气体分析方法技术

提供能够降低在气室内存在的水的影响从而以高精度分析试样气体中的杂质的气体分析方法。一种气体分析方法，是分析在试样气体中含有的杂质的方法，具备前处理工序和分析工序，在所述前处理工序中，将要被导入试样气体的气室(10)内的水的分压降低至10Pa以下，在所述分析工序中，向实施了前处理工序的气室(10)内导入试样气体，采用拉曼光谱法检测杂质。采用拉曼光谱法检测杂质。采用拉曼光谱法检测杂质。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】气体分析方法


[0001]本专利技术涉及气体分析方法。

技术介绍

[0002]作为分析气体中的杂质的方法，有向在气室(gas cell)中封入或流通的试样气体照射激光并进行分析的方法(例如参照专利文献1)。
[0003]在先技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本国专利公开公报2005年第140558号

技术实现思路

[0006]然而，在专利文献1所公开的气体分析方法中，在气室内存在水且作为分析对象的杂质能够与水进行反应的情况下，在分析中杂质与水的反应进行，有可能分析精度降低。
[0007]本专利技术的课题是提供能够降低存在于气室内的水的影响从而高精度地分析试样气体中的杂质的气体分析方法。
[0008]为了解决上述课题，本专利技术的一方式如以下的[1]～[4]所述。
[0009][1]一种气体分析方法，是分析在试样气体中含有的杂质的方法，具备前处理工序和分析工序，
[0010]在所述前处理工序中，将要被导入所述试样气体的气室内的水的分压降低至10Pa以下，
[0011]在所述分析工序中，向实施了所述前处理工序的所述气室内导入所述试样气体，采用拉曼光谱法检测所述杂质。
[0012][2]根据[1]所述的气体分析方法，所述前处理工序是将所述气室内用干燥气体进行清洗(purge)的工序。
[0013][3]根据[1]或[2]所述的气体分析方法，所述杂质为氟气、氯气、溴气、氟化氢、氯化氢、溴化氢、水和二氧化碳之中的至少一种。
[0014][4]根据[1]～[3]的任一项所述的气体分析方法，所述试样气体为含有氟化合物、氯化合物和溴化合物之中的至少一种的气体。
[0015]根据本专利技术，能够降低在气室内存在的水的影响从而以高精度分析试样气体中的杂质。
附图说明
[0016]图1是说明本专利技术涉及的气体分析方法的一实施方式的气体分析装置的一例的示意图。
具体实施方式
[0017]以下，说明本专利技术的一实施方式。再者，本实施方式示出本专利技术的一例，本专利技术并不限定于本实施方式。另外，能够对本实施方式施以各种的变更或改良，实施了那样的变更或改良后的方式也会包含在本专利技术中。
[0018]本实施方式涉及的气体分析方法，是分析在试样气体中含有的杂质的方法，具备前处理工序和分析工序，在所述前处理工序中，将要被导入试样气体的气室内的水(H2O)的分压降低至10Pa以下，在所述分析工序中，向实施了前处理工序的气室内导入试样气体，采用拉曼光谱法检测杂质。
[0019]在气室内存在水且作为分析对象的杂质能够与水进行反应的情况下，在分析中杂质与水的反应进行，有可能杂质的分析精度降低、检测出杂质与水的反应生成物等等。例如，担忧在气室内存在的空气中所含有的水对分析结果给予影响。但是，根据本实施方式涉及的气体分析方法，由于通过前处理工序降低存在于气室内的水的量，因此能够降低水对分析结果给予的影响并以高精度分析试样气体中的杂质。
[0020]例如，既能够以高精度进行判定试样气体中有无杂质的定性分析，也能够以高精度进行测定试样气体中的杂质的量的定量分析。
[0021]另外，前处理工序是对气室内的空间进行的处理，由于只要对小的容积进行处理即可，因此处理容易，且不需要多的时间。
