【技术实现步骤摘要】
像素单元结构的操作方法、装置、设备及介质
[0001]本公开涉及图像传感器
和半导体器件
,尤其涉及一种像素单元结构的操作方法、装置、设备及介质。
技术介绍
[0002]基于超薄体和掩埋氧化物(UTBB)工艺技术的四端晶体管是一种新兴的光电传感器件,能够在单个晶体管内就完成传统CMOS图像传感器像素电路的感光、存储、读出等功能,从而可以实现更高硬件集成度和更低功耗开销的UTBB图像传感器。图像传感器的理想光强响应在常数坐标下为对数曲线,但基于传统操作方法得到的UTBB图像传感器的光强响应曲线在宽光强范围内呈现典型的线性
‑
对数(Linear
‑
Logarithmic)特征,与理想光强响应曲线有着较大差异,因而拍摄图像时的细节、层次、特性较差,难以提升UTBB图像传感器在高动态范围内的成像效果。
技术实现思路
[0003](一)要解决的技术问题
[0004]为解决现有技术存在的上述技术问题至少之一,本公开实施例提供了一种像素单元结构的操作方法、装置、设备及 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种像素单元结构的操作方法,其中,包括:确定所述像素单元结构的初始态;基于所述初始态,根据设定曝光操作规则对所述像素单元结构执行N个连续的子曝光操作,其中N为正整数,且N≥2;以及响应于所述N个连续的子曝光操作,读出所述像素单元结构的输出电流。2.根据权利要求1所述的像素单元结构的操作方法,其中,在所述确定所述像素单元结构的初始态中,包括:控制所述像素单元结构的栅极电压、漏极电压、源极电压和阱电压为0,以确定所述初始态;或者向所述像素单元结构施加栅极电压V
G开
和漏极电压V
D开
,同时控制所述像素单元结构的源极电压和阱电压为0,以确定所述初始态。3.根据权利要求1所述的像素单元结构的操作方法,其中,在所述基于所述初始态,根据设定曝光操作规则对所述像素单元结构执行N个连续的子曝光操作中,包括:根据设定曝光操作规则,在所述N个连续的子曝光操作中的第一子曝光周期T1中向所述像素单元结构施加第一阱电压V
B1
,在所述N个连续的子曝光操作中的第二子曝光周期T2中向所述像素单元结构施加第二阱电压V
B2
,
…
,直至在所述N个连续的子曝光操作中的第N子曝光周期TN中向所述像素单元结构施加第N阱电压V
BN
。4.根据权利要求3所述的像素单元结构的操作方法,其中,在所述基于所述初始态,根据设定曝光操作规则对所述像素单元结构执行N个连续的子曝光操作中,还包括:控制所述像素单元结构的栅极电压、漏极电压和源极电压为0,以完成所述N个连续的子曝光操作的执行;或者保持所述像素单元结构的栅极电压V
G开
和漏极电压V
D开,,
,同时控制所述像素单元结构的源极电压为0,以完成所述N个连续的子曝光操作的执行。5.根据权利要求3所述的像素单元结构的操作方法,其中,第一子曝光周期T1、第二子曝光周期T2、
…<...
【专利技术属性】
技术研发人员:周正,李嘉琦,于贵海,刘晓彦,康晋锋,黄鹏,
申请(专利权)人:北京大学,
类型:发明
国别省市:
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