直径。3.如权利要求2所述的电子平衡帽套件，其中，在所述多个电子平衡帽的一部分中，所述平衡体和所述支撑体的外径不同。4.如权利要求3所述的电子平衡帽套件，其中，包括：C型平衡帽，所述平衡体的外径小于所述支撑体的外径。5.如权利要求4所述的电子平衡帽套件，其中，还包括：B型平衡帽，所述平衡体的外径大于所述支撑体的外径。6.如权利要求5所述的电子平衡帽套件，其中，所述B型平衡帽在轴向上不仅覆盖所述指形电离室，还覆盖所述探测器支...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡玉新，阮明，朱国平，郭越，邢金龙，凌松云，
申请(专利权)人：同方威视技术股份有限公司，
类型：新型
国别省市：