[0022]特别是不需要对选自激发光的光路和拉曼散射光的光路中的至少一方的光路实施降低水的分压的工序，因此不需要用于收纳激发光的光路、拉曼散射光的光路的密闭容器、以及用于降低该密闭容器内的水分的高纯度清洗气体供给源。即，本专利技术能够有效利用气室以外的光路中的水的存在对分析几乎没有影响这一优点，采用简化的装置来抑制高价格的高纯度清洗气体的使用量并且谋求分析精度的稳定化。
[0023]而且，在试样气体中含有氯气(Cl2)等的卤素、氯化氢(HCl)等的卤化氢的情况下，如果在气室内存在水，则不仅对卤素、卤化氢的分析结果产生影响，而且有可能气室的腐蚀进行。但是，如果是本实施方式涉及的气体分析方法，则由于通过前处理工序降低了存在于气室内的水的量，因此即使是在试样气体中含有卤素、卤化氢的情况也难以产生气室的腐蚀。
[0024]接着，一边参照图1，一边说明能够实施本实施方式涉及的气体分析方法的气体分析装置的构成的一例、和使用该气体分析装置的气体分析方法的一例。图1的气体分析装置是通过将气室内用干燥气体进行清洗来进行前处理工序的气体分析装置。首先，对图1的气体分析装置进行说明。
[0025]图1的气体分析装置具备：气室10，其被导入作为分析对象的试样气体；光源11，其向气室10内的试样气体照射作为激发光的激光；检测器12，其检测通过向试样气体照射激发光而产生的拉曼散射光；以及，排气用配管13，其用于从气室10排出试样气体等气体。
[0026]另外，图1的气体分析装置具备：试样气体供给源1，其向气室10的内部供给试样气体；干燥气体供给源2，其向气室10的内部供给干燥气体；试样气体供给用配管5，其将试样气体供给源1和气室10连接；以及，干燥气体供给用配管6，其将干燥气体供给源2和气室10连接。
[0027]而且，在试样气体供给用配管5设置有控制试样气体的流量的试样气体流量控制
装置3，在干燥气体供给用配管6设置有控制干燥气体的流量的干燥气体流量控制装置4。
[0028]在使用图1的气体分析装置进行试样气体的分析的情况下，首先实施前处理工序。即，从干燥气体供给源2经由干燥气体供给用配管6向气室10导入干燥气体，将气室10内用干燥气体进行清洗。干燥气体的流量通过干燥气体流量控制装置4来控制。如果气室10内的水的分压降低至10Pa以下，则结束干燥气体的导入。
[0029]前处理工序结束后，实施分析工序。即，从试样气体供给源1经由试样气体供给用配管5向气室10内导入试样气体。然后，向被封入到气室10内的状态的试样气体或者在气室10中流通着的状态的试样气体照射从光源11射出的激发光。从光源11射出的激发光从气室10的入射窗进入到气室10内从而对试样气体照射。
[0030]通过向试样气体照射激发光而产生的拉曼散射光，从气室10的出射窗向气室10外射出，由检测器12来检测，分析在试样气体中含有的杂质。
[0031]〔气室〕
[0032]气室10，在气室主体具备入射窗、出射窗、气体导入口、气体排出口等来被构成。入射窗、出射窗以外的气室主体的材质只要是不与试样气体反应的材质就没有特别限定，能够使用例如不锈钢、镍、因科内尔(inconel)(注册商标)、氟树脂(例如特氟龙(teflon)(注册商标))、石英、硼硅酸玻璃。
[0033]入射窗的材质只要是不吸收激发光且不与试样气体反应的材质就没有特别限定，能够使用例如氟化钙(CaF2)、溴化钾(KBr)、石英。出射窗的材质只要是不吸收拉曼散射光且不与试样气体反应的材质就没有特别限定，能够使用例如氟化钙、溴化钾、石英。
[0034][试样气本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种气体分析方法，是分析在试样气体中含有的杂质的方法，具备前处理工序和分析工序，在所述前处理工序中，将要被导入所述试样气体的气室内的水的分压降低至10Pa以下，在所述分析工序中，向实施了所述前处理工序的所述气室内导入所述试样气体，采用拉曼光谱法检测所述杂质。2.根据权利要求1所述的气体分析方法，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：铃木淳，
申请(专利权)人：株式会社力森诺科，
类型：发明
国别省市：