一种多层共挤膜的制备方法、膜及在TNT炸药自动包装上的应用技术

技术编号:38611008 阅读:11 留言:0更新日期:2023-08-26 23:39
本发明专利技术公开一种多层共挤膜的制备方法、膜及在TNT炸药自动包装上的应用。所述多层共挤膜包括三层结构,以聚丙烯和茂金属线型低密度聚乙烯作为多层共挤膜的外层原料,线性低密度聚乙烯、乙烯

【技术实现步骤摘要】
一种多层共挤膜的制备方法、膜及在TNT炸药自动包装上的应用


[0001]本专利技术涉及包装领域,具体提供了一种多层共挤膜的制备方法、膜及在TNT炸药自动包装上的应用。

技术介绍

[0002]炸药一般为能够快速地燃烧或分解的物质,在一定的外界能量的作用下,可以发生爆炸并在短时间内释放大量的能量,对周围环境产生破坏力。随着科技的进步,炸药不局限于在军事领域的应用,还可以被用于采矿、兴修水利、工程爆破等
基于对炸药的化学性质的考虑,对炸药的包装材料也有较高的要求,不仅要求包装材料具有良好的力学性能,对包装材料的防渗漏性、阻隔性和抗静电性也有较高的要求。
[0003]中国专利申请CN110802902A公开了一种应用于炸药包装的复合膜及其制备方法,所述复合膜包括上膜层、中膜层和下膜层,上膜层和下膜层均为PE膜,并通过涂覆复合粘合剂与中膜层的两面粘合,步骤包括:中膜层制备、复合粘合剂配制、一次涂覆贴合、一次熟化、二次涂覆贴合等,其中,中膜层为PET、PS和SEMS通过熔融纺丝制得,力学性能好,但是,熔融纺丝制得的中膜层,存在对气体阻隔性差的问题,且上膜层和下膜层的粘合需要分两步进行,耗时长,效率低。中国专利CN109968772B公开了一种PP/PE共挤高阻隔薄膜及其制备方法,所述薄膜包括三层结构,由外到内依次为:印刷层、阻隔层、热封层,其中,所述阻隔层原材料包括共聚聚丙烯、丙烯基弹性体、碳酸钙、钛白粉、合成硅石,制得的薄膜阻隔性能好,但是,薄膜的抗静电性能没有进行改善,不适合作为炸药的包装材料。
专利
技术实现思路

[0004]本专利技术针对现有技术的不足,提供一种多层共挤膜的制备方法、膜及在TNT炸药自动包装上的应用,来解决现有技术中的膜材料由于力学性能差,阻隔性低、抗静电性弱等原因而造成的不能作为炸药的包装材料的问题。
[0005]为了实现上述目的,本专利技术采用的技术方案如下:一种多层共挤膜的制备方法,包括以下步骤:S1、将烯基改性纳米二氧化硅、油酸酰胺、壬基酚聚氧乙烯醚硫酸铵、过硫酸铵与去离子水混合,搅拌,得到预乳液,取部分预乳液与去离子水混合,反应,得到种子乳液,将剩余的预乳液加入到种子乳液中,继续反应,反应后,过滤,得到烯基改性纳米二氧化硅

油酸酰胺共聚物;S2、将线性低密度聚乙烯(LLDPE)、马来酸酐混合,加热熔融后,加入二叔丁基过氧化物(DTBP),在惰性气体氛围中升温反应,反应后,挤出,冷却,切割,得到马来酸酐改性线性低密度聚乙烯;将马来酸酐改性线性低密度聚乙烯加入到四氢萘

DMAC

四氯乙烷混合溶剂中,搅拌至溶解,加入烯基改性纳米二氧化硅

油酸酰胺共聚物,反应后,沉淀,过滤,洗涤,干燥,得到改性线性低密度聚乙烯;
S3、将聚丙烯(PP)和茂金属线型低密度聚乙烯(mLLDPE)作为多层共挤膜的外层原料,熔融共混,得到外层熔体;将线性低密度聚乙烯、乙烯

辛烯共聚弹性体(POE)、茂金属线型低密度聚乙烯、纳米蒙脱土作为多层共挤膜的芯层原料,熔融共混,得到芯层熔体;将低密度聚乙烯(LDPE)、线性低密度聚乙烯、改性线性低密度聚乙烯作为多层共挤膜的内层原料,熔融共混,得到内层熔体;将外层熔体、芯层熔体、内层熔体经三层共挤挤出机挤出成型,得到多层共挤膜;所述多层共挤膜包括外层、芯层和内层。
[0006]优选地,所述S1中的烯基改性纳米二氧化硅,包括以下步骤制备而成:将纳米二氧化硅(SiO2)与γ

(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷加入到乙醇水溶液中,反应,反应后,过滤,干燥,得到烯基改性纳米二氧化硅。
[0007]优选地,纳米二氧化硅、γ

(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷、乙醇水溶液的质量比为60:(250

295):(1550

2000),反应条件为70

80℃反应4

5h。
[0008]优选地,所述S1中,烯基改性纳米二氧化硅、油酸酰胺、壬基酚聚氧乙烯醚硫酸铵、过硫酸铵与去离子水的质量比280:(285

300):(6

15):(3

7):(1695

2900),搅拌条件为55

65℃、300

500r/min的搅拌速度下搅拌2

4h,反应条件为55

65℃下反应0.5

1h,继续反应的条件为55

65℃下继续反应5

8h。
[0009]优选地,所述S1中,制备种子乳液时,部分预乳液与去离子水的质量比为(7

10):(100

200),部分预乳液占预乳液质量的10%

30%。
[0010]优选地,所述S2中,线性低密度聚乙烯、马来酸酐、二叔丁基过氧化物的质量比为1000:(60

80):(4

5),反应条件为150

160℃反应2

3h。
[0011]优选地,所述S2中,马来酸酐改性线性低密度聚乙烯、四氢萘

二甲基乙酰胺

四氯乙烷混合溶剂、烯基改性纳米二氧化硅

油酸酰胺共聚物的质量比为(1225

1635):(5000

7000):(565

580),反应条件为25

40℃下反应5

6h。
[0012]优选地,所述S3中,聚丙烯和茂金属线型低密度聚乙烯的质量比为(90

98):(2

10);线性低密度聚乙烯、乙烯

辛烯共聚弹性体、茂金属线型低密度聚乙烯、纳米蒙脱土的质量比为(78.5

95.5):(2

10):(2

10):(0.5

1.5);低密度聚乙烯、线性低密度聚乙烯、改性线性低密度聚乙烯的质量比为(10

30):(35

45):(35

45)。
[0013]优选地,本专利技术公开了一种采用上述的多层共挤膜的制备方法制备得到的膜。
[0014]与现有技术相比,本专利技术具有以下有益效果:本专利技术中的多层共挤膜包括三层结构,以聚丙烯和茂金属线型低密度聚乙烯作为多层共挤膜的外层原料,线性低密度聚乙烯、乙烯

辛烯共聚弹性体、茂金属线型低密度聚乙烯、纳米蒙脱土熔融共混作为多层共挤膜的芯层原料,低密度聚乙烯、线性低密度聚乙烯、改性线性低密度聚乙烯作为多层共挤膜的内层原料,外层原料、芯层原料、内层原料分别熔融后,经三层本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种多层共挤膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:S1、将烯基改性纳米二氧化硅、油酸酰胺、壬基酚聚氧乙烯醚硫酸铵、过硫酸铵与去离子水混合,搅拌,得到预乳液,取部分预乳液与去离子水混合,反应,得到种子乳液,将剩余的预乳液加入到种子乳液中,继续反应,反应后,过滤,得到烯基改性纳米二氧化硅

油酸酰胺共聚物;S2、将线性低密度聚乙烯、马来酸酐混合,加热熔融后,加入二叔丁基过氧化物,在惰性气体氛围中升温反应,反应后,挤出,冷却,切割,得到马来酸酐改性线性低密度聚乙烯;将马来酸酐改性线性低密度聚乙烯加入到四氢萘

DMAC

四氯乙烷混合溶剂中,搅拌至溶解,加入烯基改性纳米二氧化硅

油酸酰胺共聚物,反应,反应后,沉淀,过滤,洗涤,干燥,得到改性线性低密度聚乙烯;S3、将聚丙烯和茂金属线型低密度聚乙烯作为多层共挤膜的外层原料,熔融共混,得到外层熔体;将线性低密度聚乙烯、乙烯

辛烯共聚弹性体、茂金属线型低密度聚乙烯、纳米蒙脱土作为多层共挤膜的芯层原料,熔融共混,得到芯层熔体;将低密度聚乙烯、线性低密度聚乙烯、改性线性低密度聚乙烯作为多层共挤膜的内层原料,熔融共混,得到内层熔体;将外层熔体、芯层熔体、内层熔体经三层共挤挤出机挤出成型,得到多层共挤膜。2.根据权利要求1所述的一种多层共挤膜的制备方法,其特征在于,所述S1中的烯基改性纳米二氧化硅,包括以下步骤制备而成:将纳米二氧化硅与γ

(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷加入到乙醇水溶液中,反应,反应后,过滤,干燥,得到烯基改性纳米二氧化硅。3.根据权利要求2所述的一种多层共挤膜的制备方法,其特征在于,纳米二氧化硅、γ

(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷、乙醇水溶液的质量比为60:(250

295):(1550

2000),反应条件为70

80℃反应4

5h。4.根据权利要求1所述的一种多层共挤膜的制备方法,其特征在于,所述S1中,烯基改性纳米二氧化硅、油酸酰胺、壬基酚聚氧乙烯醚硫酸铵、过硫酸铵与去离子水的质量比280:(285

300):(6

15):(3

7):(1695

2900),搅拌条件为55

65℃、300

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【专利技术属性】
技术研发人员:李怀钊
申请(专利权)人:汕头市精塑包装材料有限公司
类型:发明
国别省市:

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